Cтраница 2
Присадка окиси тория вводится в вольфрам марок ВТ-7, ВТ-10, ВТ-15 и ВТ-50 не только для повышения прочности и формоустойчивости, но и для создания активирующих пленок в проволоках, предназначенных для изготовления катодов. Слой атомов тория, образующийся на поверхности вольфрама в результате термообработки ( прокаливание в течение 2 - 3 мин при температуре 2200 - 2300 С), снижает работу выхода вольфрама, вследствие чего эмиссионные свойства торированного вольфрама выше. [16]
Исследована поверхностная ионизация на вольфраме металлических серебра и меди. Использован трехнитный ионный источник и 60 -ный магнитный масс-спектрометр. Ниже 2500 К обнаружено отклонение от простой формулы Лангмюра. Значительное повышение а в этой области объяснено увеличением работы выхода вольфрама, обусловленным адсорбцией кислорода. [17]
Схема энергетических уровней атома цезия. [18] |
Поверхностная ионизация, эффективность которой зависит от свойств материалов и особенно от температуры и работы выхода, может дать необходимое количество ионов для нейтрализации пространственного заряда при условии, что работа выхода достаточна велика. Поскольку при уменьшении работы выхода плотность тока увеличивается, обязательно должна существовать точка равновесия, в которой скорости образования ионов и электронов таковы, что пространственный заряд вблизи поверхности полностью нейтрализуется. Поэтому с принципиальной точки зрения при изучении материала крайне важно знать истинную работу выхода некоторой поверхности при определенной температуре и в присутствии контролируемой концентрации атомов цезия. Однако достаточно надежные данные получить очень трудно. Например, работа выхода вольфрама в присутствии цезия зависит от кристаллографической ориентации данного участка поверхности. Зависимость работы выхода от температуры различна для всех кристаллографических осей. [19]