Процесс - фокусировка
Cтраница 1
 |
Двухлинзовый прожектор с одиночной линзой. [1] |
Процесс фокусировки не должен изменять тока луча. В рассматриваемом простейшем прожекторе фокусировка производится изменением напряжения на первом аноде. При этом изменяется напряженность поля вблизи катода, следовательно, изменяется величина пространственного заряда, а также форма модуляционной характеристики прожектора. [2]
 |
Траектория электрона, вылетевшего из поверхности катода под углом к оси трубки. [3] |
Процесс фокусировки с помощью магнитного поля можно рассмотреть на примере одного электрона. Если электрон двигается под углом к оси трубки ( рис. 12.28), то, попадая в магнитное поле, он пересекает его силовые линии. Скорость электрона можно разложить на две составляющие: радиальную и продольную. Радиальная составляющая перпендикулярна к силовым линиям поля, а продольная - параллельна им. [4]
Процесс фокусировки в известном смысле устойчив: при небольших отклонениях падающего параллельного пучка от осевого направления ( рис. 7.356) он также фокусируется. [5]
 |
Силовые линии электрического поля между первым и вторым анодами.| Траектории движения электронов в электроннолучевой трубке. [6] |
Рассмотрим процесс фокусировки электронного луча. Сила, действующая на электрон, направлена по касательной к силовой линии поля Е в данной точке пространства в сторону, противоположную направлению силовой линии, так как заряд электрона отрицательный. У второго анода продольные составляющие поля также ускоряют электроны, а поперечные оказывают на электроны рассеивающее действие. [7]
В процессе фокусировки механическая длина тубуса и оптический интервал остаются неизменными. [8]
В процессе фокусировки выделяется тепло. Скорость нагрева плазмы легко оценить, если заметить, что стоящее в уравнении (5.19) выражение для магнитной силы есть отношение количества тепла, выделившегося в плазме за время инжекции, к радиусу плазмы. Поэтому можно написать, что давление плазмы в области сфокусированного пучка равно примерно р и может существенно превышать начальное давление плазмы и магнитное давление. [9]
Итак, рассмотрение процессов фокусировки, каналирования и последующей рекомбинации образующихся дефектов позволяет в принципе учесть дополнительное влияние таких фактов, как кристаллическая структура и эффект локального разогрева решетки на развитие пика смещения, и, значит, более корректно, по сравнению с моделью аморфной среды, представить качественную картину радиационного повреждения а-урана осколками деления. [10]
Этот процесс аналогичен процессу фокусировки луча света при помощи линзы. Подбором напряжений, действующих на ускоряющем электроде и первом аноде, можно сделать так, что фокусировка электронного пучка ( луча) будет происходить точно в плоскости экрана и размер светящейся точки на нем будет минимальным. [11]
Обычно большинство ферментов в процессе изоэлектриче-ской фокусировки не теряют своей активности, исключение составляют лишь некоторые металлсодержащие ферменты. При обнаружении ферментов методами, применяемыми в гель-электрофорезе, может потребоваться добавка соответствующего буфера, чтобы нейтрализовать влияние амфолитов. [12]
Рисунок 20.7 поясняет характерные особенности процесса фокусировки. Справа приведена схема собственно процесса фокусировки, а слева показана эволюция атомного волнового пакета в фазовом пространстве. [14]
Как уже отмечалось, в процессе фокусировки в результате диссипации обратного тока в плазму поступает энергия, сравнимая с кинетической энергией пучка. Это означает, что в области сфокусированного пучка давление возрастает и может существенно превышать начальное давление плазмы и давление, обусловленное магнитным полем. Поэтому рассмотренные выше процессы могут сопровождаться радиальным разлетом плазменного канала. При этом расходящаяся цилиндрическая ударная волна вместе с плазмой будет выносить вмороженное в нее при достаточно высокой проводимости магнитное поле, что приведет к дефокусировке пучка. [15]
Страницы: 1 2 3