Высокочастотный плазмотрон
Cтраница 1
 |
Плазменная установка для переплава шихты в атмосфере защитного газа. [1] |
Высокочастотные плазмотроны ( рис. 4.32) применяют для получения особо чистых порошков. [2]
В высокочастотном плазмотроне движение плазменной струи, как правило, ламинарное. [3]
Примерами могут служить дуговые и высокочастотные плазмотроны для газотермического напыления, электроискровые установки для легирования. Дуговой и высокочастотный разряды используют также в установках вакуумного нанесения покрытий. [4]
 |
Принципиальная схема высокочастотного плазмотрона. [5] |
Кроме того, в высокочастотных плазмотронах может быть использован комбинированный воздушно-водяной способ термозащиты стенок камеры. В этом случае кварцевая трубка снаружи охлаждается водой, одновременно вдоль внутренних ее стенок продувается газ. [6]
 |
Высокотемпературный оеак-тор с псевдоожиженным слоем. [7] |
Более подробно устройство и некоторые применения высокочастотных плазмотронов описаны на стр. [8]
На рис. 11.28 показана более детальная схема металлодиэлектри-ческого высокочастотного плазмотрона пилотного завода. Принципиальная часть технологического аппарата - металлодиэлектрический высокочастотный индукционный плазмотрон - находится в индукторе 6 модифицированного высокочастотного генератора ВЧИ-63 / 5.25. Собственно плазмотрон включает в себя секционированную ( разрезную) медную водоохлаждаемую разрядную камеру 5, расположенную внутри кварцевой оболочки 4 с минимальным зазором; кварцевая оболочка герметично состыковывается с верхним 3 и нижним 8 крепежными фланцами. Металлодиэлектрический плазмотрон находится внутри стальной защитной камеры 7, заполненной обычно азотом под атмосферным давлением, обеспечивающей безопасность от высокого напряжения на индукторе, электромагнитного излучения с индуктора и потенциально возможной утечки водорода. Под плазмотроном находится вставка с кольцевым коллектором 9 ввода UFe в поток ( Н2 - Аг) - плазмы, генерируемой в разрядной камере плазмотрона. [9]
На рис. 11.28 показана более детальная схема металлодиэлектри-ческого высокочастотного плазмотрона пилотного завода. Принципиальная часть технологического аппарата - металлодиэлектрический высокочастотный индукционный плазмотрон - находится в индукторе 6 модифицированного высокочастотного генератора ВЧИ-63 / 5.25. Собственно плазмотрон включает в себя секционированную ( разрезную) медную водоохлаждаемую разрядную камеру 5, расположенную внутри кварцевой оболочки 4 с минимальным зазором; кварцевая оболочка герметично состыковывается с верхним 3 и нижним 8 крепежными фланцами. Металлодиэлектрический плазмотрон находится внутри стальной защитной камеры 7, заполненной обычно азотом под атмосферным давлением, обеспечивающей безопасность от высокого напряжения на индукторе, электромагнитного излучения с индуктора и потенциально возможной утечки водорода. Под плазмотроном находится вставка с кольцевым коллектором 9 ввода UFg в поток ( Н2 - Аг) - плазмы, генерируемой в разрядной камере плазмотрона. [10]
 |
Установка плазменного напыления. [11] |
Основным типом плазмотронов, используемых для напыления покрытия, являются дуговые, хотя в последнее время получило распространение напыление с помощью высокочастотных плазмотронов. Среди дуговых плазмотронов наибольшее применение получили струйные с самоустанавливающейся длиной дуги и межэлектродными вставками. [12]
В последние годы, наряду с усовершенствованием и модернизацией традиционных для спектрального анализа источников света, достигнуты существенные успехи и в разработке новых способов возбуждения спектров - с помощью высокочастотных плазмотронов и некоторых форм тлеющего разряда. [13]
В последние годы, наряду с усовершенствованием и модернизацией традиционных для спектрального анализа источников света, достигнуты существенные успехи и в разработке новых способов возбуждения спектров - с помощью высокочастотных плазмотронов и некоторых форм тлеющего разряда. [14]
На первых порах, в 1966 - 68 гг., нам очень не хватало работоспособных плазмотронов, и мы расширили фронт работы: привлекли к разработке электродуговых плазмотронов Новосибирский институт теплофизики; в области высокочастотных плазмотронов и реакторов прямого индукционного нагрева мы работали в тесном контакте с Московским энергетическим институтом; в 1970 г. у нас появились первые микроволновые генераторы и плазмотроны, разработанные НИИ Титан. Позднее группы специалистов в области плазменной и высокочастотной технологии появились и на других предприятиях: на Московском заводе полиметаллов, на Ульбинском металлургическом заводе, на Чепецком механическом заводе, в НПО Алмаз, в НИИ стабильных изотопов и др.; на всех этих предприятиях были созданы сравнительно мощные плазменные установки или установки прямого высокочастотного индукционного нагрева для получения различных материалов для ядерно-энергетического комплекса. [15]
Страницы: 1 2