Cтраница 1
Получение поликристаллического кремния в виде стержней на промышленных установках длится несколько суток. [1]
Важным для получения высокочистого поликристаллического кремния являются и требования к материалу, из которого изготовлен реактор. [2]
![]() |
Зависимость между УЭС монокристаллических лучей Р2 и слитка Pt после одного прохода зоны в вакууме. [3] |
Необходимым условием получения поликристаллического кремния заданной степени чистоты является использование исходных материалов с определенными характеристиками. Требования к чистоте исходных материалов выработаны в течение длительного изучения влияния их свойств на параметры поликристаллического кремния. Эти требования постоянно ужесточаются. [4]
Перед установкой в реактор для получения поликристаллического кремния прутки-основы травят в кислотах, отмывают ионоочищенной водой, сушат. От успешного проведения этих вспомогательных операций зависят качество поверхности прутков и уровень примесей тяжелых металлов ( Fe, Ni, Cr, Mo, W) в стержнях поликристаллического кремния. [5]
Для улучшения технико-экономических показателей процесса получения поликристаллического кремния, снижения выбросов в окружающую среду стремятся повторно использовать все компоненты и продукты реакций водородного восстановления хлорсиланов. С этой целью производство организуют по схеме замкнутого цикла. [6]
Наиболее широко высокочистый водород применяется при получении поликристаллического кремния в процессе водородного восстановления хлорсиланов, наращивании эпитаксиальных слоев в тех же процессах, в качестве технологической среды при выращивании монокристаллов кремния, при низкотемпературной ректификации силана. [7]
О возможности совместного использования тетрахлорсилана и рециркуляционного водорода для производства высокодисперсной Si02 и изделий из синтетического кварца сообщается в работе [130] и др. Так, в патенте1 описана схема получения поликристаллического кремния, в которой ( рис. 109) абгазы после установок осаждения кремния, реактора синтеза хлорсиланов и реактора конверсии тетрахлорсилана направляют в установку конденсации хлорсиланов. Три - и тетрахлорсилан, выделенные в установке конденсации, вновь возвращают на процесс осаждения кремния и конверсию тетрахлорсилана. Остаточные газы из камеры сжигания направляются в абсорбционную установку, где в 18 % - ной соляной кислоте отделяется хлористый водород, который после отгонки, охлаждения до 260 К и сушки серной кислотой направляется на производство трихлорсилана. Отходом производства является водяной пар. [8]
![]() |
Аппаратурная схема получения гранулированного поликристаллического кремния. [9] |
Нормы расхода сырья, материалов и энергоресурсов из расчета на производительность завода 1000 т ( Si) / г. В связи с тем что в 1992 г., когда производились НИОКР по получению поликристаллического кремния и регенерации фтора из фторсиликата натрия по плазменно-сорбционной технологии, предполагалось строительство нового завода, были проведены соответствующие расчеты или оценки норм расхода сырья, сопутствующих материалов и энергоресурсов. [10]
В зависимости от подложки, на которой происходит рост кремниевой пленки, различают гомоэпитаксиальные ( Si / Si) или гетероэпитаксиаль-ные ( Si / Al2O3 - сапфир, Si / MgO - Al2O3 - шпинель) структуры. Так же, как и при получении полупроводникового поликристаллического кремния, для выращивания эпитаксиальных пленок используют реакции разложения или термического восстановления в атмосфере водорода гидридов и хлоридов кремния при атмосферном давлении и в реакторах пониженного давления. [11]
Оптимальный перепад давлений в колонне поддерживается регулированием расхода жидкого моносилана, поступающего из куба в испаритель через регулирующий клапан. Испарение жидкого моносилана, попавшего в испаритель, осуществляется за счет подогрева с помощью электронагревателя. После очистки моносилан направляют на получение поликристаллического кремния термическим разложением. [12]
Созданы устройства1 безопасности, которые предохраняют кварцевый колпак от разрушения при изменении давления. Габариты производимых в настоящее время кварцевых колпаков ограничивают размеры реакционной камеры и число стержней в реакторе водородного восстановления трихлорсилана. Вследствие этого в современной технологии получения поликристаллического кремния все большее распространение получают реакторы с металлической водоохлаждаемой камерой. [13]
Схема промышленной колонны изображена на рис. V-9. После очистки моно-силан направлялся в аппараты для термического разложения с целью получения компактного поликристаллического кремния. [14]