Очистка - экран
Cтраница 3
В Бейсике используется ряд удобных функций управления экраном и выводом текста. Среди этих функций необходимо прежде всего отметить команду CLS - очистку экрана. [31]
Способ реализации функции очистки экрана незначительно отличается от использованных в других программах, описанных ранее. Различие состоит лишь в размерах поля экрана, которое подлежит стиранию. Подпрограмма очистки экрана занимает строки 395 - 420 редактора VECED и выполняет ряд переприсвоений значений переменных, связанных с запоминанием образа символа. Эти переменные будут рассмотрены несколько позже. [32]
 |
Группы клавиш и соответствующие коды. [33] |
Строка 440 служит переключателем, который в зависимости от того, какая именно из клавиш Fl - F10 была нажата, передает управление соответствующей подпрограмме. Обратим внимание на переходы для клавиш F6 и F8, В первом случае устанавливается флажок выхода, после чего подпрограмма анализа заканчивается. Во втором перед завершением подпрограммы производится очистка экрана, а курсор переводится в исходную позицию, координаты которой заданы с учетом его размеров. [34]
Возможно, некоторые читатели были удивлены, прочитав, что в строке экрана помещается не 80, и 40 символов. Разбираясь с этим оператором, стоит также задуматься, почему программа заканчивается строкой WIDTH 80 вместо оператора очистки экрана CLS. Подскажем, что это связано с повторным выполнением программы. [35]
Основываясь на рентгеноструктурных и химических анализах, был рассчитан приближенный усредненный минералогический состав первоначальных отложений. Видно, что представленные составы отличаются друг от друга главным образом по содержанию сульфата кальция и сульфата калия. Такая большая разница в количествах CaSO4 и Кв8О4 в первоначальных отложениях и в подслое обусловлена влиянием времени и очисткой экранов. Так как возраст подслоя во много раз превышает возраст первоначальных отложений, то в подслое за счет сульфатизации свободной окиси кальция содержание CaSO4 больше. Немаловажную роль при этом играет и процесс очистки экранов. Во время очистки экранов из отложений удаляются те компоненты золы, которые менее сильно связываются с поверхностью. [36]
Нестационарность теплообмена ( непрерывное увеличение температуры газов на выходе из топки) при эффективной очистке экранов сохраняется лишь в промежутке между двумя очистками топки. Снижение тепловосприятия экранов в промежутке между двумя очередными очистками топки, как было показано выше ( см. гл. Основываясь на результатах исследования лучистого теплообмена в разных топках, можно утверждать, что тепло-восприятие экранов непосредственно после цикла очистки является более высоким, а в то же время падение кривых 7э - 7 ( т) происходит несколько интенсивнее в топках с более высокими теплонапряжениями поперечного сечения и угловым расположением горелок. Это в свою очередь предопределяет и необходимую частоту очистки. Кроме того, частота очистки экранов в условиях эксплуатации парогенератора зависит, несомненно, и от тепловой нагрузки агрегата. [37]
Основываясь на рентгеноструктурных и химических анализах, был рассчитан приближенный усредненный минералогический состав первоначальных отложений. Видно, что представленные составы отличаются друг от друга главным образом по содержанию сульфата кальция и сульфата калия. Такая большая разница в количествах CaSO4 и Кв8О4 в первоначальных отложениях и в подслое обусловлена влиянием времени и очисткой экранов. Так как возраст подслоя во много раз превышает возраст первоначальных отложений, то в подслое за счет сульфатизации свободной окиси кальция содержание CaSO4 больше. Немаловажную роль при этом играет и процесс очистки экранов. Во время очистки экранов из отложений удаляются те компоненты золы, которые менее сильно связываются с поверхностью. [38]
Основываясь на рентгеноструктурных и химических анализах, был рассчитан приближенный усредненный минералогический состав первоначальных отложений. Видно, что представленные составы отличаются друг от друга главным образом по содержанию сульфата кальция и сульфата калия. Такая большая разница в количествах CaSO4 и Кв8О4 в первоначальных отложениях и в подслое обусловлена влиянием времени и очисткой экранов. Так как возраст подслоя во много раз превышает возраст первоначальных отложений, то в подслое за счет сульфатизации свободной окиси кальция содержание CaSO4 больше. Немаловажную роль при этом играет и процесс очистки экранов. Во время очистки экранов из отложений удаляются те компоненты золы, которые менее сильно связываются с поверхностью. [39]
Для каждой формы, независимо от ее типа, нужно решить ряд вопросов. Необходимо определить функции инструментальной панели. Для пользователей должны быть доступны операции вставки, изменения и удаления. Они необходимы для любой формы, и их реализация обязательна. Разработчик должен исходить из того, что пользователи знают определенные методы работы. Эти методы должны быть естественными для пользователя. Примером неудобного для пользователя действия может служить процедура, требующая выполнения операции Clear Screen ( очистка экрана) при создании новой записи до вставки информации в эту новую запись и для сохранения записи. Это действие нелогично, с точки зрения пользователя. Вместо этого должна существовать кнопка Insert ( вставка), щелчок на которой вызовет приглашение к операции вставка записи и последующее ее сохранение, а затем можно очистить экран. [40]
Страницы: 1 2 3