Фторидная пленка
Cтраница 1
Фторидная пленка на меди при комнатной температуре имеет такое же сопротивление, как на алюминии, но уже при 225 С оно снижается до 108 ом см. Пробивное напряжение при комнатной температуре - 250 кв / мм. Пленка неустойчива к действию влаги, а при нагреве на воздухе до 250 С образуется окись меди, которая представляет собой полупроводник. [1]
На воздухе фторидная пленка не изменяет своих свойств при температуре до 500 С. [2]
Для прочного прилегания фторидной пленки к стеклу покрытию должны предшествовать тщательная очистка и обезгаживание его поверхности. [3]
Как указано выше, фторидные пленки образуются на магнии во время подогрева бомбы. [5]
В последнее время разработана изоляция из фторидной пленки ( фтористый алюминий), получаемой при воздействии фтористого водорода на алюминий при высокой температуре. Эта пленка имеет небольшую толщину ( порядка микрона) и покрывает проводник сплошным слоем. [6]
Многие металлы при низких температурах вполне устойчивы в среде безводного фтористого водорода благодаря образованию защитных непроницаемых фторидных пленок. [7]
Взаимодействие тория с водными растворами кислот имеет любопытные особенности. Плавиковая кислота покрывает металл защитной фторидной пленкой. Аналогичное пассивирующее действие оказывает концентрированная HNO3, но добавление иона фтора снимает пассивность. Разбавленные HNO3, H2SO4 и HF, а также концентрированная Н3РС4 взаимодействуют с торием медленно [99]; НС1 растворяет металл довольно энергично, но не до конца. [8]
Путем химической и электрохимической обработки на металлических поверхностях создаются окисные, фосфатные, сульфидные или фторидные пленки толщиной от 1 до 10 мк. Пленки применяют как подслои под окрашивание, как электроизоляционные или декоративные покрытия. Образование на поверхности черных металлов тонкой окисной пленки носит название процесса воронения. [9]
Все фториды азота, за исключением дифторамина, дихлорфторамина и азида фтора, достаточно термически стабильны. Естественно, что при работе с фторсодержа-щими окислителями, в том числе - фторидами азота, под обычными следует понимать условия, обеспечивающие чистоту, отсутствие влаги и пассивацию ( образование фторидной пленки) аппаратуры. [10]
Таким же способом получают фторидные пленки, например AlFs. Пленки нитридов, обладающие хорошими диэлектрическими свойствами, например нитрид бора ( BN), можно получить в результате ступенчатого химического процесса: металл обрабатывают трихлоридом бора ВС13 при 1200 - 1500 К. При этом на поверхности металла образуется слой его борида. После этого поверхность при той же температуре обрабатывается парами трихлорборазила и на ней образуется нитрид бора. Фосфатные пленки получаются при обработке металла смесью растворов фосфорной и азотной кислот. Фос-фатирование чаще всего применяют для изоляции листовой электротехнической стали. [11]
Фториды большинства элементов могут быть получены действием фтора на свободные элементы или на такие их соединения, как окислы, хлориды, бромиды, иодиды, карбонаты, сульфиды и карбиды. Реакции эти могут идти или при комнатной, или при повышенной температуре. Условия быстрого прохождения реакций между фтором и металлами в разных случаях различны и зависят от образования защитных фторидных пленок. Например, щелочные металлы и таллий реагируют с фтором при комнатной температуре, тогда как для быстрого превращения их во фториды большинство металлов ( таких как барий, кальций, цинк, свинец, ниобий тантал, молибден, вольфрам) требует незначительного повышения температуры. Температура, при которой начинается реакция, зависит не только от природы металла, но также от степени его дисперсности. [12]
Нормально тетрафторид урана ( получаемый в производственном масштабе гидрофторированием двуокиси урана) содержит небольшие количества уранилфторида и смешанных окислов. Оставшийся уран обычно находится в виде корольков и маленьких пластинок и частично в виде мельчайших включений невосстановленного материала, распределенного в шлаке. При всех условиях оставшийся уран извлекается при последующей переработке шлака. Уранилфторид, нагретый в присутствии влаги, гидролизуется с образованием трехокиси урана и фтористого водорода. Время подогрева до воспламенения шихты увеличивается, вероятно, вследствие реакции магния с HF и образования на нем фторидной пленки. Можно показать, что между содержанием растворимой в воде примеси в тетрафториде и временем нагрева бомбы до воспламенения существует прямая зависимость. [13]
Страницы: 1