Площадь - рабочая поверхность
Cтраница 1
 |
Схема установки вакуум-фильтра. [1] |
Площадь рабочей поверхности выпускаемых отечественной промышленностью фильтров и мощность двигателей для них колеблется примерно в тех же пределах, как и у барабанных вакуум-фильтров. [2]
Площадь рабочей поверхности мембраны составляла 60 см при длине60 см. Материалом анода служила пластина, катод был сделан из титановой проволоки. [4]
Геометрия площадей рабочей поверхности шлифовальников и полировальников: а - сплошная; б, в, в - каблучная; д - кольцевая ( трубчатая); е, ж, э - секториально-кольцевая. [5]
 |
Линейная ( о и дуговая ( б асинхронные машины. [6] |
При этом площадь внешней рабочей поверхности ротора, нагруженной токами, увеличивается, что приводит к уменьшению активного сопротивления ротора. [7]
 |
Схема к перемешивания. [8] |
M - площадь эталонной рабочей поверхности пластинчатой мешалки, м2; R3 - 0 120 м - радиус эталонного сосуда; х, у, z - постоянные. [9]
 |
Свинцовый кулонметр. [10] |
Это соотношение площадей рабочих поверхностей позволяет уменьшить плотность тока и переходное сопротивление на электроде / ( практически исключить перемещение границы фаз электрод 4 - электролит), уменьшить падение напряжения на омическом сопротивлении электролита в расширенной части корпуса. [11]
Значительное увеличение площади рабочей поверхности электродов достигается в пористых элекгролах ( разд. Такие электроды широко при меняют н ХИТ. Предпринимаются попытки использования порошковых электродов, представляющих собой довольно толстый слой порошкообразного электродного материала, в который вместе с сепаратором погружается второй вспомогательный электрод. Ведутся также работы по реакторам с так называемым псевдоожиженным ( кипящим) слоем, в которых тонкий электродный порошок за счет восходящих потоков жидкости или газа распределяется по всему объему электролита и непрерывно соударяется со специальными электродами-токоотводами. [12]
 |
Фазовые траектории син-хротронных колебаний cos ( 0 5. [13] |
При вращении цилиндра площадь рабочей поверхности конденсатора меняется синусоидально. К сильно зависит от со; если же нагрузка емкостная 2И 1 / со6т, то К - const. [14]
При этом условии потеря в площади рабочей поверхности компенсируется уменьшением трудностей обработки по сравнению с полусферическими блоками. [15]
Страницы: 1 2 3 4 5