Процесс - образование - плазма
Cтраница 2
Теплопередача от дуги к потоку газа происходит в период их совместного нахождения в канале, поэтому увеличение длины дуги, а значит и напряжения приводит к повышению температуры и тепловой эффективности всего процесса образования плазмы. [16]
Существующие в настоящее время мощные лазеры позволяют наблюдать процесс образования плазмы в очень широком диапазоне изменения частоты излучения ( от ультрафиолетового до инфракрасного излучения), длительности облучения мншени ( от пикосекундпой длительности до непрерывного облучения), в широком диапазоне изменения интенсивности излучения. Характер процесса образования плазмы качественно меняется при изменении параметров, характеризующих лазерное излучение. Основное внимание в этой лекции будет уделено явлению образования так называемого плазменного факела - непосредственному образованию плазмы при воздействии мощного импульсного излучения па поверхность твердого непрозрачного тела. Такой выбор обусловлен как относительно хорошим уровнем исследований плазменного факела, так п его большим значением для практики. [17]
Само перечисление как позитивных, так и негативных по-следстиий образования плазмы при воздействии лазерного излучения на поверхность твердого непрозрачного тела обънсннет тот интерес, который проявляется к этому яилепию. Этот процесс бурно исследуется экспериментаторами и теоретиками, начиная с момента создания мощных лазеров. В результате этих исследований основные черты процесса образования плазмы сейчас достаточно хорошо изучены и описаны. Однако по ряду направлений работы ведутся и в настоящее время. Это обусловлено, в частности, непрерывным процессом создания новых лазеров, расширением диапазона частот мощного излучения, увеличением интенсивности излучения, уменьшением длительности импульсов излучения. [18]
Плазменная струя обладает большими технологическими возможностями. Возможно получение мощной струп, обладающей высокой проплавляющей способностью и повышенной производительностью. Такой струей сваривают материалы толщиной до 15 мм без разделки кромок. Повышенная устойчивость процесса образования плазмы позволяет получать микроплазменную струю при токах до 0 5 А, которой можно сваривать металл толщиной в несколько десятков микрон. Повышая ток и расход плазмообразующего газа, получают плазменный источник с большой скоростью истечения струи, способной давать сквозное проплавление и выдувать расплавленный материал. Такую плазменную струю используют для резки. Во-вторых, независимый характер плазменной струи, выделенной из дуги, позволяет регулировать тепловое воздействие на обрабатываемый и присадочный материалы, а также вести обработку неэлектропроводных материалов. [19]
Плазменная струя обладает большими технологическими возможностями. Возможно получение мощной струи, обладающей высокой проплавляющей способностью и повышенной производительностью. Такой струей сваривают материалы толщиной до 15 мм без разделки кромок. Повышенная устойчивость процесса образования плазмы позволяет получать микроплазменную струю при токах до 0 5 А, которой можно сваривать металл толщиной в несколько десятков микрон. Повышая ток и расход плазмообразующего газа, получают плазменный источник с большой скоростью истечения струи, способной давать сквозное проплавление н выдувать расплавленный материал. Такую плазменную струю используют для резки. Во-вторых, независимый характер плазменной струи, выделенной из дуги, позволяет регулировать тепловое воздействие на обрабатываемый v присадочный материалы, а также вести обработку неэлектропроводных материалов. [20]
 |
Зависимость энтальпии различных газов от температуры при диссоциации и ионизации. [21] |
Для газов в молекулярном состоянии потенциал ионизации всегда выше, чем в атомарном. Двух и трехкратная ионизация атомов требует затрат энергии, достигающей сотен электронвольт, а полная ионизация - тысяч электронвольт. Чем меньше потенциал ионизации газа, тем быстрее при меньшей температуре ( меньшей приложенной энергии) достигается высокая степень ионизации X. Для водорода ( 1 13 59 эВ) наивысшая степень ионизации А 1 достигается при 24000 К; для гелия ( / 24 58 эВ) Y1 - при 50000 К. Для получения высоких температур столба дуги необходимо, стремиться к возможно большей степени ионизации газов. Характер ионизации плаз-мообразующей среды весьма существенное влияние оказывает на объемное теплосодержание ( энтальпию) плазмы. Имеется отличие в процессе образования плазмы двух - и одноатомного газов. [22]
Страницы: 1 2