Дальнейшее повышение - величина - Большая Энциклопедия Нефти и Газа, статья, страница 1
Спонсор - это человек, которому расстаться с деньгами проще, чем объяснить, откуда они взялись. Законы Мерфи (еще...)

Дальнейшее повышение - величина

Cтраница 1


1 Зависимость коэффициента вторичной эмиссии с. [1]

Дальнейшее повышение величины ат до 10 и более может быть достигнуто путем нового нагревания в атмосфере кислорода.  [2]

3 График влияния КМЦ-600 на развитие деформаций в 12 2 % - ной дисперсии палыгорскита до ( / я после ( 7 автоклавной обработки. [3]

Дальнейшее повышение величины добавки ПАВ резко меняет характер протекания деформационного процесса. В результате стабилизационного диспергирования системы существенно увеличивается ее устойчивость с переходом в нулевой структурно-механический тип. Период истинной релаксации достигает максимальных для данных опытов значений, а прочность пространственной структуры становится весьма высокой, судя по величинам условного модуля деформации и условного статического предела текучести.  [4]

При дальнейшем повышении величины поляризующего тока наблюдается третий перегиб, который отвечает потенциалу выделения металлического циркония и составляет следующие величины в зависимости от температуры: 700 С - 2 14 в, 750 С - 2 02 в, 800 С - 1 828 0, 850 С - 1 67 в. Возможно, этот перегиб связан с преимущественным разрядом ионов Zr4 до металла.  [5]

Увеличение температуры автоклавирования до 200 С вызывает дальнейшее повышение величин предельного статического напряжения сдвига и водоотдачи.  [6]

Вначале с ростом величины горячего резерва экономия топлива, вызываемая передачей части нагрузки с полностью загруженных агрегатов ( в случае, когда резерва нет) резервным агрегатам, превышает дополнительный расход топлива на пуск, холостой ход и собственные нужды резервных агрегатов и, следовательно, обеспечивается определенная экономия топлива. С дальнейшим повышением величины горячего резерва экономия топлива постепенно перестает сказываться и остается дополнительный расход топлива, определяемый вновь включаемыми резервными агрегатами.  [7]

8 Сухой электролитический конденсатор. а - схема укладки фольги и прокладок. б - общий вид. в - оксидный слой на анодной фольге до травления. г - оксидный слой на анодной фольге после травления. [8]

Химическое травление позволяет увеличить поверхность, а следовательно, и емкость Суд до шести-семи раз по сравнению с гладким анодом. Обычно ограничиваются таким увеличением только в три-четыре раза, ибо дальнейшее повышение величины С уд требует значительной глубины травления, что связано с применением более толстой фольги.  [9]

10 Диаграмма распределения давлений в трубе постоянного сечения при. сверхзвуковой скорости на. входе. [10]

С повышением противодавления е2 внутри рассматриваемой трубы вначале никаких изменений не происходит, а на ее срезе по мере возрастания величины е2 последовательно возникают конические скачки, затем мостооб-разные и, наконец, при ггеь - прямой скачок уплотнения. Дальнейшее повышение величины 61: ( 82еь) приводит к смещению прямого скачка внутрь трубы.  [11]

Изменение свойств промывочных жидкостей, приготовленных на отстое, имеющем рН 9, уже заметны. Вязкость таких систем значительно ниже, чем затворенных на воде. Дальнейшее повышение величины рН до 13 2 мало влияет на растворимость получаемого препарата. Установлено, что щелочь и кальцинированная сода обусловливают примерно одинаковое инициирование реакции активации гидролизного лигнина при равных величинах рН среды, хотя расход последней несколько выше, чем расход щелочи.  [12]

Перейдем теперь к рассмотрению структур с цилиндрическими магнитными доменами ( ЦМД), Как уже отмечалось выше, в пластинке с перпендикулярной легкой осью анизотропии при / ( L / 2n / s 1 намагниченность в отдельных доменах ориентирована перпендикулярно поверхностям пластинки, вдоль легкой оси. При наложении внешнего магнитного поля, перпендикулярного поверхности пластинки, образец должен намагнититься до насыщения в одном направлении. При дальнейшем повышении величины поля существует область устойчивости ЦМД, в которой радиус сравнительно слабо зависит от величины поля, и, наконец, при достижении некоторого критического значения поля Hk домены необратимо коллапсируют за очень малый промежуток времени, определяемый подвижностью границы, и пластинка намагничивается до насыщения.  [13]

Как уже отмечалось выше, в пластинке с перпендикулярной легкой осью анизотропии при K / 2nIs 1 намагниченность в отдельных доменах ориентирована перпендикулярно поверхностям пластинки, вдоль легкой оси. При наложении внешнего магнитного поля, перпендикулярного поверхности пластинки, образец должен намагнититься до насыщения в одном направлении. При дальнейшем повышении величины поля существует область устойчивости ЦМД, в которой радиус сравнительно слабо зависит от величины поля, и, наконец, при достижении некоторого критического значения поля Hk домены необратимо коллапсируют за очень малый промежуток времени, определяемый подвижностью границы, и пластинка намагничивается до насыщения.  [14]

Форма кривой Максвелла приведена на рис. 107, б: по горизонтальной оси располагаются величины отклонений от нуля, а по вертикальной оси частота их появления. Применительно к торцовому биению это представляется так: какое-то количество деталей не имеют биения ( оно равно нулю), затем с увеличением значений биения увеличивается и частота их повторения. В зависимости от точности технологического процесса увеличение частоты повторения биений ограничивается определенным пределом величины биения Хтах - При дальнейшем повышении величины биения количество деталей с такими величинами биения уменьшается.  [15]



Страницы:      1    2