Cтраница 1
Плазменный пучок трудно точно направить на поверхность и только очень небольшая доля энергии, затраченной на создание разряда, используется для испарения вещества. Намного более эффективная бомбардировка осуществляется электронным пучком, который нетрудно получить, ускорить, сфокусировать и направить. В этом случае нагревание имеет локальный характер и не возникают трудности при подборе материала контейнера Таким способом можно испарять вещества при температуре, превышающей 3000 К. Электронный пучок высокой интенсивности может вызвать образование заряженных частиц из продуктов испарения, так что результаты исследования этим методом не следует непосредственно сравнивать с данными, полученными при других методах нагрева. [1]
Диагностика плазменного пучка производилась с помощью нескольких устройств: рентгеновского спектрометра, набора рентгеновских диодов, плоской камеры и магнитных зондов. [2]
Во избежания перегрева изделий в процессе напыления разработана конструкция и апробирована технология повышения локальности плазменного пучка с одновременным периферийным охлаждениям попы напыления. [3]
По отношению к потоку вторичных электронов поверхность металлической мишени в зоне воздействия на нее пучка первичных электронов является катодом. Рассмотрим условия существования вторичного плазменного пучка вблизи поверхности металла мишени, основываясь на результатах [26] по формированию плазменных пучков разрядом с накаленным катодом. [4]
Так, если такой плазменный пучок, полученный при СВЧ-разряде в потоке матричного газа, направить на твердый образец, то возбужденные атомы и ионы, образовавшиеся в области разряда, при столкновении с поверхностью вещества теряют свою энергию и выбивают небольшие частицы вещества. Показано, что из кварца может быть выбита частица SiO, которая обнаружена в матрице после проведения такой бомбардировкиДТпбс дующих превращениях этих-частиц не сообщалось, но, вероятно, такие реакции возможны. [5]
Первая группа содержит неустойчивости, которые приводят к радикальной перестройке плазменного пучка, такое явление еще называют разрушением плазменного пучка. Вторая группа неустойчивости заключается в раскачке ВЧ-электронных колебаний в условиях, когда не происходит развитие неустойчивостей первой группы и, естественно, разрушение плазменного пучка также не происходит. [6]
Первая группа содержит неустойчивости, которые приводят к радикальной перестройке плазменного пучка, такое явление еще называют разрушением плазменного пучка. Вторая группа неустойчивости заключается в раскачке ВЧ-электронных колебаний в условиях, когда не происходит развитие неустойчивостей первой группы и, естественно, разрушение плазменного пучка также не происходит. [7]
Рассмотрим, однако, альтернативную возможность, когда коллективные плазменные эффекты, которые, кстати, наблюдались в солнечном ветре, приводят к более резкому замедлению падающего потока плазмы, нежели кулоновские столкновения. Примером подобного эффекта может служить двухпотоковая неустойчивость, при которой сильные электрические поля, возникающие в результате флуктуации плотности заряда, могут замедлять один плазменный пучок, движущийся сквозь другой. В предельном случае, когда бесстолкновительная неустойчивость особенно сильна и эффективное замедление происходит чрезвычайно быстро, непосредственно над поверхностью звезды может возникнуть стоячая ударная волна. [8]
Первая группа содержит неустойчивости, которые приводят к радикальной перестройке плазменного пучка, такое явление еще называют разрушением плазменного пучка. Вторая группа неустойчивости заключается в раскачке ВЧ-электронных колебаний в условиях, когда не происходит развитие неустойчивостей первой группы и, естественно, разрушение плазменного пучка также не происходит. [9]
Большой интерес представляет получение порошков карбидов, нитридов, силицидов, боридов и окислов тугоплавких металлов. Частицы из этих порошков применяются с различными покрытиями. В некоторых случаях подложкой для нанесения покрытий служит графит. В литературе имеется описание различных методов нанесения покрытий на графитовые порошки: осаждением с помощью плазменного пучка, распылением в вакууме, химическим осаждением и др. [3, 4], однако этот вопрос остается еще мало изученным. [10]
Большой интерес представляет получение порошков карбидов, нитридов, силицидов, боридов и окислов тугоплавких металлов. Частицы из этих порошков применяются с различными покрытиями. В некоторых случаях подложкой для нанесения покрытий служит графит. В литературе имеется описание различных методов нанесения покрытий на графитовые порошки: осаждением с помощью плазменного пучка, распылением в вакууме, химическим осаждением и др. [3, 4], однако этот вопрос остается еще мало изученным. [11]
Предложен принципиально новый метод изготовления деталей из плазмы. Сущность нового плазменного метода состоит в том, что конструкционный металл постепенно подается в камеру высокотемпературной плазменной горелки, куда вдувается инертный газ при высоком давлении. Под действием мощного дугового разряда конструкционный металл переходит в плазменное состояние. Электромагнитные устройства в камере сжимают плазму в иглоподобный луч, который выходит из камеры и еще раз фокусируется электромагнитной линзой, слегка охлаждается инертным газом и направляется на специальный экран. Магнитные системы развертывают плазменный пучок на экране по вертикали и горизонтали, подобно телевизионной системе. Деталь машины получается из микрочастиц путем послойного наращивания металла, вместо удаления части его в отходы, как это делается при других методах формообразования. Контрольное оптическое устройство перед экраном следит за заполнением пространства металлом и подает сигнал для автоматического отключения системы как только деталь готова. [12]