Поверхность - алмаз
Cтраница 2
С какой целью проводят предварительное хлорирование поверхности алмаза. [16]
Успех эксперимента зависит от возможности получения атомно-чистой поверхности алмаза. Дифракционная характеристика решетки типа алмаза была получена после сравнительно мягкой термической обработки [18] ( прокаливание при 300), хотя предварительные опыты с германием и кремнием показали, что такая обработка не обеспечивает подходящих условий для получения чистой поверхности. [17]
Полученные экспериментальные данные по смачиваемости, например, поверхности алмаза различным составом феноло-формальдегидной смолы хорошо согласуются с результатами испытаний алмазных шлифовальных кругов на органической связке. Технология производства шлифовальных кругов на органической связке заключается в горячем прессовании смеси порошков пульвербакелита, алмаза и наполнителя. Это, видимо, связано с развивающимися в связке процессами деструкции, ослабляющими адгезию и закрепление абразивных зерен. [18]
 |
Узлы сетки стереографического треугольника, изображающие нормали граней полиэдрических форм роста алмаза ( 14 [ ПО ]. [19] |
Формирование алмазного габитуса зависит от концентрации свободных радикалов Nг на поверхности алмаза. Последняя минимальная для атомно-чистых сингулярных граней ( 100), 110 и 111, атомы которых с точностью до сверхструктурных эффектов второго порядка принадлежат одной геометрической плоскости. Повышенными значениями N, характеризуются квазисипгуляриыс грани переменных форм роста ( 210), ( 211), ( 221), ( 321), поверхностная структура которых образована атомами, не принадлежащими одной геометрической плоскости. Несингулярные грани в отличие от квазисингулярных имеют развитую субструктуру, образованную атомными ступенями либо их изломами. [20]
 |
Номограмма зависимости v f ( 2a при p const. [21] |
Капли водных растворов ПАВ, в связи с малыми размерами поверхности алмаза наносились медицинским шприцем с тонкой иглой, внутренний диаметр которой равен 0 1 мм. Через 1 - 2 мин после нанесения капли измеряли параметр 2 а ( диаметр капли) и взвешивали образец. [22]
Этими исследованиями показано, что при контакте жидкого металла с поверхностью алмаза и графита достаточной степени смачивания следует ожидать в тех случаях, когда металл интенсивно взаимодействует с углеродом, образуя прочные карбиды или значительно растворяя углерод. Такое взаимодействие возможно с участием в качестве одного из компонентов сплава переходных металлов или других элементов, образующих прочные карбиды. Краевой угол смачивания 6 поверхности алмаза в вакууме при Т-1150 С составляет 140 для чистой меди и 37 для меди легированной хромом в. [23]
 |
Зависимость частоты попе. [24] |
При обсуждении методов калибровки давлений было отмечено также, что на поверхности алмаза, подвергающейся действию давления, возникает градиент давления, который, по-видимому, невозможно устранить. [25]
При выборе режимов выглаживания устанавливают силу выглаживания, радиус рабочей части поверхности алмаза, подачу, скорость обработки, число рабочих ходов и СОЖ. Сила выглаживания не должна превышать 25 кгс, так как в противном случае деформируются тонкостенные и нежесткие заготовки, увеличивается температура в зоне обработки и повышается износ алмаза. [26]
Было замечено, что плоскости ( 100) и ( 111) поверхности алмаза [37] при комнатной температуре значительно более устойчивы, чем соответствующие плоскости Ge и Si. Дальнейшее увеличение экспозиции до 10 ( мм рт. ст.) - мин вызывало лишь небольшие изменения этих потоков. Однако потоки полуцелочисленного порядка от грани ( 111) ослаблялись на 40 %, что указывает на образование правильной решетки кислорода на указанной грани. На грани ( 100) это не имело места, следовательно, образовывался аморфный адсорбированный слой. Опыты при повышенных температурах показали, что для адсорбции требуется энергия активации и что кислород в обоих случаях образует правильную решетку. [27]
Поэтому при использовании величины g в качестве критерия степени шероховатости ( дефектности) поверхности алмазов это обстоятельство необходимо учитывать. [28]
Подобное же объяснение формы ямок давали Эванс и Соутер [110], рассматривая травление поверхности алмаза кислородом. Согласно общепринятой теории [111, 112] механизма образования ямок травления, для возникновения ярко выраженных ямок требуется по крайней мере два агента, один из которых действует как ингибитор, а другой - как травящее вещество. Таким образом, чтобы объяснить структуру гексагональных ямок, кроме кислорода и графита нужно иметь по крайней мере еще одно вещество. Таким веществом, по всей вероятности, является поверхностный окисел, возникающий в результате хемосорбции СЬ или продуктов реакции окисления. Для обнаружения и идентификации поверхностных окислов, образующихся на монокристаллах графита с такой малой площадью поверхности, необходима чрезвычайно чувствительная аппаратура. Но можно предположить, что менее ярко выраженные террасы внутри ямок, образующиеся при более высоких температурах, возникают благодаря уменьшению устойчивости поверхностных окислов при этих температурах, а значит, и уменьшению их ингибирующего действия. Однако при такой интерпретации приходится считать, что некоторые кромки базисных плоскостей более склонны к образованию поверхностных окислов, чем другие. [29]
Испытание модифицированных алмазов в абразивном инструменте на бакелитовой связке показало, что модифицирование поверхности алмазов растворами органилсиликонатов натрия, как правило, снижает расход алмазов при обработке твердого сплава ВК-15. Эффективность аппрета зависит от его состава и концентрации. [30]
Страницы: 1 2 3 4