Cтраница 2
Схема вулканизатора с нагревом инфракрасными лучами. [16] |
При этом способе размещение излучателей над поверхностью ткани позволяет получить равномерное тепловое поле с температурой в зоне вулканизации 180 - 210 С при использовании около 80 % лучевой энергии. В зависимости от типа ткани время вулканизации составляет 10 - 30 с. Скорость движения ткани - 7 5 - 30 м / мин. [17]
Развиваются два подхода к решению этой проблемы. Первый - это неэквидистатное размещение излучателей, при котором расстояние между соседними излучателями в разных местах решетки различное и изменяется по определенному закону. Помимо уменьшения числа излучателей, в таких решетках появляется возможность расширения пропускаемой полосы частот и уменьшения уровня боковых лепестков. Второй подход, наиболее удобный для антенны очень больших размеров, заключается в следующем. Задается ограниченное число излучателей и ищется такое их расположение, при котором с наибольшей вероятностью обеспечивается заданная диаграмма направленности. При этом удается значительно уменьшить число излучателей при достаточно большой вероятности сохранения хороших направленных свойств антенны. [18]
К родному из достоинств решетки относится возможность быстрого электрического сканирования в широком секторе углов путем соответствующей фазировки излучателей. Другим достоинством решетки является возможность размещения излучателей на поверхности заданной формы, что облегчает размещение антенны на объектах и возможности сканирования. Естественно, что сфазированным решеткам присущи и недостатки, из которых следует отметить сложность фидерной системы, подводящей высокочастотную энергию к излучателям; трудности расширения полосы пропускания; большое количество отдельных элементов; необходимость управляющей системы. [19]
Главный недостаток теневого способа ультразвуковой дефектоскопии состоит в необходимости размещения излучателя и приемника с разных сторон исследуемого изделия. [20]
Отметим, что неэквидистантное размещение излучателей целесообразно применять главным образом в приемных антеннах, когда боковые лепестки не должны превосходить определенного уровня, а главный лепесток желательно сузить ( не увеличивая число излучателей) для повышения разрешающей способности системы. Поскольку для передающих антенн наиболее важным параметром является коэффициент усиления ( а он пропорционален числу излучателей), применение неэквидистантного размещения излучателей не дает в этом случае существенного эффекта. [21]
Ультразвуковые приборы ЕКЕМ ( Е ( а, ЕКЕМ ( В ( в и. [22] |
Прибор ЕКЕМ ( Е) ( рис. 61, а, б) реализует принцип активной зву-колокации, то есть излучатель и приемник совмещены в одном корпусе. Прибор ЕКЕМ ( В) ( рис. 61, в, :) работает по принципу пассивной звуколокации с размещением излучателя и приемника на расстоянии друг от друга. [23]
На рис. 27, е приводится наклонное расположение излучателей в разных уровнях, при этом излучатели центрального ряда попеременно обращены в сторону теплопроводящих ограждений. Излучатели в продольных и поперечных рядах могут размещаться как с равным шагом ( расстояние между центрами излучающих поверхностей), так и с разным. Размещение излучателей в плане помещения может быть как порядовое, так и в шахматном порядке. Высота подвеса излучателей и шаг между ними определяются на основе теплотехнических расчетов с учетом конструктивных особенностей обогреваемых зданий. Схемы размещения излучателей, приведенные на рис. 27, выполняются обычно в помещениях, для которых необходимы системы лучистого отопления. В этих случаях вся площадь пола должна иметь равномерное облучение. Размещение излучателей без учета их единичной мощности и эпюр облучения приводит даже при обоснованной общей тепловой нагрузке системы к неравномерному облучению плоскости пола и перерасходу тепла. [24]
На рис. 27, е приводится наклонное расположение излучателей в разных уровнях, при этом излучатели центрального ряда попеременно обращены в сторону теплопроводящих ограждений. Излучатели в продольных и поперечных рядах могут размещаться как с равным шагом ( расстояние между центрами излучающих поверхностей), так и с разным. Размещение излучателей в плане помещения может быть как порядовое, так и в шахматном порядке. Высота подвеса излучателей и шаг между ними определяются на основе теплотехнических расчетов с учетом конструктивных особенностей обогреваемых зданий. Схемы размещения излучателей, приведенные на рис. 27, выполняются обычно в помещениях, для которых необходимы системы лучистого отопления. В этих случаях вся площадь пола должна иметь равномерное облучение. Размещение излучателей без учета их единичной мощности и эпюр облучения приводит даже при обоснованной общей тепловой нагрузке системы к неравномерному облучению плоскости пола и перерасходу тепла. [25]
Выделяют два основных класса лазерных установок и систем для анализа загрязнений атмосферы. К одному из них относятся приборы, представляющие собой сочетание лазеров и локаторов, называемых обычно лидарами. Они регистрируют обратное рассеивание атмосферой излучения лазера. При помощи сканирования лазерным лучом изучают пространственное распределение примесей в воздухе. Другой класс систем связан с размещением излучателя и приемника лазерных лучей на одном конце трассы или базы и отражателя на другом конце. [26]
На рис. 27, е приводится наклонное расположение излучателей в разных уровнях, при этом излучатели центрального ряда попеременно обращены в сторону теплопроводящих ограждений. Излучатели в продольных и поперечных рядах могут размещаться как с равным шагом ( расстояние между центрами излучающих поверхностей), так и с разным. Размещение излучателей в плане помещения может быть как порядовое, так и в шахматном порядке. Высота подвеса излучателей и шаг между ними определяются на основе теплотехнических расчетов с учетом конструктивных особенностей обогреваемых зданий. Схемы размещения излучателей, приведенные на рис. 27, выполняются обычно в помещениях, для которых необходимы системы лучистого отопления. В этих случаях вся площадь пола должна иметь равномерное облучение. Размещение излучателей без учета их единичной мощности и эпюр облучения приводит даже при обоснованной общей тепловой нагрузке системы к неравномерному облучению плоскости пола и перерасходу тепла. [27]