Cтраница 1
Интерференционное поле, образующееся в области перекрытия опорной и предметной волн, конечно, не локализовано на поверхности фотопластинки. Как и в любом опыте с когерентными волнами, места повышенных и пониженных значений амплитуды суммарного колебания распределены во всем пространстве по тому или иному закону, зависящему от вида волновых фронтов. Поэтому в слое фоточувствительной эмульсии, всегда обладающем некоторой толщиной, образуется трехмерная структура почернений, а не двумерная, как приближенно предполагалось нами ранее. X), которые, как сейчас выяснится, находят интересные применения в голографии. [1]
Интерференционное поле, образующееся в области перекрытия опорной и предметной волн, конечно, не локализовано на поверхности фотопластинки. Как и в любом опыте с когерентными волнами, места повышенных и пониженных значений амплитуды суммарного колебания распределены во всем пространстве по тому или иному закону, зависящему от вида волновых фронтов. Поэтому в слое фоточувствительной эмульсии, всегда обладающем некоторой толщиной, образуется трехмерная структура почернений, а не двумерная, как приближенно предполагалось нами ранее. Вместе с тем, законы дифракции света на трехмерных структурах имеют свои особенности ( см. гл. X), которые, как сейчас выяснится, находят интересные применения в голографии. [2]
Интерференционное поле в случае использования метода двух экспозиций будет стационарно: его можно использовать в любое время после получения голограммы. С помощью методов классической интерферометрии эту задачу выполнить сложно. [3]
Интерференционное поле в окрестности нагретой стенки ( затенена) идентично интерференционному полю, соответствующему мнимому клину, если волновые фронты после прохождения через рабочую часть снова становятся параллельными ( показаны только два волновых фронта); т - т - плоскость фокусировки, проходящая через ось С мнимого клина в окрестности стенки; Рт - точка объекта; б - толщина пограничного слоя. [4]
Интерференционное поле опять является нелокализованным. [5]
Интерференционное поле в случае метода двойной экспозиции является стационарным, и его можно анализировать, когда угодно. [6]
Интерференционное поле стоячих волн, возникающее в толще фотоэмульсии, вызывает ее слоистое почернение, которое регистрирует распределение как амплитуд, так и фаз волнового поля, рассеянного объектом наблюдения. На рис. 288 слои почернения схематически показаны в виде системы волнистых линий. Разумеется, конфигурация этих слоев во всей фотоэмульсии может быть весьма причудливой, так как плоской является лишь опорная волна, а волновые фронты, распространяющиеся от освещенного объекта наблюдения, ориентированы по-разному. [7]
Это интерференционное поле мнимого клина уже было представлено на фиг. [8]
В интерференционном поле благодаря интерференции происходит перераспределение освещенности - образуются интерференционные полосы. [9]
![]() |
Билинза Бийе. [10] |
Точка М интерференционного поля имеет освещенность, зависящую от разности хода двух интерферирующих лучей. QzSzRz между лучами, определяющими перекрывающиеся части пучков. [11]
![]() |
Расположение Юнга. /. SiSS 2cu - апертура интерференции для любой точки поля. Z. RiSiQi /. R S Q 2 ( p - апертура перекрывающихся пучков для бесконечно удаленного экрана. [12] |
Угловой размер интерференционного поля очень велик. [13]
Угол наклона интерференционного поля относительно плоскости фокусировки ( фиг. Положение плоскости фокусировки 1т - 1т выбрано так, чтобы она совпадала с клином. [14]
Для записи интерференционного поля необходимо поместить в него среду, оптические свойства которой изменялись бы под воздействием этого поля. [15]