Полиариленсульфоноксид

Cтраница 1

Полиариленсульфоноксиды получают взаимодействием галоге-нированных диарилсульфонов с фенолятами металлов или конденсаций по Фриделю-Крафтсу хлорсульфированных простых ароматических эфиров. [1]

Электрические свойства полисульфонов. [2]

Полиариленсульфоноксиды отличаются высокой стойкостью к действию ионизирующих излучений. [3]

Химическая стойкость полиариленсульфоноксидов. [4]

Полиариленсульфоноксиды используют главным образом в самолетостроении, производстве бытовых электроприборов, упаковочных материалов, в электротехнике. Применение специальных типов полисульфонов определяется температурой длительной эксплуатации и их стоимостью. Чисто ароматический полисульфон может использоваться в таких областях, где требуется высокая термостойкость и где ранее применяли только керамику, реактопласты или отливки из цинка, бронзы, свинца. [5]

Полиариленсульфоноксиды представляют собой аморфные полимеры с температурой стеклования выше 170 С. Температура стеклования зависит от соотношения простых эфирных и сульфосвязей в элементарном звене, характера соединения ароматических ядер, а также от строения и содержания алифатических групп в цепи полимера. [6]

Полиариленсульфоноксиды на основе дихлор-дифенилсульфона и дифенилолпропана при комнатной температуре растворяются в кетонах, например в ацетофеноне и цнклогекса-ноне, хлорированных углеводородах, таких, как метиленхлорид, хлороформ, тетрахлорэтан, циклических эфирах типа диоксана и тетрагидрофурана, полярных ароматических углеводородах - хлорбензоле и дихлорбензоле, диметилформамиде, диметилацетамиде и N-метилпирролидоне. В процессе выдержки растворов таких полимеров в некоторых растворителях происходит их помутнение за счет выпадения кристаллических олигосульфонов. [7]

Полиариленсульфоноксиды являются термопластичными конструкционными материалами, сочетающими высокую прочность, жесткость, твердость и ударную вязкость в широком температурном интервале с хорошими диэлектрическими свойствами и отличной химической стойкостью. [8]

В табл. 5.20 Полиариленсульфоноксиды расположены в порядке повышения температуры стеклования. Температура стеклования полимеров, содержащих только n - замещенные фениленовые группы, соединенные между собой простыми эфирными и сульфоно-выми связями, повышается с увеличением количества сульфоно-вых групп и доли непосредственно связанных между собой фениленовых циклов в элементарном звене полимера. [9]

Термогравиметрические кривые полисульфона ( Полимер 360.| Кривые термической деструкции чисто ароматических полисульфонокси.| Зависимость молекулярной массы золь-фракции полисульфона на основе дихлордифенилсульфона и дифенилолпропана от дозы облучения. [10]

По сравнению с другими полимерами полиариленсульфоноксиды отличает высокая стойкость к действию ионизирующих излучений. Деструкция и структурирование протекают параллельно. При дозе выше 200Мрад содержание гель-фракции ( 70 %) остается постоянным. [11]

Кривые текучести ароматических полиариленсульфоноксидов.| Кривая текучести полиариленсульфоноксида дифенилолпропана и ди-хлордкфенилсульфона при 240 С и низкой скорости сдвига.| Кривые текучести расплавов полимеров при 232 С. / смесь полиариленсульфоноксида с АБС-пластиком. 2 - полидиметилфениленоксид с полистиролом. 3 - полистирол. [12]

В табл. 5.21 приведены условия экструзии полиариленсульфоноксидов. [13]

Линейные ароматические полимеры, построенные по этому принципу, такие, как полифениленоксиды, полиарилаты, поликарбонаты или полиариленсульфоноксиды хотя и обладают по сравнению с поли-п-фениленом пониженной термостойкостью, однако вследствие повышенной гибкости цепей могут перерабатываться в изделия из раствора или расплава. [14]

Полиариленсульфоноксиды представляют собой термопласты с высокой стойкостью к окислительной деструкции. Сульфогруппа образует с соседними ароматическими ядрами сопряженную систему с высокой степенью резонансной стабилизации. Энергия распределяется по всей молекуле и не приводит к разрыву цепи. Нагревание полисульфона на основе дихлордифенилсульфона и дифенилолпропана в вакууме выше 380 С сопровождается структурированием и деструкцией полимера. [15]

Страницы: 1 2