Высокочастотный индукционный плазмотрон

Cтраница 1

Принципиальные схемы ВЧИ-плазмотронов. а с одним заземленным концом индуктора. б с индуктором, запитанным по двухтактной схеме. в со встречными потоками плазмы для двух ВЧИ-разрядов, горящих в одной разрядной камере. г комбинированный ( ВЧИ ВЧЕ-плазмотрон, запитанный по двухтактной схеме. 1 - ВЧИ-разряд. 2 - разрядная камера. 3 - ВЧ-генератор. 4 - ввод реагентов. 5 - индуктор или внешние электроды. 6 - корпус ВЧ-плазмотрона. 7 - плазменный реактор. [1]

Высокочастотные индукционные плазмотроны, изготовленные из диэлектрических материалов. Обычный индукционный плазмотрон изготавливается из отрезка трубы из диэлектрического материала, чаще всего из кварца. [2]

В простейшей форме высокочастотный индукционный плазмотрон представляет собой кварцевую трубку, через которую проходит плазмообразующий газ. [3]

Основные конструкции разрядных камер с аксиальной ( а, б, г, е и вихревой ( в, д, о / с стабилизацией плазменного сгустка. а, б, в - кварцевая водоохлаждаемая. г, д - кварцевая неохлаждаемая. е, ж - металлическая. [4]

Наиболее критическими при выборе материала для высокочастотного индукционного плазмотрона являются четыре параметра, точнее их совокупность: коэффициент термического расширения, максимальная рабочая температура, удельное электросопротивление и электрическая прочность. Кварц является уникальным материалом с точки зрения коэффициента термического расширения, хотя все его остальные параметры заметно уступают нитридной керамике. По этому параметру к кварцу ближе всего керамические материалы из A1N и Sis N4, хотя другие их электрофизические и термические свойства гораздо выше. [5]

Фотография технологической установки для конверсии отвального гексафторида урана, оснащенной комбинированным высокочастотным. [6]

На рис. 2.60 показана схема работающего высокочастотного индукционного плазмотрона, снабженного такой разрядной камерой. [7]

Основные конструкции разрядных камер с аксиальной ( а. б, г, е и вихревой ( е. д, о / с стабилизацией плазменного сгустка. а, б, в - кварцевая водоохлаждаемая. г, д - кварцевая неохлаждаемая. е, ж - металлическая. [8]

Наиболее критическими при выборе материала для высокочастотного индукционного плазмотрона являются четыре параметра, точнее их совокупность: коэффициент термического расширения, максимальная рабочая температура, удельное электросопротивление и электрическая прочность. Кварц является уникальным материалом с точки зрения коэффициента термического расширения, хотя все его остальные параметры заметно уступают нитриднои керамике. По этому параметру к кварцу ближе всего керамические материалы из A1N и Sis N4, хотя другие их электрофизические и термические свойства гораздо выше. [9]

Фотография технологической установки для конверсии отвального гексафторида урана, оснащенной комбинированным высокочастотным. [10]

На рис. 2.60 показана схема работающего высокочастотного индукционного плазмотрона, снабженного такой разрядной камерой. [11]

Примерно в то же время развивался и другой класс плазмотронов - высокочастотные индукционные плазмотроны. Это развитие явилось более специфическим: основной первоначальный вклад был сделан в области источника электропитания - высокочастотного генератора, работающего в области радиочастот. [12]

В связи с этими ограничениями любые технологические и металлургические аппараты, снабженные высокочастотными индукционными плазмотронами, имеют ограничения по давлению, частоте и ресурсу работы. Чтобы снять эти ограничения, необходимо снабдить указанный металлодиэлектрический плазмотрон дополнительным устройством, которое позволяет или определенным образом перераспределить мощность высокочастотного источника электропитания, или ввести в разряд дополнительную мощность от автономного источника электропитания. На рис. 10.21 показана принципиальная схема генератора высокочастотной индукционной ( П - Р) - плазмы с дополнительным устройством для возбуждения и усиления стабильности индукционного разряда. [13]

В связи с этими ограничениями любые технологические и металлургические аппараты, снабженные высокочастотными индукционными плазмотронами, имеют ограничения по давлению, частоте и ресурсу работы. Чтобы снять эти ограничения, необходимо снабдить указанный металлодиэлектрический плазмотрон дополнительным устройством, которое позволяет или определенным образом перераспределить мощность высокочастотного источника электропитания, или ввести в разряд дополнительную мощность от автономного источника электропитания. На рис. 10.21 показана принципиальная схема генератора высокочастотной индукционной ( U-F) - плазмы с дополнительным устройством для возбуждения и усиления стабильности индукционного разряда. [14]

Для того чтобы и решить проблемы чистоты оксидных материалов по примесям, и снизить скорость материальных потоков в плазменном реакторе, целесообразно заменить электродуговой плазмотрон безэлектродным: высокочастотным индукционным или микроволновым. Использование высокочастотного индукционного плазмотрона на индустриальном уровне проблематично из-за ненадежности диэлектрических материалов в качестве материала плазмотрона. Комбинированные металле-диэлектрические плазмотроны в принципе применимы, но сложности герметизации на границе металл-диэлектрик, отягощенные спецификой работы с плутонием, также обещают много проблем при работе плазменной установки в промышленных условиях. [15]

Страницы: 1 2