Холодная плазма
Cтраница 2
В случае холодной плазмы, например холодного пучка со скоростью v0 и WK ( l / 2) nmvo, написанные выше соотношения будут справедливы, если заменить XD на величину VO / G) P. Способ оценки Хц описываемый соотношениями (5.21) - (5.26), довольно приближенный, но это все же лучше, чем не иметь никаких оценок. [16]
Гидродинамическая модель холодной плазмы весьма полезна при исследовании еще одной очень важной неустойчивости плазмы, которая связана с движением всех электронов относительно ионов и называется токовой неустойчивостью. [17]
В приближении холодной плазмы столкновения являются только источником затухания ( и, следовательно, испускания) волн. Если предположить, что частота столкновений не зависит от скорости частицы, то ее можно просто ввести в силу трения, входящую в уравнение движения ( ср. [18]
 |
Энергия диссоциации WR, эв. [19] |
Ионизация в холодной плазме осуществляется весьма небольшим количеством высокоскоростных электронов, соответствующих хвосту максвелловского распределения. Поэтому число неупругих столкновений в сварочном столбе дуги обычно мало по сравнению с упругими. [20]
 |
Полученные вариационным методом функции gKj и % 7 для коэффициента ионной теплопроводности [ формулы ( в и ( д ]. [21] |
Давление в холодной плазме может иметь тензорный характер, если градиент скорости потока не равен нулю. Рассмотрим для полностью ионизованной плазмы соотношение между частью тензора давления, шпур которой равен нулю, и градиентами скоростей в присутствии возмущений или постоянного магнитного поля или того и другого вместе. В отсутствие возмущений и магнитного поля эти две величины связаны скалярным коэффициентом вязкости. Наличие магнитного поля и возмущений приводит к тому, что коэффициенты вязкости для различных компонент тензора давления ( речь идет о части тензора давления, шпур которой равен нулю) будут различными. [22]
Когда мы говорим холодная плазма, надо учитывать, что масштаб температуры для плазмы совсем не такой, к какому мы привыкли. За единицу температуры здесь считается электронвольт, равный 11 600 С. [23]
 |
Поведение веществ при высоких температурах. [24] |
Химические процессы в холодной плазме представляют самостоятельный интерес и рассматриваются в гл. [25]
В случае внутренней инжекции холодная плазма, вытекающая из источника, является, в сущности, протяженной частью положительного столба дугового разряда. Для создания необходимого перепада давления между зоной, где располагается источник и осуществляется необходимый для его питания напуск дейтерия, и остальной частью ловушки, где должен быть обеспечен максимальный возможный начальный вакуум, размещается ряд диафрагм и применяется дифференциальная откачка. Источник работает в импульсном режиме; напуск дейтерия также производится через быстродействующий клапан. [26]
Такое приближение называется приближением холодной плазмы, так как предполагает относительную малость температуры и, следовательно, малую скорость теплового движения частиц плазмы. [27]
При наличии магнитного поля понятие холодной плазмы приобретает вполне определенный смысл. При выполнении этого условия можно последовательно пренебрегать тепловым движением. [28]
С ростом частоты электромагнитного поля приближение холодной плазмы становится неприменимым. Для холодной плазмы в отсутствие магнитных полей характерная частота является плазменной частотой, а характерная скорость - скоростью теплового движения электронов. [29]
Разнообразные реакции могут протекать и в холодных плазмах при температурах ниже 400 К. Интересным примером является азотирование в тлеющем разряде, применяемое для поверхностного упрочнения стали. Обрабатываемый материал помещают в аммиачную атмосферу тлеющего разряда; при этом образуется очень прочный поверхностный слой нитрида железа. В настоящее время таким способом в промышленном масштабе отверждают, например, прокатные валы и шарики для шариковых ручек. [30]
Страницы: 1 2 3 4 5