Применение - тлеющий разряд
Cтраница 1
 |
Схема включения для получения мгновенного разряда. [1] |
Применение тлеющего разряда в препаративной химии ограничено в том случае, если разряду должен подвергаться газ, который сильно разъедает металл электродов. [2]
Применение тлеющего разряда при газофазном диффузионном насыщении позволяет во много раз увеличить скорость получения покрытия и снизить температуру его образования, так как основа материала при этом испытывает воздействие более низких температур и в течение более короткого времени, чем при обычной технологии газофазного насыщения. Нет необходимости говорить о том, насколько это важно в ряде случаев при обработке ответственных конструкционных изделий. Наиболее подробно изучен процесс азотирования и цементации металлов с использованием тлеющего разряда [ 115; 116; 14, с. В последнее время начаты исследования по насыщению поверхности металлов в тлеющем разряде и другими элементами, например кремнием и алюминием [ 15, с. При диффузионном насыщении металлов в тлеющем разряде достигается довольно высокий коэффициент использования электрической энергии, которая почти полностью расходуется на ионизацию газовой среды и нагрев до нужной температуры обрабатываемой детали катода. Небольшая часть энергии тратится на конвекцию газовой среды и теплопередачу на стенки газовой камеры. [3]
В этом отношении значительно удобнее применение тлеющего разряда, позволяющего более гибко и тонко регулировать процесс. Для тлеющего разряда характерно, что температура электронов намного выше температуры газа и, вследствие этого, в нем можно избежать пагубного обратного ( вторичного) действия высокой температуры. Необходимость применения пониженного давления и связанное с этим увеличение объема аппаратуры несколько затрудняет промышленное использование тлеющего разряда. [4]
 |
Содержание примеси в вольфрамовых покрытиях, 10 - 3 % по массе. [5] |
В работе [12] показано, что без применения тлеющего разряда прослойки, обогащенные углеродом, образуются в результате адсорбции его поверхностью растущего осадка и вытеснения на фронт кристаллизации. [6]
 |
Зависимость толщины науглероженного слоя от длительности выдержки.| Распределение микротвердости и концентрации углерода в цементованном слое стали 20X2Н4А после полной термообработки. [7] |
Сопоставляя кривые 1 и 2 на рис. 98, можно заметить, что применение тлеющего разряда примерно в 3 раза ускоряет процесс роста диффузионного слоя. [8]
С целью удовлетворения этих повышенных требований были разработаны детекторы ионизационного типа, среди которых важнейшими являются детекторы следующих категорий: а) пламенные, б) с применением радиоактивного р-излучения, в) с применением тлеющего разряда, г) с применением термоионной эмиссии, д) с применением радиочастотного разряда. Поскольку было бы практически нецелесообразно подробно описывать в последующих разделах книги все эти детекторы, в дальнейшем изложении основное внимание уделяется принципу их действия и рабочим характеристикам, а также имеющимся сообщениям об их поведении в условиях эксплуатации. [9]
 |
Схематический разрез тиратрона тлеющего разряда. 1 - катод. г - сетка. з - анод. [10] |
Недостатками И являются значит, мощность поджига и вероятность ( порядка 5 - 10 - е) пропусков зажигания. Применение тлеющего разряда позволяет создавать приборы с холодным катодом, равномерно светящимися поверхностями желательной конфигурации, токами разряда порядка единиц и десятков мА, временами развития и прекращения разряда в единицы - десятки мкс. [11]
 |
Распределение энергии в спектре люминесцентных ламп. [12] |
Первый из двух важных недостатков люминесцентных ламп-сложность зажигания. Для зажигания низковольтных ламп служит стартер, действие которого основано на применении реле тлеющего разряда. [13]
 |
Схема установки для силицирования молибдена в тлеющем разряде. [14] |
Рабочее напряжение между анодом, которым может служить контейнер, и катодом поддерживается в пределах 600 - 800 В. В результате достигается более высокое качество азотированного слоя; процесс азотирования идет интенсивно без применения печей и водорода. Применение тлеющего разряда позволяет устранить неравномерность диффузионных слоев, обычно получаемых на деталях сложных конфигураций при сохранении ламинарных газовых потоков в рабочей камере. Обеспечивается равномерный нагрев поверхности и одинаковый приток диффундирующего элемента. [15]
Страницы: 1 2