Термическая плазма

Cтраница 2

Конверсия CF4 в C2F4 в дуге с графитовыми электродами, которую исследовали Баддур и Брон - ф ин ( 271, представляет целый класс синтезов фторуглеродных соединений, проводимых в термической плазме. Описание использованного дугового реактора и обсуждение экспериментальных результатов, полученных в работе [ 27J, приводятся ниже. [16]

Наряду с условием локального термического равновесия ( понятие локальности термического равновесия между различными частицами в элементарном объеме плазмы дуги обусловлено неравномерным распределением температуры по сечению и длине столба электрической дуги), важным и необходимым условием существования термической плазмы электрической дуги является ее квазинейтральность. Квазинейтральность плазмы означает равенство объемных концентраций положительно и отрицательно заряженных частиц плазменной среды. Ввиду квазинейтральности частицы плазмы за пределами пространства, которое они занимают, не возбуждают электрического поля. Во многих теоретических работах [89, 97] квазинейтральность плазмы электрической дуги объясняется отсутствием достаточных сил для значительного нарушения ее электрического равновесия. [17]

Теории катодного падения потенциала нельзя применить к области анодного падения потенциала, так как элементарные процессы в областях катодного и анодного падения потенциала отличаются, несмотря на то, что в обоих случаях происходит обмен электричества между термической плазмой столба и низкотемпературными электродами. Основным явлением в прикатодной области, как отмечалось выше, является образование носителей электричества, так как в области катодного падения потенциала образуется 99 % электронов и ионов, определяющих ток электрической дуги. В области анодного падения потенциала образуется всего лишь 1 % носителей заряда в виде электронов, движущихся к аноду, и ионов, движущихся к столбу, в то время, как 99 % электронов, попадающих на поверхность анода, поступает из столба дуги. [18]

Термическая плазма представляет только одно из нескольких состояний, которые могут быть получены в электрических разрядах. [19]

Термическая плазма представляет собой низкотемпературную плазму, характеризующуюся равенством температур электронного, ионного и нейтрального компонентов. Присутствие в такой плазме жидких или твердых частиц малого размера может значительно изменять ее электрофизические свойства. [20]

Радиус ближнего взаимодействия b обратно пропорционален кинетической энергии частиц. В термической плазме он обратно пропорционален температуре, и, следовательно, сечение ближнего взаимодействия с повышением температуры уменьшается как ее обратный квадрат. Кулоновский логарифм по свойствам логарифма лишь слабо зависит от скорости или энергии частиц. Отсюда следует основное свойство кулоновского сечения: оно резко уменьшается с увеличением скорости частиц. В термической плазме кулоновское сечение примерно обратно пропорционально квадрату температуры. Если же группа электронов под действием электрического поля оторвется от основной массы и приобретет большие скорости, то для этих электронов кулоновское сечение резко упадет, что приведет к еще большему ускорению и прогрессивному падению сечения. Такие пролетные, или убегающие, электроны в конце концов могут ускоряться в плазме, как в вакууме. [21]

Термическая плазма играет существенную роль в космических процессах и, в частности, в термоядерных реакциях на Солнце, которые являются источником выделяемой им энергии. В лабораторных условиях и в технике термическую плазму получают нагреванием газа и при определенных видах электрического разряда в газе. [22]

В настоящее время разработано много конструкций плазмотронов, обеспечивающих получение потока термической плазмы в непрерывном режиме, с принудительным движением плазмообразующего газа через электрическую дугу. С учетом этих параметров, а также возможности поддержания при напылении безокислительной среды плазменный метод дает возможность напыления любых кислородных и бескислородных тугоплавких соединений. [23]

В этой главе основное внимание будет уделено реакциям фтора в плотной термической плазме. Термин плазма будет использован в широком смысле, чтобы включить в него не только газ, проводящий ток, но и тот же газ при выходе из зоны разряда, когда происходит уменьшение концентрации электронов до довольно низких величин, уже обычно не характерных для плазмы. Термин термическая плазма будет относиться к плазме, полученной при относительно высоком давлении ( больше 50 мм рт. ст.), в которой столкновения частиц происходят с большой частотой. При таких условиях достигается локальное равновесие между колебательной, вращательной и поступательной температурами тяжелых частиц. Химический состав такой плазмы также приближается к термохимически равновесному составу. Термическая плазма характеризуется высокой температурой, высокой удельной энтальпией и большой светимостью. [24]

Бинарная корреляционная функция g ( r для частиц СеСЬ в воздушной струе, при температуре газа Tg 300 К ( а, и в плазме ( Zd - Ю3 при Tg 1170 К ( б и Tg 1700 К ( в. [25]

Ядерно-возбуждаемая плазма формируется при прохождении через вещество продуктов ядерных реакций, которые создают в своем треке электрон-ионные пары, а также возбужденные атомы и молекулы. Ядерно-возбуждаемая плазма инертных газов по своим физическим характеристикам значительно отличается как от термической плазмы, так и от плазмы газового разряда. При относительно невысоких интенсивностях радиоактивных источников, применяемых в лабораторных условиях, такая плазма имеет ярко выраженную трековую структуру. Треки в пространстве и во времени распределены случайным образом. [26]

Вентильные преобразователи все шире используются для питания устройств с электрической дугой в вакууме или в газовой атмосфере. Вакуумные и плазменные дуги широко применяются в электрометаллургии, химии и в электротехнологии. Примером могут служить сварка, электродуговая резка и плавка металлов. Термическая плазма используется для напыления и наплавки металлов с высокой температурой плавления. С помощью направленного переноса металла посредством искровой обработки при которой кратковременно в рабочем зазоре возникают микродуги, можно осуществить размерную обработку твердых сплавов, в частности получить углубления и отверстия. В химической промышленности плазменная дуга используется для получения ацетилена и некоторых других соединений. [27]

По способу образования различают два вида плазмы: термическую и газоразрядную. Термическая ( изотермическая плазма) возникает при нагревании газа до высоких температур, при которых имеет место значительная его ионизация. В ней средняя кинетическая энергия различных частиц ( электронов, ионов, атомов, молекул) одинакова, распределение частиц по скоростям подчиняется закону Максвелла. В термической плазме устанавливается равновесие между нейтральными частицами и продуктами их ионизации ( ионами и электронами), которое подчиняется закону действия масс и другим термодинамическим соотношениям. [28]

Различают нетермическую и термическую плазму. Нетермическая плазма образуется, например, в электрических разрядах, возникающих в условиях низкого давления. Термическая же плазма характеризуется равенством температур всех ее частиц. Получение термической плазмы с температурой до 50 000 С возможно в электрической дуге, нетермической - в высокочастотных и сверхвысокочастотных разрядах. [29]

Страницы: 1 2 3