Применение - источник
Cтраница 4
 |
Системы с постоянным давлением. [46] |
Такая система требует применения источника газа, находящегося под высоким давлением; давления, создаваемые в системе, не превышают 70 ат. [47]
Ввиду того что применение источников света с линейчатым спектром может нарушить наши привычные цветовые соотношения, в цветной фотографии рекомендуется использовать источники света с более равномерным, непрерывным спектральным распределением энергии. [48]
 |
Параметрический источник тока. [49] |
Ряд ЭТУ требует применения источников питания, у которых выходной ток не меняется с изменением сопротивления нагрузки. К таким установкам относятся по преимуществу плазменные и дуговые установки, особенно вакуумные дуговые печи. [50]
Особенно эффективным оказывается применение узкополосных источников света в так называемой спектроскопии насыщения, в которой удается устранить влияние неоднородного уширения линий ( особенно вследствие эффекта Доплера) на спектральное разрешение ( ср. [51]
Наиболее целесообразная область применения источника - питание устройств, выполненных на линейных интегральных схемах. [52]
 |
Внешний вид радиоактивного нейтрализатора НСЭ-400А. [53] |
Во всех случаях применения источников радиоактивного излучения должна быть обеспечена защита работающих от вредного воздействия излучений, а также обрабатываемых материалов, оборудования, помещения, воздуха от радиоактивных загрязнений. Все применяемые источники ионизации должны быть герметичны, а радиоактивный слой иметь защитное покрытие. [54]
При сварке с применением источников питания с падающими вольт-амперными характеристиками ( ПС-500 и др.) заданное напряжение на дуге обычно выдерживается с точностью 1 5 в. Изменение напряжения в этих пределах незначительно изменяет состав металла шва. [55]
 |
Схема пайки погружением в расплавленный припой ( а и волной припоя ( б.| Схема двустороннего нагрева при пайке трехслойной панели с сотовым заполнителем. [56] |
Способ основан на применении безынерционных источников нагрева: кварцевых ламп, электронного луча и лазера, отличается быстротой нагрева изделий, возможностью точного регулирования процесса. [57]
 |
Помещение для j - облучения при биологических исследованиях. [58] |
Имеющаяся система защиты допускает применение источников с активностью в несколько тысяч кюри. [59]
 |
Различные источники инфракрасного излучения.| Спектральный световой поток Ц абсолютно черного излучателя при абсолютной температуре, показанной в Кельвинах на каждой кривой. [60] |
Страницы: 1 2 3 4 5