Бомбардировка - поверхность - катод
Cтраница 1
Бомбардировка поверхности катода положительными ионами также приводит к выбиванию электронов из катода. [1]
Бомбардировка поверхности катода положительными ионами приводит к такому быстрому распылению материала и размыванию границы катод - газ, что такие понятия, как температура поверхности и работа выхода ф, становятся неопределенными. [3]
Активирование катода током эмиссии обязательно сопровождается бомбардировкой поверхности катода ионами газа. При этом может происходить дополнительное активирование за счет восстанавливающего действия ионов, окиси углерода, водорода и углеводорода. [4]
Катодное распыление заключается в разрушении оксида за счет бомбардировки поверхности катода ( при горении дуги на обратной полярности) тяжелыми положительно заряженными ионами аргона. При соударении с поверхностью, покрытой оксидом, ионы отдают свою кинетическую энергию поверхностным атомам, разрушают и испаряют оксидную пленку. [5]
Прохождение тока в газе при низком давлении сопровождается, как известно, разрушением катода в результате действия катодного распыления. Последнее обусловливается бомбардировкой поверхности катода положительными ионами газа, ускоряемыми электрическим полем вблизи катода до высоких скоростей. Существенно отметить, что распыляемые частицы представляют собой атомы металла, в силу чего катодное распыление следует рассматривать, как одно из средств переведения анализируемых образцов в атомарное состояние. [6]
Температура пятна составляет около 200 С в то время, как температура остальной массы ртути катода колеблется в зависимости от условий охлаждения от 60 до 100 С. Катодное пятно образуется в результате бомбардировки поверхности катода положительно заряженными молекулами паров ртути ( ионами), которые под действием электрического поля ускоренно направляются к катоду и отдают ему свой заряд и кинетическую энергию. Навстречу ионному потоку от катодного пятна к аноду движется поток электронов, вырываемых из поверхности катодного пятна электрическим полем, образованным положительными зарядами ионов, находящихся вблизи пятна. Эти электроны по выходе из катодного пятна под воздействием электрического поля быстро получают скорость, необходимую для ионизации нейтральных молекул паров ртути, заполняющих пространство внутри сосуда выпрямителя. [7]
 |
Относительные пределы обнаружения примесей в кремнии, %. [8] |
Анализируемое вещество в виде остатка после испарения раствора, порошков, брикетов или кусков проб помещается в полость катода. Переход в газовую фазу материала катода или помещенного внутрь его определяемого вещества происходит вследствие бомбардировки поверхности катода высокоэнергетическими положительно заряженными ионами инертного газа. Ионы разгоняются в поле полого катода и разряжаются при столкновениях с ним. Этот процесс обеспечивает прохождение электрического тока через газ. Образовавшиеся в результате бомбардировки атомы в газовой фазе возбуждаются при столкновениях с электронами. [9]
Механизм вторичной электронной эмиссии отличается от механизма термоэлектронной и фотоэлектронной эмиссии. Если при термоэлектронной и фотоэлектронной эмиссии эмиттируются электроны, расположенные главным образом на уровнях зоны проводимости, то при бомбардировке поверхности катода первичными электронами или ионами их энергия может поглощаться и электронами заполненных зон. Поэтому вторичная эмиссия возможна как с проводников, так и с полупроводников и диэлектриков. [10]
При эксплуатации кинескопов нельзя превышать максимально допускаемые значения питающих напряжений. Повышенное напряжение накала сокращает долговечность подогревателя и катода При повышенном напряжении ускоряющего электрода уменьшается рабочая поверхность катода, увеличивается удельная эмиссия, усиливается бомбардировка поверхности катода положительными ионами остаточных газов, сокращается срок службы кинескопа. [11]
Пока не существует прямых методов замера отношения плотностей je / ji электронного и ионного токов. Замер температуры электродов по их излучению затруднен тем, что источником излучения может быть частично не поверхность электрода, а светящийся слой плазмы вблизи него. Бомбардировка поверхности катода положительными ионами приводит к такому быстрому распылению материала и размыванию границы катод - газ, что такие понятия, как температура поверхности и работа выхода ф, становятся неопределенными. [12]
 |
Схема распределения потенциала между электродами. [13] |
Однако в этих условиях из-за увеличения длины свободного пробега электронов Яг снижается степень ионизации газа. Чтобы преодолеть эту трудность, применяют магнитное поле, параллельное направлению разряда. При бомбардировке поверхности катода ( мишени) проявляются два эффекта: вторичная ионно-эдак-тронная эмиссия и катодное распыление. Вторичная эмиссия служит для поддержания разряда, а распыляемые частицы формируют пленочный осадок. Ионизированное состояние газового пространства между электродами называют плазмой. [14]
В отдельных типах приборов применяются другие специальные типы катодов. Так, например, в фотоэлементах используются катоды, эмитирующие электроны при их освещении. В приборах, основанных на использовании вторичной эмиссии, применяются катоды, эмитирующие электроны при бомбардировке поверхности катода так называемыми первичными электронами, обладающими определенной энергией. В приборах с жидким ртутным катодом эмиссия электронов определяется местным разогревом ртути ( так называемое светящееся пятно) за счет концентрированной бомбардировки одной ее точки положительными ионами и сильным электрическим полем, возникающим на этом месте. [15]
Страницы: 1 2