Проявление - рельеф
Cтраница 1
 |
Влияние продолжительности проявления на зависимость нормализованной толщины h слоя резиста от экспозиционной дозы для сополимера фе-иилметакрилата с метакриловой кислотой ( 3. [1] |
Проявление рельефа после экспонирования проводят водой или низшими спиртами. [2]
Набухание при проявлении рельефа должно быть минимальным, так как оно влияет на точность воспроизведения рисунка шаблона, ухудшается резкость края рельефа; недопустима вуаль при проявлении. Кроме того, часто полимерный слой должен сохранять свои свойства неизменными в весьма широких температурных интервалах ( 100 500 С), поэтому полимер должен быть термостабилен. [3]
Действительно, при экспонировании на окисленном алюминии слоев этих полимеров наблюдался редокс-процесс и образовывались низкомолекулярные фрагменты; их дальнейший распад ускоряется нагреванием до 170 С, при этом проявление рельефа лучше всего достигается 20 % - ным раствором КОН в изопропиловом спирте при комнатной или повышенной до 70 С температуре. Получают позитивный рельеф, используемый для создания печатной формы в полиграфии. Из-за образования альдегидных функций при распаде полимера экспонированный слой дает реакцию серебряного зеркала с реактивом Толленса, образуется позитивное металлическое изображение, которое, в частности, может быть катализатором омеднения из восстановительной ванны. [4]
Действительно, при экспонировании на окисленном алюмини слоев этих полимеров наблюдался редокс-процесс и образовывг лись низкомолекулярные фрагменты; их дальнейший распад ускс ряется нагреванием до 170 С, при этом проявление рельефа лучш всего достигается 20 % - ным раствором КОН в изопропилово. Пс лучают позитивный рельеф, используемый для создания печатно формы в полиграфии. Из-за образования альдегидных функци при распаде полимера экспонированный слой дает реакцию cepef ряного зеркала с реактивом Толленса, образуется позитивное м таллическое изображение, которое, в частности, может быть кг тализатором омеднения из восстановительной ванны. [5]
Толщина слоя может составлять до 10 мкм. После проявления рельефа толуолом слой выдерживает травление 40 % - ным раствором FeCla при 40 С в течение 30 с, при этом протравливается слой электролитической меди толщиной 50 мкм до подложки из ПЭТФ. [6]
Фотополимеризация под действием УФ-света идет в слоях разветвленных полифениленов, содержащих на концах ацетилениль-ные группы. После проявления негативного рельефа органическим растворителем проводится термозадубливание при 250 - 350 С, при этом завершается структурирование полимера. Следует отметить, что при структурировании не выделяются какие-либо низкомолекулярные вещества, что ценно для технологии производства микроэлектронных приборов. Рельеф обладает высокой термостойкостью [ пат. [7]
Фотополимеризация под действием УФ-света идет в слоях разветвленных полифениленов, содержащих на концах ацетилениль-ные группы. После проявления негативного рельефа органическим растворителем проводится термозадубливание при 250 - 350 С при этом завершается структурирование полимера. Следует отметить, что при структурировании не выделяются какие-либо низкомолекулярные вещества, что ценно для технологии производства микроэлектронных приборов. Рельеф обладает высокой термостойкостью [ пат. [8]
В этом случае исследуемый образец шлифуется до 7 - 8 класса чистоты, а затем отшлифованная поверхность подвергается травлению в плазме высокочастотного кислородного разряда. Это приводит к испарению ультратонких поверхностных слоев шлифа и проявлению структурного рельефа полимерной системы. [9]
Таким образом, изображение рельефа на РЛ-снимках складывается из сочетания изображений его элементарных поверхностей, отличающихся определенной ориентировкой по отношению к линии полета, крутизной наклона к лучу сканера ( или уровенной поверхности), а также гипсометрическим положением. Если эти параметры имеют резкие различия, а размеры площадок больше пределов разрешающей способности радиолокационных систем, они запечет-леваются на РЛ-снимках в виде фрагментов изображения характерной конфигурации и тональных контрастов. В других случаях имеет место интегральное изображение сочетания элементарных форм в виде крупного однотонного контура определенной конфигурации и ограничивающего участок местности со сходными геоморфологическими условиями. Такие проявления рельефа наиболее характерны для равнинных слаборасчлененных условий. [10]
Страницы: 1