Cтраница 1
Тонкая очистка выполняется на двухслойном пакете из стекловалокнистнх материалов с выводом масла отдельно после каждого слоя пакета. Ход газа радиальный, через фильтрующий пакет. [1]
Тонкая очистка применяется в системах приточной вентиляции для фильтрации наружного воздуха. [2]
Тонкая очистка от СО и CQ2 - По мере уменьшения нагрузки газа на входе в отделение медно-аммиачной очистки последовательно отключить скрубберы, остановить детандер-машины, триплекс-насосы, отключить десорберы, медно-аммиачные абсорберы, регенераторы, водяные и аммиачные холодильники, газодувки, оставив в работе по одному аппарату, один триплекс-насос, одну детандер-машину и одну турбогазодувку. [3]
Тонкая очистка от взвешенных твердых частиц осуществляется в классификаторах. На содовых заводах используются чашевые классификаторы. [4]
Тонкая очистка применяется в системах приточной вентиляции для фильтрации наружного воздуха. Средняя и грубая очистка воздуха применяется в вытяжных системах g целью предупреждения загрязнения пылью наружного воздуха в зоне нахождения предприятия. [5]
Тонкая очистка всегда сопряжена с потерями очищаемого вещества и снижает его выход. Устранение этого противоречия требует выбора решений, обоснованных технико-экономическими расчетами. [6]
Тонкая очистка достигается главным образом в многоступенчатом процессе. [7]
Тонкая очистка от взвешенных твердых частиц осуществляется в классификаторах. На содовых заводах используются чашевые классификаторы. [8]
Тонкая очистка гидрожидкостей, масел, газов до температуры 350 С. [9]
![]() |
Производительность циклонов, тыс. м3 / сут. [10] |
Тонкая очистка газа проводится в верхней части сепаратора. [11]
Тонкая очистка газа производится в дезинтеграторах, электро-осадителях и фильтрующих аппаратах. [12]
Тонкая очистка газа от метана обычно осуществляется промывкой газа жидкими поглотителями при температурах порядка минус 170 - 190 С и давлении газа 12 - 28 атм. [13]
Тонкая очистка водорода от метана данным методом, как правило, не применяется, так как это связано с необходимостью проведения процесса при весьма высоких температурах или с чрезмерно большим расходом окислителя. [14]
Тонкая очистка металлов достигается переплавкой их в вакууме-примеси отгоняются от менее летучего-металла или, наоборот, более летучий металл отгоняется от примесей. Метод термической диссоциации основан на способности некоторых летучих соединений металлов разлагаться при высокой температуре. [15]