Cтраница 1
Пленки полиметилметакрилата выдерживают протирание тканью; их твердость близка к твердости пленок полистирола. [1]
Причем помимо нормального одновременного отрыва пленки полиметилметакрилата и сдвига применяли комбинированные методы определения адгезионной прочности, в которых сочетались одновременно воздействие тангенциально направленной и нормальной сил отрыва. [2]
К сожалению, при использовании различных методов отрыва толщина пленки полиметилметакрилата была различной, что затрудняет сопоставление полученных результатов. Наименьшая адгезионная прочность обнаружена при одновременном нормальном отрыве пленок. Максимальная адгезионная прочность реализуется методом кручения, что может быть объяснено большими затратами на деформацию образца в процессе отрыва. Значения адгезионной прочности, полученные методом сдвига и вздутия, примерно одинаковы. [3]
Уменьшение отражения ИК радиации от полированной поверхности кристаллов при помощи пленок полиметилметакрилата различных толщин еще более эффективно. [4]
Полимерные смеси очень редко состоят из совместимых компонен - ов, но если это все-таки имеет место, то продольные бриллюэнов - кие пики оказываются столь же узкими, как и для индивидуальных аморфных веществ. Бриллюэновский спектр пленки полиметилметакри - ( ата при Тд 100 С, на котором видны рассеяния двух порядков, юказан на рис. 9.15. Как видно, получающиеся пики оказываются чень резкими. Пленки полиметилметакрилата и поливинилиденфто-ида ( ПВФ) совместимы при температурах выше температуры плав-ения ПВФ [20], и поэтому из смеси этих полимеров быстрым хлаждением удается приготовить аморфные застеклованные пленки. Тд - 20 С оказан на рис. 9.16. Наличие резких пиков подтверждает, что иссле-ованный образец представляет собой гомогенную аморфную смесь, аким образом, измерение ширины линий в бриллюэновском спектре южно использовать для оценки гомогенности смеси. [5]
На рис. VII.15 приведены данные, характеризующие изменение адгезионной прочности в зависимости от толщины некоторых пленок на основе перхлорвиниловой смолы и других материалов. С увеличением толщины пленок от 10 до 80 мкм для первых трех пленок ( кривые 1 - 3) наблюдается монотонное увеличение адгезионной прочности. Для пленки полиметилметакрилата ( кривая 4) и лака № 964 ( кривая 5) обнаружена максимальная адгезионная прочность при толщине пленки, равной примерно 50 мкм. [6]
![]() |
Схема проекционного электронного экспонирования с помощью фотокатода. [7] |
Выполнено немало работ по получению изображений с высокой разрешающей способностью путем облучения кремниевой пластины. При этом процесс проводился как на специальном электронорезисте, не обладающем светочувствительностью, так и непосредственно на окисной пленке, которая под действием электронной обработки меняет свои свойства ( плотность) и в 3 - 4 раза увеличивает скорость растворения в травителе. В качестве электронорезиста может быть использован полимер полиме-тилметакрилат. При облучении электронорезиста толщиной менее 1 мкм потоком электронов с энергией 5 - 20 кэВ нарушаются молекулярные связи и растворимость электронорезиста в проявителе ( метилизобутилкетон) резко возрастает. Таким образом, электронорезист является позитивным. В пленке полиметилметакрилата получены линии шириной 450 А. [8]
Образованные из толуольных растворов полиметилметакрилата пленки термоустойчивы - выдерживают кратковременный нагрев до 200 С; при 270 С они полностью разрушаются. При отрицательных температурах до - 50 С, качество пленок и их оптические характеристики полностью сохраняются. Пленки устойчивы при облучении их ультрафиолетовыми и у-лучами. Они химически устойчивы, нерастворимы в воде, не разрушаются водяными парами и углекислым газом. Так, например, легкорастворимые кристаллы Csl и КВг могут быть защищены пленками полиметилметакрилата толщиной 1 мкм. Пластины из кристаллов КВг с пленками полиметилметакрилата спустя 2 года в условиях 60 - 70 % - ной влажности при 18 - 25 С сохранились без изменения, тогда как без защитных покрытий при тех же условиях пластины начинают мутнеть и разрушаться уже через 3 дня. Благодаря своей прозрачности для ИК излучения и относительно низкому показателю преломления ( 1 492) пленки из растворов полиметилметакрилата весьма удобны для просветления оптических деталей приборов, работающих в ИК области спектра. [9]
Пленки могут быть получены также путем нанесения небольшого количества раствора на поверхность вращающейся детали или путем погружения ее в раствор. При скорости вращения 3000 - 4000 об / мин на поверхности детали образуется пленка с nh 0 3 мкм. Пленки большей толщины могут быть образованы многократным нанесением раствора. После испарения растворителя на поверхности кристалла или стекла остается прозрачный стеклообразный слой. Для полного удаления растворителя детали с пленками прогревают при 130 С. Как и в пленках из полистирола, в толстых пленках полиметилметакрилата возникают напряжения, которые могут быть сняты постепенным прогревом при температуре, незначительно превышающей температуру размягчения полиметилметакрилата, и медленным охлаждением его до 20 - 25 С. Пленки полиметилметакрилата довольно прочно закрепляются на поверхности силикатных бескислородных стекол и кристаллов галогени-дов. Это закрепление осуществляется за счет химических связей, обусловленных разрывом двойных связей полиэфира с кислородом, а также за счет межмолекулярного взаимодействия поверхности стекла с полимером. [10]
Образованные из толуольных растворов полиметилметакрилата пленки термоустойчивы - выдерживают кратковременный нагрев до 200 С; при 270 С они полностью разрушаются. При отрицательных температурах до - 50 С, качество пленок и их оптические характеристики полностью сохраняются. Пленки устойчивы при облучении их ультрафиолетовыми и у-лучами. Они химически устойчивы, нерастворимы в воде, не разрушаются водяными парами и углекислым газом. Так, например, легкорастворимые кристаллы Csl и КВг могут быть защищены пленками полиметилметакрилата толщиной 1 мкм. Пластины из кристаллов КВг с пленками полиметилметакрилата спустя 2 года в условиях 60 - 70 % - ной влажности при 18 - 25 С сохранились без изменения, тогда как без защитных покрытий при тех же условиях пластины начинают мутнеть и разрушаться уже через 3 дня. Благодаря своей прозрачности для ИК излучения и относительно низкому показателю преломления ( 1 492) пленки из растворов полиметилметакрилата весьма удобны для просветления оптических деталей приборов, работающих в ИК области спектра. [11]