Полупроводниковое покрытие - Большая Энциклопедия Нефти и Газа, статья, страница 1
Закон Сигера: все, что в скобках, может быть проигнорировано. Законы Мерфи (еще...)

Полупроводниковое покрытие

Cтраница 1


Полупроводниковое покрытие наносится на металлическую подложку путем испарения в вакууме. Полупроводниковый слой селена, окиси цинка, фосфора или селенистого кадмия может храниться на свету. Затем селеновую пластину сенсибилизируют, то есть делают чувствительной к свегу.  [1]

2 Идентификация прямых линий путем измерения расстояния по нормали между отрезком прямой и позицией курсора. [2]

На поверхности полупроводникового покрытия ( специальная бумага) генерируется такое электрическое поле, чтобы потенциал на указке мог быть использован для определения ее положения.  [3]

Среди различных методов получения металлических, диэлектрических и полупроводниковых покрытий метод термического разложения металлоорганических соединений ( МОС) является наиболее перспективным. Применение МОС для этой цели основано на том, что при их разложении в зависимости от условий проведения процесса и типа используемых веществ образуются элементы или соединения, чистота которых в основном определяется степенью чистоты исходных МОС.  [4]

5 Конструкции катодов прямого накала. для цилиндрических систем электродов, б - для плоских систем электродов. [5]

Лучшими по своим свойствам являются катоды с полупроводниковым покрытием в виде окислов ( оксидов) щелочно-земельных металлов - бария и стронция. Эти катоды называются оксидными. Оксидные катоды обладают меньшей работой выхода.  [6]

Все сказанное дает основание к развертыванию работ в области полупроводниковых покрытий линейных и подстанцишных изоляторов для районов с очень сильным загрязнением.  [7]

Электропроводность контактов должна в 20 и более раз превышать проводимость самого полупроводникового покрытия на стекле.  [8]

9 Электрическая схема вакуумного агрегата установки на. [9]

Рассмотрим типовые участки схемы установки ва-куумного напыления, предназначенной для нанесения на поверхность стеклянной подложки металлических или полупроводниковых покрытий методом термического испарения Е вакууме.  [10]

При замыкании ключа 5 между электродом и электрофотографическим материалом возникает коронный заряд, в процессе которого осуществляется осаждение ионов определенной полярности на поверхности полупроводникового покрытия.  [11]

12 Коэффициент ослабления V, входящие. в ираженме для усиления лампы бегущей волны ( влияние неоднородности в начале спирали. [12]

Значительно более выгодным способом устранения обратной связи является применение сосредоточенных ( локальны) затуханий, заключающееся в нанесении на коротком участке в середине спирали полупроводникового покрытия. Бегущая в обратном направлении волна на этом участке почти полностью поглощается; почти исчезает и продольная составляющая электрического поля прямой волны, но переменные составляющие схорости и конвекционного тока в луче сохраняются.  [13]

14 Типы поверхностей, обычно используемые при конструировании тепловых устройств L - 13J.| Спектральная направленная отражательная способность ( 0 - 0 пленок различной толщины для эпоксидной черной краски на алюминиевой подложке ( а для PV-IOQ, силиконалкпдной белой краски па алюминиевой подложке ( и и для Х-500 но-лиуретановоп прозрачной пленки на алюминиевой подложке ( в [ 4bl. [14]

Селективный солнечный поглотитель имеет высокую поглощательную способность при малых длинах волн и низкую степень черноты в длинноволновой области Такими свойствами обладает металлическая поверхность с тонким полупроводниковым покрытием. Можно также использовать покрытия, полученные на алюминии в результате напыления и обжига и образованные осаждением в вакууме пленки.  [15]



Страницы:      1    2