Заряженная поверхность

Cтраница 4

Есина - Маркова на заряженных поверхностях. Как следует из современных статистических теорий, гексагональное распределение специфически адсорбированных ионов при небольших заполнениях получается как наиболее вероятное. [46]

Выше мы видели, что заряженные поверхности являются особенными для напряженности поля в том смысле, что при переходе через эти поверхности напряженность претерпевает скачок. [47]

Оптимально расположенный источник ( 5-частиц. [48]

Наиболее важную роль в нейтрализации заряженных поверхностей играют ионы, образовавшиеся в непосредственной близости от поверхности. Их располагают на таком расстоянии от поверхности, чтобы можно было получить интенсивную ионизацию ( максимальное число ионов) перед заряженной поверхностью. [49]

Таким образом, на элемент заряженной поверхности действует сила, составляющая которой по нормали к поверхности равна произведению заряда этого элемента на арифметическое среднее значений нормальной составляющей напряженности по обе стороны поверхности. [50]

Выделим мысленно около рассматриваемой точки заряженной поверхности прямую призму с образующими d /, перпендикулярными к поверхности. [51]

Выделим мысленно около рассматриваемой точки заряженной поверхности прямую призму с образующими dl, перпендикулярными к поверхности. [52]

Выделим мысленно около рассматриваемой точки заряженной поверхности прямую призму с образующими dl, перпендикулярными к поверхности. [53]

При приближении разрядного электрода к заряженной поверхности жидкости на ней под действием электростатического притяжения возникает выпуклость. Когда расстояние между поверхностью жидкости и электродом ( разрядный промежуток) уменьшается настолько, что напряженность поля достигает пробивного значения, возникает искровой разряд. При неизменном расстоянии разряды повторяются. Длительность временных интервалов между разрядами определяется тем, как быстро разрядившийся участок поверхности жидкости под разрядным электродом зарядится вновь. Дальнейшее уменьшение разрядного промежутка приводит к возникновению разрядов при потенциале поверхности жидкости под разрядным электродом меньшим, чем потенциал зарядного электрода. При этом уменьшается переносимый разрядом заряд и, следовательно, амплитуда возникающего на входе анализатора импульса. Если продолжать приближение разрядного электрода, возникшая на поверхности жидкости выпуклость достигает поверхности электрода ( происходит залипание), образуется перемычка, в которой жидкость непрерывно циркулирует [118, 119], и разряды прекращаются. [54]

В диффузной части ДЭС для слабо заряженной поверхности изменение потенциала с расстоянием подчиняется экспоненциальной зависимости. [55]

В случае адсорбции анионов на положительно заряженной поверхности подобный скачок потенциала оказывается направленным в противоположную сторону по сравнению со скачком потенциала в двойном ионном слое. Суммарная разность потенциалов между металлом и раствором уменьшается. Для ее компенсации количество зарядов в двойном ионном слое должно быть увеличено. В сочетании с утечкой заряда из ионной обкладки двойного слоя к металлу это приводит к заметному увеличению емкости электрода. [56]

Уточненная модель двойного слоя. [57]

Если внешнее электрическое поле приложено параллельно заряженной поверхности, то на ионы в двойном диффузионном электрическом слое действует сила, направленная вдоль поверхности и приводящая к миграции ионов вдоль стенки, а следовательно, и всего раствора электролита. [58]

Различное расстояние внешних электронов от положительно заряженной поверхности атомов, различное число таких электронов на одинаковом пли различном удалении от поверхности и середины атомов обусловливают, по Штарку, различие в свойствах атомов различных элементов. В частности, строение электроположительных ( р -) и электроотрицательных ( п -) элементарных атомов Штарк иллюстрирует следующими схемами [ там же, стр. [59]

В результате электростатического притяжения ионов заряженной поверхностью, с одной стороны, и хаотического теплового движения молекул, с другой стороны, под влиянием которого ионы стремятся равномерно распределиться в растворе, ионная обкладка приобретает диффузное строение. [60]

Страницы: 1 2 3 4 5