Cтраница 1
![]() |
Схема кислородно-дуговой резки.| Схема воздушно-дуговой резки. [1] |
Низкотемпературная плазма представляет собой электропроводящий газ с температурой в пределах 105 К. Низкотемпературную плазму для резки получают в электрической дуге, создаваемой в специальном инструменте - плазмотроне, пропуская через него технические газы. [2]
Низкотемпературная плазма представляет собой газообразное вещество, состоящее из электронов, ионов, атомов и молекул. Физические свойства плазмы значительно отличаются от свойств газов. Известно, что газы являются изоляторами электрического тока, не излучают свет и не испытывают влияния магнитных сил. Плазма, наоборот, обладает хорошей электрической проводимостью, ярко светится и подвержена влиянию магнитных сил. [3]
Низкотемпературная плазма ( 105 К) применяется в газовых лазерах, в термоэлектронных преобразователях и магнитогидродинамических генераторах ( МГД-генера-торах) - установках для непосредственного преобразования тепловой энергии в электрическую, в плазменных ракетных двигателях, весьма перспективных для длительных космических полетов. [4]
Низкотемпературная плазма в настоящее время позволяет осуществлять плазмохимические процессы при температурах до 20000 К, давлении от 10 - 5 до 103 МПа в равновесных и неравновесных условиях. [5]
![]() |
CxeiMa плазмотрона с маг-нитновихревой стабилизацией дуги. [6] |
Низкотемпературная плазма получается в плазмотронах - электродуговых устройствах, в которых электрическая дуга подвергается тепловому или магнитному сжатию. На рис. 460 показано принципиальное устройство плазмотрона с магнитной стабилизацией электрической дуги. Образующаяся дуга между катодом и анодом под влиянием магнитного поля перемещается вихре-образно по поверхности анода. Это позволяет сосредоточить тепловую энергию дуги в большем пространстве и большем объеме газа по сравнению с обычным горением дуги. В результате значительное количество энергии дуги идет на нагревание вводимого агента. [7]
Низкотемпературная плазма ( температура - ЮООК) находит применение в газоразрядных источниках света и в газовых лазерах, в термоэлектронных преобразователях тепловой энергии в электрическую и в магнитогндродинамических ( М1ГД) генераторах. [8]
Низкотемпературная плазма возникает при температурах от 104 до 105 К. Для нее характерна невысокая степень ионизации. [9]
Низкотемпературная плазма в настоящее время позволяет осуществлять химические процессы при температурах до 20 000 К, давлениях от 10 - до 10 атм в равновесных и неравновесных условиях. При проведении химических реакций она может быть использована как источник чрезвычайно концентрированной удельной энергии ( энтальпии) при высоких температурах и может служить источником положительных и отрицательных ионов, могущих вступать в ионные и ионно-молекулярные реакции, а также быть мощным источником светового излучения для проведения фотохимических реакций. [10]
Низкотемпературная плазма, полученная при окислении углеводородных и водородных топлив с присадками или без них, начинает играть все большую роль для различных приложений. Для пирометрии ее часто используется излучение в видимой области присадок, например, натрия. По-видимому, здесь целесообразно использовать для целей пирометрии инфракрасное излучение самой плазмы. [11]
Низкотемпературная плазма характеризуется частичной или полной ионизацией атомов и молекул; можно считать, что такая плазма квазинейтральна. [12]
Низкотемпературная плазма в настоящее время позволяет осуществлять химические процессы при температурах до 20 000 К, давлениях от 10 - 4 до 104 атм в равновесных и неравновесных условиях. [13]
Низкотемпературная плазма - это слабоионизованная высокотемпературная ( с теплоэнергетической точки зрения) газовая смесь. Влияние этих эффектов на физические параметры выражается через эффективные значения параметров в отличие от случая замороженного состава. [14]
Неравновесная низкотемпературная плазма открывает большгэ возможности в улучшении качества текстильных материалов. [15]