Требуемый вакуум

Cтраница 1

Требуемый вакуум в ловушке создают, погружая ее в сосуд Дьюара с жидким азотом 7 на 5 мин. Если за это время в ловушке не конденсируется жидкий кислород, то вакуум достаточен. Для удаления остатков водяных паров или СО2 через систему продувают подогретый кислород. Затем вновь открывают линию вакуума и через патрон пропускают кислород, удаляющий остатки ацетилена. [1]

Требуемый вакуум в конденсаторе 9 поддерживается эжекторной установкой. [2]

Когда требуемый вакуум достигнут, открывают краны 4 и 2, откачивают бюретку 21 до давления 10 - 5 мм рт. ст. При этом полезно несколько раз поднять до крана 2 и снова опустить ртуть в бюретке, чтобы освободить ее от пузырьков газа. После него при закрытом кране / откачивают сначала одно, а потом другое колено манометра 22 через краны 3 и 7, которые затем запирают. [3]

Установив требуемый вакуум, необходимо грубо отрегулировать подачу дегазатора применительно к подаче буровых насосов. Это делается путем измененич хода приемных клапанов при помощи ограничительных болтов. [4]

Величина требуемого вакуума при обезвоживании осадка из первичных отстойников равна 40 - 50 см рт. ст., при обезвоживании активного ила - 25 - 35 см рт.ст. Количество отсасываемого воздуха составляет 0 5 - 0 6 м3 на 1 м2 поверхности фильтра в 1 мин. [5]

Не создается требуемый вакуум вследствие недостаточной подачи воды вакуум-насосом, засасывания в систему из атмосферы воздуха через неплотности; нагрева рабочей жидкости и неисправности вакуум-насоса. [6]

Не создается требуемый вакуум вследствие недостаточной подачи воды вакуум-насосом, засасывания в систему из атмосферы воздуха через неплотности; напрева рабочей жидкости и неисправности вакуум-насоса. [7]

Не создается требуемый вакуум вследствие недостаточной подачи воды вакуум-насосом, засасывания в систему из атмосферы воздуха через неплотности; налрева рабочей жидкости и неисправности вакуум-насоса. [8]

Не создается требуемый вакуум вследствие недостаточной подачи воды, засасывания в систему из атмосферы воздуха через неплотности, нагрева рабочей жидкости и неисправности вакуум-насоса. [10]

После создания требуемого вакуума к электродам прикладывается разность потенциалов, газ в камере ионизируется и положительные ионы от анода устремляются к катоду. Ударяясь о поверхность катода, они вызывают распыление исследуемого вещества. С помощью ионной бомбардировки могут выполняться следующие задачи: 1) очистка поверхности шлифа от загрязнений, возникающих при шлифовке и полировке, а также удаление оксидной пленки ( особенно важно при электронографировании); 2) ионное травление поверхности с выявлением границ кристаллов и внутренней структуры последних. В общем случае, чем меньше энергия химической связи в решетке, тем интенсивнее происходит распыление. [11]

После достижения требуемого вакуума ( порядка 10 - 4 - 10 - 5 мм рт. ст.) спираль 5 доводится до полного накала, алюминий распыляется и в виде блестящего налета равномерно покрывает внутреннюю поверхность колбы. Затем через натекатель, управляемый рукояткой 12, в гнездо впускается воздух, и готовая колба снимается с установки. Для продолжения алюминирования устанавливают новую спираль распылителя с алюминиевой спиралью, и процесс повторяется. [12]

Схема пароструйного эжектора. [13]

Для поддержания требуемого вакуума в конденсаторе необходимо непрерывно удалять воздух. Для этой цели применяют специальные воздухоотсасывающие устройства. Наиболее распространенными из них являются пароструйные и водоструйные эжекторы. Иногда применяются также специальные вакуумные насосы. [14]

Виды испаряющихся газопоглотителей. [15]

Страницы: 1 2 3 4