Тонкая пленка - хром
Cтраница 1
Тонкие пленки хрома осаждают на ситалловые, керамические или стеклянные подложки методами вакуумной конденсации или пиролиза. В методе вакуумной конденсации хром испаряют из вольфрамовых или молибденовых испарителей при температуре 1200 - 1300 С; температура подложки обычно около 350 С. При таком режиме пленки хрома обладают мелкозернистой поликристал-лической структурой, достаточно воспроизводимыми и стабильными электрическими свойствами и хорошей адгезией к диэлектрическим подложкам. [1]
 |
Марки и химический состав ( в процентах металлического хрома. [2] |
Тонкие пленки хрома осаждают на ситал-ловые, керамические или стеклянные подложки методами вакуумной конденсации или пиролиза. При таком режиме пленки хрома обладают мелкозернистой поликристаллической структурой с достаточно воспроизводимыми и стабильными электрическими свойствами и хорошей адгезией к диэлектрическим подложкам. [3]
Из тонких пленок хрома изготовляют резисторы и адгезионные подслои для контактных площадок и токопроводящих коммуникаций в интегральных схемах, а также светонепроницаемые слои фотошаблонов. [4]
Травление тонкой пленки хрома в разбавленной НС1 в присутствии А1 протекает слишком агрессивно - в течение нескольких секунд, что затрудняет управление процессом и усиливает эффект подтравливания. [5]
 |
Изменение направлений оси текстуры в зависимости. [6] |
Текстура в тонких пленках хрома ( 0 05 - 1 5 мкм), полученных на стеклянных подложках при температуре 420 К, была изучена в [52], Скорость роста пленок составляла 1 нм / с. Эта текстура сохраняется при дальнейшем повышении остаточного давления. Тип текстуры в пленках наиболее сильно зависит от парциального давления кислорода. Преимущественные ориентировки не возникают при давлении кислорода, большем 10 - 3 Па. Таким образом, как и в толстых покрытиях, наибольшее влияние на процесс текстурообразования оказывает кислород остаточной среды. [7]
Получаемая на поверхности изделия тонкая пленка хрома толщиной около 5 мкм повышает не только коррозионную стойкость, но и износоустойчивость. [8]
В качестве покрытия в фотошаблонах широко применяются тонкие пленки хрома, нанесенные методом термовакуумного испарения на поверхности оптического стекла. Рисунок хромированного фотошаблона выполняется методом фотолитографии. [9]
В качестве покрытия в фотошаблонах стали применять тонкие пленки хрома, нанесенные методом термовакуумного испарения на поверхность оптического стекла, а рисунок хромированного фотошаблона выполнять методом фотолитографии. [10]
Эти исследователи сумели получить рисунки с линиями микронных размеров в тонких пленках хрома экспонированием светом ртутно-дуговой лампы без применения фильтров фоторезиста KTFR. Однако верхняя часть покрытия фоторезиста отделялась от нижних слоев около пленки хрома, а затем оседала на участках, которые должны были при травлении оставаться чистыми. [11]
 |
Наголовный щиток с сетчатым корпусом ( ГДР.| Закрытые очки с резъемным корпусом ( Франция. [12] |
Стекла пантоско-пического вида марки Skar № 7 в верхней части покрыты тонкой пленкой хрома для увеличения отражательных свойств стекла. [13]
Учитывая особенности mi политических пленок хрома, а именно высокую адгезию к подложке, повышенную механическую прочность, а также простоту нанесения тонких пленок хрома на стекло, можно ожидать, что такие хромовые покрытия могут быть использованы в производстве фотошаблонов. Действительно, в работах 178, 179 ] показана возможность использования бцс-ареновых соединений хрома для изготовления долговечных фотошаблонов. [14]
Присоединение кристалла с помощью таблетки мягкого припоя с высоким содержанием стекла производится при температуре около 300 С. Обратная сторона кристалла может иметь металлизированный слой из тонких пленок хрома и серебра, хрома и никеля, алюминия и никеля и др. Металлизированный слой на подложке может быть из никеля, золота, меди. Присоединение кристалла при помощи стекла ограничено применением керамических подложек, так как температура процесса находится в пределах 500 - 600 С. [15]
Страницы: 1 2