Поверхность - мишень
Cтраница 4
По отношению к потоку вторичных электронов поверхность металлической мишени в зоне воздействия на нее пучка первичных электронов является катодом. Рассмотрим условия существования вторичного плазменного пучка вблизи поверхности металла мишени, основываясь на результатах [26] по формированию плазменных пучков разрядом с накаленным катодом. [46]
 |
Равновесные потенциалы поверхности, бомбардируемой электронами. [47] |
В видиконе для поддержания равновесного потенциала поверхности мишени служит полупрозрачная проводящая пленка на поверхности стекла, на которую нанесен фотопрово-дящий слой. [48]
Вследствие этого возникает разность потенциалов между поверхностью мишени и сигнальной пластинкой. При освещении мишени сопротивление ее отдельных точек уменьшится пропорционально силе света, падающего на каждую из точек. [49]
Если энергия ионов достаточно высока, с поверхности мишени будут вылетать атомы твердого вещества. Это явление, известное как распыление, как уже отмечалось, используется для очистки поверхности в ЭСХА. [50]
Атомы, испускаемые под малыми углами к поверхности мишени, обладают высокими энергиями, как следует из законов сохранения импульса и энергии. [51]
Под действием света от объекта передачи на поверхности мишени ( состоящей из сигнальной пластины и мозаичного фотокатода создается потенциальный рельеф, соответствующий распределению освещенности оптич. Считывающий электронный луч, обегая построчно мозаичную структуру мишени, формирует в цепи сигнальной пластины видеосигнал. ОРТО -, МЕТА -, ПАРА - в химии-приставки, употребляемые в орга-нич. [52]
При считывании сеточным управлением потенциальный рельеф на поверхности мишени создает местные электростатические поля, которые могут воздействовать на проходящие вблизи мишени электроны. Такое управляющее действие местных полей аналогично действию управляющей сетки электронной лампы на электронный поток, идущий с катода на анод лампы. [53]
 |
Изготовление тонкопленочных элементов методом термовакуумного напыления через отделяемую маску.| Трехэлектродная установка катодного распыления. [54] |
Энергия бомбардирующих ионов становится достаточной для разрушения поверхности мишени. Распыленный материал осаждается на подложке, расположенной над мишенью. Для нейтрализации заряда, возникающего на мишени при распылении диэлектриков, к ней подводится ВЧ напряжение. [55]
Поперечное постоянное магнитное поле локализует плазму у распыляемой поверхности мишени и повышает эффективность распыления. [56]
Входные сигналы разворачиваются вс времени и наносятся на поверхность мишени в виде так называемого потенциального рельефа. [57]
Сигнал модулирует потенциал сетки, и потенциал элемента поверхности мишени, где в некоторый момент находится луч, равен мгновенному потенциалу сетки. Значит, после однократного пробега луча на поверхности мишени останутся система зарядов и ее потенциальный рельеф, который является записью сигнала. Эта запись может сохраняться некоторое время, так как проводимость мишени мала. [58]
Характерной особенностью является наличие замкнутого магнитного поля у распыляемой поверхности мишени, позволяющего локализовать плазму аномального тлеющего разряда непосредственно у мишени. Силовые линии в виде дуг замыкаются между полюсами магнитной системы. Поверхность мишени, расположенная между местами входа и выхода силовых линий, интенсивно распыляется и имеет вид замкнутой дорожки, геометрия которой определяется формой полюсов магнитной системы. [59]
 |
Схематическое изображение лампы тлеющего разряда. 1 - проба. 2 - разрядная ячейка. 3 - кварцевое окно. 4 - ввод газа. 5 - вакуум. [60] |
Страницы: 1 2 3 4 5