Полиолефинсульфон
Cтраница 1
Полиолефинсульфон в этом резисте определяет способность новолачной матрицы к растворению в щелочах, подобно хинондиазидам в позитивных фоторезистах [ пат. По-видимому, NPR будет использован как для приготовления масок, так и при прямом экспонировании резистного слоя на кремниевых подложках. Аналогичный материал разработан фирмой Hitachi ( Япония) [ пат. Сополимеры SO2 и винилтриалкилсила-нов обладают не только высокой чувствительностью, но и стойкостью к кислородной плазме [ пат. [1]
Полиолефинсульфон в этом резисте определяет способность новолачной матрицы к растворению в щелочах, подобно хинондиазидам в позитивных фоторезистах [ пат. По-видимому, NPR будет использован как для приготовления масок, так и при прямом экспонировании резистного слоя на кремниевых подложках. Аналогичный материал разработан фирмой Hitachi ( Япония) [ пат. Сополимеры S02 и винилтриалкилсила-нов обладают не только высокой чувствительностью, но и стойкостью к кислородной плазме [ пат. [2]
Возможно, что образовавшиеся при экспонировании фрагменты полиолефинсульфона структурируют НС при термолизе. Аналогичные спектральная картина и поведение полиолефинсуль-фонов в слоях наблюдались в композициях с бромированным по-ли-п-гидроксистиролом [18, 19] ( см. также гл. [3]
Возможно, что образовавшиеся при экспонировании фрагменты полиолефинсульфона структурируют НС при термолизе. Аналогичные спектральная картина и поведение полиолефинсуль-фонов в слоях наблюдались в композициях с бромированным по-ли-я-гидроксистиролом [18, 19] ( см. также гл. [4]
 |
Зависимость (. / M / ( S / M0 от х для червеобразной цепи.| Зависимость iflM от М для молекул полихлоргексшшноцианата ( / и карбани-лата целлюлозы ( 2 в диоксане. [5] |
Таким образом, коопе-ративность внутренних вращений в молекулах полиолефинсульфона возникает не за счет кинетической жесткости его молекул ( как предполагается в работе [55]), а в силу чисто геометрических условий дипольного строения, молекулярной цепи. [6]
Однако в этих случаях крутильные колебания проявляются на фоне неупорядоченных поворотно-изомерных конформаций цепи, и теоретическое рассмотрение динамик-и становится сложным. Крутильно-колебательная релаксация на опыте в подобных случаях маскируется ориентацией цепи как целого. Однако есть намеки [49, 50] на возможность экспериментального наблюдения собственного крутиль-но-колебательного вклада в полиолефинсульфонах. [7]
Различные алкилсульфоны подвергаются фотогомолизу связей С - SO2 но полиолефинсульфоны не имеют поглощения в области спектра далее 215 нм, поэтому они не интересны как резисты для глубокого УФ-света. Однако существует возможность сенсибилизировать их распад веществами, поглощающими более длинноволновый свет. В системе поли-2 - метил-1 - пентенсульфон кре-зольная НС вместо аддитивности спектров наблюдается резкое усиление полосы в области 280 нм, первоначально отвечающей НС. Очевидно, имеет место комплексообразоваиие. Позитивное изображение шаблона получают на подложке, если слой проявляют щелочным проявителем. По-видимому, НС в рассматриваемой системе является сенсибилизатором разложения полиолефинсульфона ( масс-спектрометрически идентифицированы 2-метил - 1-пентен и 862), а полиолефинсульфон - гидрофобным веществом, затрудняющим растворение НС в щелочи. Механизм переноса энергии от НС к полиолефинсульфону требует выяснения. [8]
Различные алкилсульфоны подвергаются фотогомолизу связей С - SO2, но полиолефинсульфоны не имеют поглощения в области спектра далее 215 нм, поэтому они не интересны как резисты для глубокого УФ-света. Однако существует возможность сенсибилизировать их распад веществами, поглощающими более длинноволновый свет. В системе поли-2 - метил-1 - пентенсульфон кре-зольная НС вместо аддитивности спектров наблюдается резкое усиление полосы в области 280 нм, первоначально отвечающей НС. Очевидно, имеет место комплексообразование. Позитивное изображение шаблона получают на подложке, если слой проявляют щелочным проявителем. По-видимому, НС в рассматриваемой системе является сенсибилизатором разложения полиолефинсульфона ( масс-спектрометрически идентифицированы 2-метил - 1-пентен и SO2), а полиолефинсульфон - гидрофобным веществом, затрудняющим растворение НС в щелочи. Механизм переноса энергии от НС к полиолефинсульфону требует выяснения. [9]
