Получение - реплика
Cтраница 1
 |
Формирование контраста в РЭМ. [1] |
Получение реплик с помощью импульсного лазерного напыления, как показано в работе [4 ], позволяет увеличить мгновенную скорость осаждения материалов до 1 нм / с и таким образом уменьшить размер зародышей до одноатомных. Применяя импульсное лазерное напыление для получения реплик, в работе [4 ] удалось измерить шероховатость поверхности а до 0 3 нм. Как показано в работе [37 ], разрешение можно увеличить, используя для оттенения смесь Ta / W вместо обычно применяемой платины. К основному достоинству метода реплик в просвечивающей электронной микроскопии следует, по-видимому, отнести высокое пространственное разрешение в плоскости ( X, Y) ( по сравнению со всеми оптическими методами и шуповым профилометром), которое может быть не хуже 5 0 нм. [2]
Для получения реплики полимерный материал разрушают таким образом, чтобы можно было не опасаться изменения его структуры в процессе разрушения. Обычно для этого замороженный полимер разрушают ударом. На образовавшуюся при разрушении поверхность с помощью специальных установок напыляют слой угля или кварца. Возникновение контраста на электронно-микроскопических снимках обусловлено различной рассеивающей способностью ядер разных атомов по отношению к электронному пучку. Полимер растворяют и удаляют, а полученную реплику рассматривают в электронный микроскоп. Если растворение полимера затруднено, то на образовавшуюся при механическом разрушении поверхность полимера наносят слой желатина. Затем пленку желатина отрывают, и напыление ведут на нее для получения обратной или негативной реплики. [3]
Для получения реплики с извлеченными частицами шлиф исследуемого сплава протравливают таким образом, чтобы растворялась, только матричная фаза; после этого на шлиф наносят пленку ( например, углеродную), как при изготовлении негативного отпечатка. [4]
Методика получения реплик для электронной микрографии, описанная в настоящем обзоре, была разработана ранее Мар-чем и Ридом. Кристалл графита погружают в ацетон и помещают на подложку из ацетата целлюлозы. Затем на реплику таким же методом наносят углерод, на воздухе удаляют ацетатную пленку, растворяя ее ацетоном ( предварительно упрочняют слой углерода, увлажняя его каплей формалака) и реплику осторожно соскабливают на предметную сетку. [5]
При получении одноступенчатой реплики - ia поверхность исследуемого объекта предварительно наносят тонкую пленку вещества ( полимер, углерод и др.), воспроизводящую рельеф поверхности, а затем ее отделяют либо механически, либо растворением образца. [6]
При получении одноступенчатой реплики на поверхность исследуемого объекта предварительно наносят тонкую пленку вещества ( полимер, углерод и др.), воспроизводящую рельеф поверхности, а затем ее отделяют либо механически, либо растворением образца. [7]
 |
Основные методы изготовления одноступенчатой ( а и двухступенчатой ( б реплики. [8] |
По способу получения реплики подразделяются на одноступенчатые и двухступенчатые. [9]
В качестве материалов для получения одноступенчатых реплик используют те же вещества, что и для получения пленок-подложек. Контрастность изображения в репликах обусловливается различной толщиной отдельных участков пленки. Наилучшую контрастность обеспечивают углеродные и кварцевые реплики. [10]
Пластмассы, используемые для получения реплик тиснения, должны сохранять при комнатной температуре приданную им форму. Необходимая пластичность материала обеспечивается нагревом ( термопластичная тисненая реплика) или смачиванием его поверхности соответствующим растворителем. [11]
 |
Схема изготовления реплик одноступенчатым и двухступенчатым. [12] |
В качестве материалов для получения одноступенчатых реплик используют такие вещества, как коллодий, формвар, кварц, углерод и др. Реплики, изготовленные из коллодия, формвара и других органических веществ, получили общее название лаковых или пластиковых. Из лаковых отпечатков наибольшее распространение нашли коллодиевые. [13]
В качестве материалов для получения одноступенчатых реплик используют те же вещества, что и для получения пленок-подложек. Контрастность изображения в репликах обусловливается различной толщиной отдельных участков пленки. Наилучшую контрастность обеспечивают углеродные и кварцевые реплики. [14]
 |
Схема изготовления реплик одноступенчатым и двухступенчатым способами. [15] |
Страницы: 1 2 3 4