Поверхность - испарение
Cтраница 4
 |
Изображение процессов изменения состояния влажного воздуха на / - х-диаграмме. [46] |
Непосредственно над поверхностью испарения воды ( а в равной степени и над поверхностью влажного материала в начальный период сушки) образуется слой насыщенного пара ( ф 100 %), находящегося в равновесии с водой. Эту температуру, которую примет воздух в конце процесса насыщения, называют также темпераутрой адиабатического насыщения. [47]
Непосредственно над поверхностью испарения воды ( а в равной степени и над поверхностью влажного материала в начальный период сушки) образуется слой насыщенного пара ( ф 100 %), находящегося в равновесии с водой. Эту температуру, которую примет воздух в конце процесса насыщения, называют также темпераутрой адиабатического насыщения. [48]
Распределение конденсата по поверхности испарения осуществляется за счет гравитационных сил. [49]
Для горизонтальных резервуаров поверхность испарения исчисляется из среднего заполнения резервуаров на 0 75 высоты, независимо от фактической их степени заполнения. [50]
M передается через поверхность испарения в жидкую фазу. Теплота qw может расходоваться на подогрев поступающей на испарение жидкости и частично теряться в окружающую среду через ограждение жидкости. Условие теплового баланса на поверхности позволяет выявить равновесное состояние системы и со-стпстствующее ему: - начение равновесной температуры поверхности жидкости. [51]
Для этого случая поверхность испарения, согласно И. [52]
В процессе сушки поверхность испарения ( более холодная, чем наружная) постепенно перемещается внутрь тела. Диффузионный процесс перемещения водяного пара из зоны конденсации наружу происходит за счет разности парциальных давлений. [53]
В этом случае поверхность испарения резко возрастает и должна быть увеличена в 1 5 - 2 5 раза. Температура же испаряющейся жидкости принимается на 10 - 15 % ниже, чем в случае спокойной поверхности испарения. [54]
Среднее расстояние от поверхности испарения до козырьков составляло 19 мм. [55]
 |
Фильмтрудер фирмы Лува ( Швейцария. [56] |
При перемешивании раствора поверхность испарения обновляется 5 - 10 раз в секунду. Для аппаратов этого типа характерен низкий перепад давлений по сравнению с перепадом в трубчатых аппаратах и аппаратах со статическими смесителями. Обработка материалов происходит практически в изотермических условиях при небольшом времени пребывания. [57]
Страницы: 1 2 3 4