Плоскопараллельность

Cтраница 2

За отклонение от плоскопараллельности проверяемой меры принимают наибольшее ( по абсолютному значению) из отклонений в угловых точках меры относительно ее середины. [16]

Назначение электродов.| Размеры электродов для плоских образцов, мм.| Расположение электродов на плоском ( а, трубчатом ( б и цилиндрическом в образцах. [17]

Допускаемые отклонения от плоскопараллельности плоских образцов и от коаксиальности трубчатых, образцов - не более 2 % толщины. Метод измерения толщины и допускаемое при этом нажимное давление должны быть указаны в стандарте или технических условиях на материал. Если таких указаний не содержится, то нажимное давление выбирают равным давлению электродов при испытании. [18]

При малейшем уклонении пластинки от плоскопараллельности круглая форма полос равного наклона превращается в неправильную. Этим обстоятельством пользуются при проверке качества шлифовки плоских стеклянных поверхностей. При этом оказывается возможным заметить отклонение от плоскопараллельности на 0 00001 мм. [19]

Оптическая схема поляризационного дейтерометра.| Поляризационный дейтерометр. обший вид со снятой крышкой. [20]

Точность изготовления поверхностей пластинки и плоскопараллельность должны быть достаточно высокими. [21]

Полосы равного наклона. [22]

При малейшем уклонении пластинки от плоскопараллельности круглая форма полос равного наклона превращается в неправильную. При этом оказывается возможным заметить отклонение от плоскопараллельности на 0 00001 мм. [23]

Изотермы для тетрагональной ячейки стеклопластика при s 0 ( слева и s 0 1 ( справа, полученные методом электромоделирования. числами обозначены температуры в узловых точках. [24]

С целью проверки допущения о плоскопараллельности изотермических поверхностей, которое было положено в основу полученных формул, было проведено13 электромоделирование процесса теплопроводности в ячейках с помощью электроинтегратора ЭИ-12. [25]

Химико-механическое шлифование коронок. [26]

Способ двустороннего шлифования обеспечивает получение плоскопараллельности, достигающей 0 01 мм. [27]

После шлифования также производится контроль плоскопараллельности опорных плоскостей пластинок. [28]

Слои расположены вдоль поля, и их плоскопараллельность нарушается лишь вблизи поверхности пластинки. [29]

Схема искривления интерференционных полос отдельной риской на поверхности изделия. [30]

Страницы: 1 2 3 4