Процесс - намагничивание
Cтраница 3
Рассмотрим процесс намагничивания ферромагнитного вещества. При монотонном увеличении напряженности внешнего поля индукция растет сначала быстро ( кривая ODX на рис. 1 - 35) вследствие того, что элементарные токи ориентируются так, что их магнитные потоки добавляются к внешнему потоку. При больших значениях индукции скорость ее возрастания уменьшается. Магнитное состояние вещества приближается к насыщению. При этом уже почти все элементарные токи ориентированы так, что их магнитные поля совпадают по направлению с внешним полегл. Кривая ODb получающаяся при условии, что вещество предварительно было размагничено, называется начальной кривой намагничивания. [31]
 |
Схема за. аещения для высоких частот.| Схема замещения для низких частот. [32] |
Рассмотрим процессы намагничивания сердечника трансформатора при импульсах. [33]
Рассмотрим процесс намагничивания ферромагнитного вещества. При монотонном увеличении напряженности внешнего поля индукция растет сначала быстро ( кривая ODX на рис. 1 - 35) вследствие того, что элементарные токи ориентируются так, что их магнитные потоки добавляются к внешнему потоку. При больших значениях индукции скорость ее возрастания уменьшается. Магнитное состояние вещества приближается к насыщению. При этом уже почти все элементарные токи ориентированы так, что их магнитные поля совпадают по направлению с внешним полем. Кривая ODj, получающаяся при условии, что вещество предварительно было размагничено, называется начальной кривой намагничивания. [34]
Рассмотрим процесс намагничивания ферромагнитного вещества. При монотонном увеличении напряженности внешнего поля индукция растет сначала быстро ( кривая OD1 на рис. 1 - 35) вследствие того, что элементарные токи ориентируются так, что их магнитные потоки добавляются к внешнему потоку. При больших значениях индукции скорость ее возрастания уменьшается. Магнитное состояние вещества приближается к насыщению. При этом уже почти все элементарные токи ориентированы так, что их магнитные поля совпадают по направлению с внешним полем. Кривая OD1; получающаяся при условии, что вещество предварительно было размагничено, называется начальной кривой намагничивания. [35]
Рассмотрим процесс намагничивания ферромагнитного вещества. При монотонном увеличении напряженности внешнего поля индукция растет сначала быстро ( кривая 0Dl на рис. 19 44) вследствие того, что элементарные токи ориентируются так, что их магнитные потоки добавляются к внешнему потоку. При больших значениях индукции скорость ее возрастания уменьшается. Магнитное состояние вещества приближается к насыщению. При этом уже почти все элементарные токи ориентированы так, что их магнитные поля совпадают по направлению с внешним полем. Кривая 0Dv получающаяся при условии, что вещество предварительно было размагничено, называется начальной кривой намагничивания. [36]
Рассмотрим процесс намагничивания отдельной однодоменной и одноосной частицы ферромагнетика при воздействии поля, содержащего переменную и постоянную составляющие. Предположим, что направление вектора напряженности внешнего поля совпадает с осью легкого намагничивания частицы. Допустим также, что самопроизвольная намагниченность частицы равна - Jrs, а поле взаимодействия этой частицы с окружающими ее частицами - Hmi. [37]
Сущность процесса намагничивания заключается в следующем. [38]
После процессов намагничивания и размагничивания проницаемость ферромагнетиков, имеющих незначительные дефекты решетки, всего за несколько часов возвращается к начальному состоянию. [39]
Протекание процессов намагничивания ферромагнитного мате-риала практически характеризуют кривыми намагничивания В F ( Я), имеющими сходный характер для всех ферромагнетиков. [40]
В процессе намагничивания и размагничивания важна ориентация осей намагничивания доменных областей по отношению к внешнему полю. При наличии в ферритах областей с одноосной анизотропией намагничивание полями больше порогового может вызвать необратимое изменение свойств и сделать процесс размагничивания неэффективным. Иногда благодаря диффузным процессам происходит некоторая релаксация остаточных эффектов в течение значительного промежутка времени. [41]
В процессе намагничивания монокристалла железа при разной ориентировке осей отчетливо видно, что наиболее быстрое и легкое намагничивание происходит в направлении одной из осей кристалла, вдоль его ребра, и наиболее трудное - по внутренней его диагонали. [42]
 |
Технические данные применяемых намагничивающих устройств. [43] |
В процессе намагничивания контролируемого сварного стыка необходимо следить за тем, чтобы полюса намагничивающего устройства были расположены симметрично середине шва по всему периметру. [44]
 |
Характер распределения индукции по сечению стального. [45] |
Страницы: 1 2 3 4