Разность - работа
Cтраница 3
 |
Зависимость сопротивления контакта металл-полупроводник при малом напряжении на контакте от работы выхода металла для селена. [31] |
Однако полученное нами соотношение между разностью работ выхода и свойствами контакта металл - полупроводник выполняется далеко не всегда. Чаще не удается получить зависимостей сопротивления контакта от работы выхода металла ( рис. 2.28), но зато замечена резкая зависимость выпрямления на контакте от состояния поверхности полупроводника. Это явление объясняется поверхностными состояниями. Действительно, из-за большой плотности поверхностных состояний при образовании контакта металл - полупроводник преимущественно изменяется заряд на них, а не в объеме полупроводника. Высота потенциального барьера в объеме полупроводника в этом случае практически неизменна. Независимость выпрямляющих свойств контактов от работы выхода металла характерна для германия и кремния. Для обеспечения выпрямляющих свойств необходимо создание инверсного слоя путем поверхностной обработки. [32]
 |
Распределение потенциала в диоде с накаливаемым катодом при различных давлениях газа в приборе. [33] |
Выпрямляющее действие газотрона основано на разностях работ выхода и температур обоих электродов. [34]
Картина перехода несколько меняется, если разность работ выхода металла и полупроводника велика. [35]
 |
Переход металл - полупроводник р-типа. [36] |
Откуда следует, что чем больше разность работ выхода полупроводника и металла, тем больше глубина проникновения поля контактной разности потенциалов в полупроводник и тем больше величина поверхностного заряда. [37]
Картина перехода несколько меняется, если разность работ выхода металла и полупроводника велика. [38]
Величина О2 - GI представляет собой разность работ смачивания адсорбента чистыми жидкостями 2 и 1 и, следовательно, не зависит от концентрации раствора. Работы смачивания могут быть определены из изотерм адсорбции паров соответствующих жидкостей. [39]
Внешняя контактная разность потенциалов, определяющаяся разностью работ выхода электронов из металлов, обеспечивает равенство плотностей токов термоэлектронной эмиссии. [40]
Величина подъема уровней должна бы определяться разностью работ выхода металла и полупроводника. Можно, как и раньше, ввести поверхностный потенциал cps и тогда величина ф8 равнялась бы примерно Wm-Ws. Однако экспериментально показано, что это не так и что величина cps почти не зависит от Wm. Таким образом, значение ф3 определяется в основном поверхностными состояниями и почти не зависит от природы металла. Следовательно, в изолирующем слое на поверхности должно существовать электрическое поле, обусловливающее смещение уровней Ферми в металле и полупроводнике до тех пор, пока они не совпадут. [41]
 |
Теоретический цикл паровой компрессионной машины ( с перегретым паром. [42] |
Работа, затрачиваемая на охлаждение, равняется разности работы iz - i1 привода в компрессоре и работы г 3 - i 4, получаемой в расширительном цилиндре. [43]
При контакте двух разнородных твердых тел вследствие разности работ выхода происходит переход носителей зарядов с одной поверхности на другую. Так возникают двойной электрический слой и контактная разность потенциалов. [44]
Вследствие того, что работа цикла равна разности работ компрессора и расширителя, а общие потери суммируются, то сравнительно малые потери этих элементов в отдельности дают значительное возрастание работы цикла, что сопровождается резким падением холодильного коэффициента действительного процесса. Чем больше отношение А1 / А1К, тем потери должны быть относительно меньшими. [45]
Страницы: 1 2 3 4 5