Высокоионизированная плазма

Cтраница 1

Высокоионизированная плазма только частично проникает в земную атмосферу около магнитных полюсов Земли и вызывает северное сияние. [1]

Проводимость высокоионизированной плазмы может превосходить проводимость концентрированных электролитов и даже ( в дуговых разрядах) приближаться к проводимости металлов. Способность плазмы пропускать при небольших напряжениях сильные токи очень ценна для техники, например для ионных выпрямительных приборов. [2]

Такой спектр появляется всякий раз в условиях высокоионизированной плазмы с чрезвычайно большой концентрацией частиц и, как правило, сопровождается расширением линий, обусловленным штарк-эффектом. [3]

Процессы сосредоточиваются в области между горячим пятком поверхности катода и высокоионизированной плазмой, непосредственно примыкающей к пятну. Вследствие амбиполярной эффузии плазмы в вакуум образуется пространственный заряд, создающий прикатодный скачок потенциала, на 30 - 70 В превышающий потенциал анода. В целом это приводит к падению потенциала катода на 50 - 90 В в зависимости от материала. Падение потенциала ограничено очень тонким двойным слоем, соответствующим длине свободного пробега. Вследствие высокого давления в плазме ( температура пятна соответствует давлению пара порядка 100 атм) длина свободного пробега электронов составляет приблизительно 10 нм и напряженность результирующего электрического поля превышает 107 В / см. Положительные ионы из плазмы ускоряются в направлении к пятну, нагревая поверхность катода. Пятно эмиттирует струю пара, который поглощается плазмой. [4]

Возможности и направления плазменно-химических процессов неограничены. В высокоионизированной плазме могут происходить реакции, невозможные в других условиях, например, с участием утяжеленных ионов HJ, CHs, HeJ, Ar. [5]

В СВЧ-плазме и в плазме, создаваемой действием ионизирующих излучений, также значительное влияние на протекание химических реакций оказывают электрически заряженные частицы. В высокоионизированных плазмах имеется значительное количество горячих ( быстрых) электронов, обеспечивающих ионизацию и первичные химические превращения. [6]

Ео всем этом интервале температур дейтерий [ уже не может существовать в виде нейтрального вещества и должен превращаться в высокоионизированную плазму, состоящую из быстрых дей-тронов и быстрых электронов. Очевидно, что главная трудность состоит в том, чтобы изолировать эту высокотемпературную плазму от стенок аппарата, в котором она находится. [7]

Зажигание ГРП зависит не только от степени перенапряжения на газоразрядном промежутке, но и от длительности инициирующего импульса и частоты затухающих колебаний в нем. Длительность этого импульса должна быть больше времени зажигания разряда, складывающегося из времени запаздывания начала развития пробоя и времени формирования канала высокоионизированной плазмы. Увеличение амплитуды и длительности импульса равносильно увеличению энергии в нем. С увеличением энергии - в - инициирующем импульсе уменьшается напряжение зажигания i / заж. Очевидно, что импульсная мощность должна выть сравнима с мощностью основного источника питания. Если особых требований к величине t / заж не предъявляется, то амплитуду инициирующих импульсов f / ин выбирают в 1 5 - 2 раза выше напряжения пробоя ГРП. [8]

Схема электронно-плазменного нагревателя с плазменным полым катодом. [9]

Внутри вольфрамового полого катода, закрепленного в ка-тододержателе 1 креплениями, при давлении в нем - 1 Ч - 5 кПа содержится плазма ( область I), в которой, согласно диагностике [9], температуры ионов Ti и электронов Те примерно одинаковы. Граница внутри полого плазменного анода, с которой формируется пучок электронов, имеет вид полусферы. Согласно теории лучевого вакуумного разряда [9] для формирования в нем электронного пучка необходимо иметь на границе плазменного катода высокоионизированную плазму достаточной плотности. Переход плазмы из стационарного квазиравновесного состояния ( внутренний столб, 6) в режим бесстолкновитель-ного движения электронов ( внешний столб, 7) на границе плазменного катода может быть обусловлен нестационарными процессами распада равновесной плазмы в результате воздействия электрического поля. Начальная энергия электронов, извлекаемых из плазменного полого катода, составляет 40 - - 70 эВ при токе 1000 - - 1500 А. Пучок электронов такой энергии, первоначально сформированный с помощью диафрагмы катода, при дальнейшем движении в разреженном газе с давлением 101 - т - 10 1 Па не рассеивается в результате действия ионной фокусировки. Более того, установлено, что в указанном диапазоне давлений при межэлектродных расстояниях до 0 5 м пучок сохраняет на всем пути от диафрагмы до ванны металла диаметр диафрагмы. [10]

Схема электронно-плазменного нагревателя с плазменным полым катодом. [11]

Внутри вольфрамового полого катода 3, закрепленного в ка-тододержателе 1 креплениями 2, при давлении в нем - 1 - j - 5 кПа содержится плазма ( область I), в которой, согласно диагностике [9], температуры ионов Ti и электронов Те примерно одинаковы. Граница внутри полого плазменного анода, с которой формируется пучок электронов, имеет вид полусферы. Согласно теории лучевого вакуумного разряда [9] для формирования в нем электронного пучка необходимо иметь на границе плазменного катода высокоионизированную плазму достаточной плотности. Переход плазмы из стационарного квазиравновесного состояния ( внутренний столб, 6) в режим бесстолкновитель-ного движения электронов ( внешний столб, 7) на границе плазменного катода может быть обусловлен нестационарными процессами распада равновесной плазмы в результате воздействия электрического поля. Начальная энергия электронов, извлекаемых из плазменного полого катода, составляет 40 - г - 70 эВ при токе 1000 - - 1500 А. Пучок электронов такой энергии, первоначально сформированный с помощью диафрагмы катода, при дальнейшем движении в разреженном газе с давлением 101 - Ь10 - 1 Па не рассеивается в результате действия ионной фокусировки. Более того, установлено, что в указанном диапазоне давлений при межэлектродных расстояниях до 0 5 м пучок сохраняет на всем пути от диафрагмы до ванны металла диаметр диафрагмы. [12]

Устройство аргонового лазера. [13]

По краям газовой кюветы, заполненной аргоном при давлении порядка десятых долей миллиметров ртутного столба, расположены катод, в виде диска с центральным отверстием и цилиндрический анод. Средняя часть кюветы выполнена в виде двух соосных трубок. Во внутренней трубке малого диаметра ( 1 - 5 мм) - капилляре - возникает электрический разряд: на всем протяжении капилляр во время разряда заполнен высокоионизированной плазмой. [14]

Термическая ионизация происходит, когда газ нагрет до достаточно высокой температуры, чтобы вызвать ионизацию частиц, движущихся с произвольными скоростями. Под потенциалом ионизации понимают работу, которую надо совершить, чтобы отнять один электрон от атома или молекулы. Измеряется он в электрон-вольтах. В высокоионизированной плазме из одной частицы может быть удалено два или более электрона. [15]

Страницы: 1