Cтраница 3
Особенностью выражения для пропускной способности трубопровода при молекулярном режиме течения является то, что она не зависит от давления газа в трубопроводе; необходимо только, чтобы в последнем был достаточно высокий вакуум. [31]
Случай а характерен для насосов, подающих жидкость с низкой температурой, а случай б характерен для насосов, подающих жидкости с высокой температурой, а также при всасывании насосами холодной воды из пространств с достаточно высоким вакуумом. [32]
Случай а характерен для насосов, подающих жидкости с низкой температурой, а случай б - для насосов, подающих жидкости с высокой температурой, а также при всасывании насосами холодной воды из пространств с достаточно высоким вакуумом. [33]
Очевидно, что описанная выше работа масс-спектрометра возможна при условии, что если в масс-спектрометрической камере со всеми ее деталями ( манометром, катодом, ионизатором, входной и выходной диафрагмами, коллектором) будет поддерживаться достаточно высокий вакуум. Масс-спектрометрическая ка) мера 1 через металлическую ловуш-ку 2 для вымораживания паров и вентиль 3 присоединяется к металлическому паромасляному насосу 4 и небольшому вращательному масляному насосу 5; для измерения давления используется магнитный электроразрядный манометр, помещенный, как уже указывалось, в масс-спектрометриче-ской камере. [34]
Заряд его обозначим q - q и массу т; дэ 1 601 - 10 - 1в к, масса т при скорости движения, значительно меньшей скорости света, равна 0 91 - 10 27 г. Полагаем, что имеет место достаточно высокий вакуум, так что при движении электрон не сталкивается с другими частицами. [35]
![]() |
Два случая установки насоса относительно уровня всасываемой жидкости. [36] |
Установка рис. 4.8, а характерна для насосов, подающих жидкости с низкой температурой, а установка на рис. 4.8, б - для насосов, подающих жидкости с высокой температурой, а также при всасывании насосами холодной воды из емкостей с достаточно высоким вакуумом. [37]
Перенос тепла от частицы к частице осуществляется как молекулами газа, так и непосредственно через контакты между частицами. При достаточно высоком вакууме, который обычно достигается в условиях работы вакуумно-порошковой изоляции, остается лишь второй путь переноса тепла. [38]
В полупроводниковой технологии используют очень широкий диапазон разрежений ( от 10 - 2 до К) - 11 мм рт. ст.), поэтому получать вакуум каким-либо одним способом трудно. Для получения достаточно высокого вакуума обычно применяют несколько последовательно включенных вакуумных насосов и специальные поглотители и ловушки. [39]
Скорость же конденсации меняется в зависимости от фактической величины давления пара в объеме над металлом ро. Например, в достаточно высоком вакууме ок приближается к нулю. [40]
Будем испарять металл в достаточно высоком вакууме, так чтобы средняя длина свободного пробега атома газа была достаточно велика. [41]
Сопоставляя это выражение с формулой ( 148), видим, что Еи должно увеличиться как за счет того, что пробивное напряжение жидкости Е / пр. При пропитке или заливке конденсатора жидким диэлектриком необходимо поддерживать достаточно высокий вакуум, чтобы максимально удалить воздух из пор перед входом в них жидкого диэлектрика. Сам жидкий диэлектрик должен быть предварительно обезгажен. [42]
Изображенный на схеме электронный микроскоп работает на магнитных линзах. Чтобы исключить столкновение электронов с молекулами воздуха, в системе создается достаточно высокий вакуум, порядка 10 - Б мм рт. ст. Электронная пушка создает пучок электронов с энергией, соответствующей 50 000 В. Таким образом, в установку должен быть включен высоковольтный трансформатор, повышающий напряжение сети до указанного значения. [43]
Изображенный на схеме электронный микроскоп работает на магнитных линзах. Чтобы исключить столкновение электронов с молекулами воздуха, в системе создается достаточно высокий вакуум, порядка 10 - 5 мм рт. ст. Электронная пушка создает пучок электронов с энергией, соответствующей 50 000 В. Таким образом, в установку должен быть включен высоковольтный трансформатор, повышающий напряжение сети до указанного значения. [44]
![]() |
Спектральная чувствительность металлических поверхностей в ультрафиолете. [45] |