Величина - экспозиция
Cтраница 3
KPR-2, KTFR, KMER, Az-111, Az-1350, PR-115 и показано, что величина экспозиции, необходимая для получения линий шириной 10 мкм, экспоненциально зависит от толщины слоя. Отсюда следует вывод, что сравнение светочувствительности фоторезистов необходимо проводить при обязательном соблюдении условия равенства толщин исследуемых пленок. [31]
Например, увеличение освещенности в 2 раза требует уменьшить в 2 раза выдержку, чтобы величина экспозиции осталась без изменения. [32]
Та - ким образом, эквивалентный квантовый выход данной фотоэмульсии однозначно определяется ее свето чувствительностью и величиной экспозиции фона. [33]
Шкальное устройство, укрепленное перед наблюдателем, показывает координаты положения предметного столика, размер апер-турной диафрагмы, величину заданной экспозиции и режим горения лампы. [34]
Физическая светосила СТЭ-1 в интервале длин волн 2900 - 3265 А сравнивалась со светосилой спектрографа ДФС-13 по величине экспозиций, необходимых для фотографирования слабых линий, так как только для них имеет смысл повышать светосилу. Естественно, что величина экспозиции зависит от качества изображения спектра. [35]
Если для копии берется материал с у1 на линейном участке характеристической кривой, то в ли зависимости от величины экспозиции место изгиба седловины может быть передано черной линией различной ширины на светлом фоне. При этом профиль линий соответствует форме седловины; h характеризует высоту профиля линий. Ширина эквиденситы b связана с величиной экспозиции на копии через Л, а с градиентом dD / дх - через форму эквиденситы. Проекция b на градиент дает интервал оптических плотностей эквиденситы, которая зависит только от интенсивности света при печати и поэтому для одинаковых условий копирования является постоянной. [36]
Для решения многих вопросов, например дифференциации заработной платы по условиям труда, необходимо учитывать продолжительность действия ( величину экспозиции) того или иного элемента условий труда. [37]
Если бы кривая спектральной чувствительности была точно известна для каждого типа эмульсии, то можно было бы не только точно оценивать величину экспозиции при фотографировании спектра, но и определять относительную интенсивность спектральных линий с различными длинами волн. По, к сожалению, эта кривая не только не строго постоянна для данного типа эмульсин. [38]
Если изучаемый материал представляет собой водный раствор, дозы, полученные материалом и дозиметром, могут сравниваться непосредственно, так как в этом случае они прямо пропорциональны величине экспозиции. Если изучаемый материал представляет собой неводную жидкость или твердое вещество, то необходимо учитывать относительную тормозную способность раствора дозиметра и исследуемого материала. [39]
С hi 1 [276]; r t / to - нормированное время экспонирования фоточувствительной среды АПФ; / о Eg / t; to Еоа / Ро, здесь с - средний контраст спекл-картины, Eq - уровень экспозиции материала фильтра, при котором его пропускание уменьшается в е раз, Е - величина экспозиции, t - время экспозиции. [40]
 |
Экспозиционная шкала.| Положение фоторезисторов, освещаемых от пентапризмы. [41] |
При фотографической съемке на фотослой действует определенное количество световой энергии, носящее название экспозиции. Величина экспозиции зависит от продолжительности выдержки и от величины отверстия диафрагмы. При этом одной и той же экспозиции могут соответствовать несколько различных сочетаний выдержек и диафрагм. Если требуется произвести съемку с большой глубиной резкости, то объектив сильно диафрагмируют, а выдержку при этом соответственно увеличивают. При съемке движущихся объектов, наоборот, выдержку делают короткой, а отверствие диафрагмы увеличивают. Эта шкала обеспечивает механическую связь рычагов установки диафрагмы и выдержки. [42]
При фотографической съемке на фотослой действует определенное количество световой энергии, носящее название экспозиции. Величина экспозиции зависит от продолжительности выдержки и от величины отверстия диафрагмы. При этом одной и той же экспозиции могут соответствовать несколько различных сочетаний выдержек и диафрагм. Если требуется произвести съемку с большой глубиной резкости, то объектив сильно диафрагмируют, а выдержку при этом соответственно увеличивают. При съемке движущихся объектов, наоборот, выдержку делают короткой, а отверстие диафрагмы увеличивают. Эта шкала обеспечивает механическую связь рычагов установки диафрагмы и выдержки. [43]
Правильность выбора экспозиции является важным фактором, определяющим качество негатива при фотографировании звездных спектров. Величина экспозиции существенным образом зависит от условий видимости. Для звезд заданной величины и цвета стандартное время экспозиции может быть разделено на 3, если видимость очень хороша, и умножено на 5 или на 10, если видимость весьма незначительна. [44]
Экспозиция должна подбираться по пробной полоске и должна превышать по длительности экспозицию, необходимую для превращения областей, экспонируемых за прозрачной пленкой, в абсолютно черные, если проявлять 3 мин в проявителе Лит. Величина экспозиции не особенно важна, но она должна примерно совпадать с интервалом 48 - 64 с на фиг. Поля, находящиеся под черными областями, получат очень мало света, они окажутся ниже предела, соответствующего экспозиции 16 с на фиг. [45]
Страницы: 1 2 3 4