Cтраница 2
Целесообразность применения специализированной ЭВМ в данном случае определяется требованием высокой скорости программного управления положением электронного луча. [16]
Сравнение зон плавления, получающихся при. сварке электронным лучом ( Л и обычной электродуговой сварке ( Аа 1255 ]. [17] |
В настоящее время выпускается серийное оборудование для электронно-лучевой сварки с мощностью луча 3 - 25 кВт и рабочими напряжениями 30 - 150 кВ [259] Дальнейшее совершенствование этого способа развивается по пути увеличения рабочих напряжений, что приведет к уменьшению диаметра луча и, следовательно, к большей глубине сварки, сужению зоны и более высоким скоростям сварки. Обычно положение электронного луча фиксируется, а свариваемые детали или вращаются, или перемещаются на координатном столе с помощью соответствующих приспособлений. [18]
При этом в фотоэлектронные умножители попадает разное количество световой энергии, что приводит к появлению сигнала рассогласования. Сигнал рассогласования после усиления в дифференциальном усилителе с большим коэффициентом усиления используется для корректировки положения электронного луча. [19]
При первом способе носитель информации разбивают на ряд областей - страниц. Обращение к началу каждой страницы происходит с помощью УДАЭЛ, которое обеспечивает количество дискретных положении электронного луча, равное количеству страниц. После нахождения начала страницы происходит последовательная развертка электронного луча по носителю информации и считывание по идущим подряд адресам. Без разбивки носителя информации на страницы с отдельным обращением к каждой среднее время ожидания было бы больше во столько раз, сколько страниц умещается на носителе информации. [20]
Так как усилительные свойства p - n - переходов в общем случае отличаются, то для начальной балансировки схемы необходимо изменять в небольших пределах сопротивление одного из резисторов. Быстродействие датчика, определяемое в основном быстродействием диодов, достаточно высокое, поэтому его применяют в высокочастотных схемах управления положением электронного луча. [21]
Дисковое фотоскопическое запоминающее устройство. [22] |
Обращение к этим точкам или запоминающим элементам как при записи, так и при считывании информации обеспечивается множеством световых лучей ( по количеству разрядов в числе), создаваемых одной электронно-лучевой трубкой и группой параллельных линзовых объективов, каждый из которых проецирует точечное световое пятно экрана на множество соответствующих точек всех участков фотоэмульсии. За фотопластинкой помещается фотоумножитель, на выходе которого при считывании и получаются сигналы в виде импульсов напряжения, соответствующие считываемой информации. Положение электронного луча управляется с высокой степенью точности при помощи специально разработанной системы с обратной связью. В этой системе положение луча в каждый момент считывается специальным устройством в виде декартовых координат луча в двоичном коде. [23]
Программу коррекции в режиме записи получают с помощью электронного луча, который разворачивается относительно стыка отклоняющей системой согласно закону изменения сигнала, вырабатываемого блоком генератора развертки. Поток вторичных электронов улавливается датчиком КВЭ и преобразуется в блоке выделения и кодирования временных интервалов ( БВИ) в отмечающие импульсы. Временное положение этих импульсов относительно опорных - это информация о необходимости коррекции положения электронного луча. Код временного интервала с БВИ поступает в блок преобразователя код-ток ( БПКТ) отклоняющей системы и преобразуется им в управляющий сигнал, с помощью которого устраняется рассогласование положения электронного луча и стыка детали. [24]
Как нам уже известно, выходное напряжение усилителя постоянного тока всегда устанавливается таким, что сумма токов, притекающих к суммирующей точке, а следовательно, сумма выходного напряжения фотоумножителя и напряжения с выхода потенциометра Я равняется нулю. Подадим выходное напряжение усилителя постоянного тока на вертикальные отклоняющие пластины трубки, а ручку потенциометра П отрегулируем таким образом, что бы указанное состояние равновесия достигалось в том и только в том случае, когда ровно половина светового пятна закрыта световой маской. Ясно, что при таких условиях независимо от величины напряжения на горизонтальных пластинах положение электронного луча в трубке всегда будет следить за контуром маски. [25]
В устройствах управления отклонением электронных лучей с обратной связью необходимо иметь информацию о положении луча в пространстве. Полупроводниковые датчики положения электронного луча, в которых используется усиление за счет генерации электронно-дырочных пар, обладают высокой чувствительностью и удовлетворительной стабильностью. В позиционных датчиках рассогласование положения электронного луча относительно выбранного определяется по амплитуде сигнала в цепи нагрузки. Причем в пределах небольших рассогласований выходное напряжение линейно зависит от смещения электронного луча. [26]
При сварке по технологическим прихваткам и при косметической обработке расфокусированным электронным пучком для оплавления и сглаживания поверхности сварного шва невозможно применять устройства направления электронного луча по стыку. В этом случае используют программное перемещение электронного луча по поверхности свариваемого изделия. Система управления совместно с датчиком положения электронного луча относительно свариваемого стыка позволяет автоматически формировать программу. Система автоматически через равные интервалы по длине шва определяет текущие координаты стыка. Чтобы не запоминать чрезмерно большое число координат, весь стык автоматически разбивается на кусочно-линейные участки, аппроксимирующие с заданной точностью криволинейный стык. [27]
Упрощенная схема управления разверткой электронного луча с обратной связью при считывании информации с серебряно-галоидной пленки. [28] |
Управление движением электронного луча с помощью автономных устройств формирования разверток имеет в основном те же недостатки, что и УДАЭЛ с количественным управлением: Поддержание высокой стабильности отклоняющих напряжений ( в особенности сложной формы) связано с усложнением устройств, что ограничивает объем доступной информации. Кроме того, повышается чувствительность к помехам. Особенно эти недостатки проявляются в том случае, если запись и считывание информации выполняются разными электронными лучами. В устройствах формирования развертки с обратной связью по положению электронного луча указанные не - Достатки в значительной степени снижены. [29]
В настоящее время не существует общеупотребительного названия таких гибридных устройств. Чаще других употребляют следующие названия: электронно-полупроводниковые устройства, семитроны, полупроводниковые приборы с электронной бомбардировкой. Рассмотрим электронно-полупроводниковые устройства, в которых используется управление положением электронного луча в пространстве. [30]