Величина - релаксация
Cтраница 1
Величина релаксации зависит от свойств молекулы - ее энергетического барьера и скорости приложения нагрузки, а для переменных нагрузок - также от частоты изменения нагрузки. [1]
Величина релаксации при высоких температурах ( 800 - 1000 С), как это следует из примеров гл. IV, может быть весьма существенной ( 40 - 50 %); поэтому для определения доли статического повреждения, накапливающегося на площадках цикла, необходимо найти эквивалентное напряжение за весь период релаксации. [2]
 |
Изменение деформации линейных полимеров под действием постоянной нагрузки в зависимости от температуры. [3] |
Величина релаксации зависит, с одной стороны, от скорости приложения нагрузки и от частоты изменения ее величины, с другой - от степени гибкости макромолекул. Энергетический барьер некоторых макромолекулярных систем, содержащих разнородные группы или атомы, часто достигает такой величины, что релаксационный период длится годами. [4]
Величина релаксации сильно зависит от упругой характеристики системы. Относительная пластическая вытяжка болтов Дщ, уменьшает силу затяжки на величину ДР. [5]
 |
Влияние релаксации на параметры соединения. [6] |
Величина релаксации сильно зависит от упругой характеристики системы. Относительная пластическая вытяжка болтов Дщ, уменьшает силу затяжки на величину АР. [7]
Величину релаксации определяют на том же приборе, на котором определяют Ку.р., с тем отличием, что после создания необходимого внешнего давления на столбик кокса пуансон фиксируется на определенном положении в течение 5 мин. [8]
Как и следовало ожидать, величина релаксации зависит от вида среды, и ее значение тем выше, чем больший эффект пластификации оказывает среда на полимерный материал. [9]
В кристаллических телах температура плавления является величиной постоянной и температурной релаксации как при кристаллизации, так и при плавлении кристаллов не наблюдается. Поэтому не является законным и сравнение застудневания высокополимеров с процессом кристаллизации низкомолекулярных веществ. [10]
В таблице представлены значения предельных внутренних напряжений и величины релаксации для композиций на основе связующих ЭД-20 и М с разными наполнителями в зависимости от вида среды. [11]
На рис. 6.12 представлены зависимости энергетического положения упомянутых вакансионных состояний для F - и - центров ( последний моделировался удалением одного электрона из общего числа электронов рассчитываемой системы) в спектре корунда от величины релаксации ближайших к V0 атомов матрицы. Интересно отметить, что поведение состояний F - и F - центров оказывается весьма подобным; причем если S-пик при релаксации практически не меняет своего положения ( в ЗЩ кристалла), то вакантные уровни для нерелаксированнои системы располагаются в пределах ЗП, а с удалением атомов А1 0 в процессе релаксации от центра вакансии существенно понижают свою энергию, образуя для оптимизированной структуры выделенные атомоподобные уровни в верхней части ЗЩ. Найдено также, что оптические переходы между занятыми и вакантными состояниями F - и / - центров в А12О3 будут проявлять анизотропию, что соответствует оптическим данным. [13]
Ползучесть объясняется релаксацией напряжения в клеевом слое, передающем деформацию от детали к решетке. Величина релаксации зависит от вида клея. [14]
 |
Зависимость деформации от температуры при постоянной нагрузке для аморфного. [15] |
Страницы: 1 2 3