Различные алкилсульфоны подвергаются фотогомолизу связей С - SO2 но полиолефинсульфоны не имеют поглощения в области спектра далее 215 нм, поэтому они не интересны как резисты для глубокого УФ-света. Однако существует возможность сенсибилизировать их распад веществами, поглощающими более длинноволновый свет. В системе поли-2 - метил-1 - пентенсульфон кре-зольная НС вместо аддитивности спектров наблюдается резкое усиление полосы в области 280 нм, первоначально отвечающей НС. Очевидно, имеет место комплексообразоваиие. Позитивное изображение шаблона получают на подложке, если слой проявляют щелочным проявителем. По-видимому, НС в рассматриваемой системе является сенсибилизатором разложения полиолефинсульфона ( масс-спектрометрически идентифицированы 2-метил - 1-пентен и 862), а полиолефинсульфон - гидрофобным веществом, затрудняющим растворение НС в щелочи. Механизм переноса энергии от НС к полиолефинсульфону требует выяснения. [10]
Различные алкилсульфоны подвергаются фотогомолизу связей С - SO2, но полиолефинсульфоны не имеют поглощения в области спектра далее 215 нм, поэтому они не интересны как резисты для глубокого УФ-света. Однако существует возможность сенсибилизировать их распад веществами, поглощающими более длинноволновый свет. В системе поли-2 - метил-1 - пентенсульфон кре-зольная НС вместо аддитивности спектров наблюдается резкое усиление полосы в области 280 нм, первоначально отвечающей НС. Очевидно, имеет место комплексообразование. Позитивное изображение шаблона получают на подложке, если слой проявляют щелочным проявителем. По-видимому, НС в рассматриваемой системе является сенсибилизатором разложения полиолефинсульфона ( масс-спектрометрически идентифицированы 2-метил - 1-пентен и SO2), а полиолефинсульфон - гидрофобным веществом, затрудняющим растворение НС в щелочи. Механизм переноса энергии от НС к полиолефинсульфону требует выяснения. [11]
Различные алкилсульфоны подвергаются фотогомолизу связей С - SO2 но полиолефинсульфоны не имеют поглощения в области спектра далее 215 нм, поэтому они не интересны как резисты для глубокого УФ-света. Однако существует возможность сенсибилизировать их распад веществами, поглощающими более длинноволновый свет. В системе поли-2 - метил-1 - пентенсульфон кре-зольная НС вместо аддитивности спектров наблюдается резкое усиление полосы в области 280 нм, первоначально отвечающей НС. Очевидно, имеет место комплексообразоваиие. Позитивное изображение шаблона получают на подложке, если слой проявляют щелочным проявителем. По-видимому, НС в рассматриваемой системе является сенсибилизатором разложения полиолефинсульфона ( масс-спектрометрически идентифицированы 2-метил - 1-пентен и 862), а полиолефинсульфон - гидрофобным веществом, затрудняющим растворение НС в щелочи. Механизм переноса энергии от НС к полиолефинсульфону требует выяснения. [12]
Различные алкилсульфоны подвергаются фотогомолизу связей С - SO2, но полиолефинсульфоны не имеют поглощения в области спектра далее 215 нм, поэтому они не интересны как резисты для глубокого УФ-света. Однако существует возможность сенсибилизировать их распад веществами, поглощающими более длинноволновый свет. В системе поли-2 - метил-1 - пентенсульфон кре-зольная НС вместо аддитивности спектров наблюдается резкое усиление полосы в области 280 нм, первоначально отвечающей НС. Очевидно, имеет место комплексообразование. Позитивное изображение шаблона получают на подложке, если слой проявляют щелочным проявителем. По-видимому, НС в рассматриваемой системе является сенсибилизатором разложения полиолефинсульфона ( масс-спектрометрически идентифицированы 2-метил - 1-пентен и SO2), а полиолефинсульфон - гидрофобным веществом, затрудняющим растворение НС в щелочи. Механизм переноса энергии от НС к полиолефинсульфону требует выяснения. [13]
Страницы: 1