Cтраница 1
Контактная разность потенциалов возникает из-за различия в скорости диффузии положительно и отрицательно заряженных частиц из одной фазы в другую. [1]
Контактная разность потенциалов для различных пар колеблется от десятых долей вольта до нескольких вольт. Если температуры контактов одинаковы, то сумма разностей потенциалов в замкнутой цепи равна нулю. [2]
Константа Видемана - Франца некоторых металлов. [3] |
Контактная разность потенциалов для различных пар колеблется в пределах от десятых долей вольта до нескольких вольт. Если температуры спаев одинаковы, то сумма разностей потенциалов в замкнутой цепи равна нулю. [4]
Контактная разность потенциалов не создает электрического тока, так как потенциалы электронов, способных менять свое состояние ( электронов верхней занятой зоны, рядом с которой имеется свободные зоны), в точности равны. Как показано на рис. 2.33, еличина Я, , есть разность потенциалов между поверхностями обоих металлов в окружающем их пространстве, в котором при: том создается электрическое поле. Поле это может быть весьма наметным, поскольку величина Р г может достигать нескольких иольт. [5]
Контактная разность потенциалов возникает из-за различия в скорости диффузии положительно и отрицательно заряженных частиц через границу раздела из одной фазы в другую. [6]
Контакт двух металлов ( /, II. [7] |
Контактная разность потенциалов 1 / к определяется разностью энергий р, и Ф2, которые необходимо дополнительно сообщить находящимся на границе Ферми электронам для выхода их через поверхность металла в окружающую среду, например в вакуум. [8]
Контактная разность потенциалов на границе двух металлов возникает вследствие различной величины работ выхода А. [9]
Контактная разность потенциалов зависит лишь от химического состава и температуры соприкасающихся металлов. [10]
Контактная разность потенциалов зависит не только от свойств металлов, но и от температуры, увеличиваясь с повышением последней. [11]
Контактная разность потенциалов на границе металл - полупроводник обусловлена относительно малой концентрацией подвижных носителей тока в полупроводнике. Равновесная толщина двойного электрического слоя в области контакта оказывается значительной. Уровни Ферми в металле и полупроводнике выравниваются при образовании двойного слоя, простирающегося внутрь полупроводника на заметную глубину. Двойной электрический слой на границе металл - полупроводник по своим свойствам резко отличается от остального объема полупроводника. Важнейшее отличие состоит в том, что потенциальная энергия электронов в этом слое повышается по сравнению с энергией электронов в остальном объеме. Это приводит к тому, что энергетические уровни электронов в энергетических зонах полупроводника вблизи границы поднимаются. В полупроводнике / г-типа в стороне, прилегающей к металлу с большей работой выхода, образуется слой с недостаточной концентрацией носителей тока - электронов. Этот слой обладает повышенным удельным сопротивлением и называется запирающим слоем. [12]
Контактная разность потенциалов различна:: зависит от диэлектрических свойств соприкасающихся материалов, их физического состояния, величины давления поверхностей друг на друга, а также от влажности, температуры поверхности и окружающей спеды. Пои разделении поверхностей с возникшей контактной электризацией каждая из них сохраняет СРОЙ заряд, а контактная разность потенциалов по мере уменьшения емкости поверхностями может достичь десятков и сотен киловольт. Этим и объясняются высокие потенциалы, встречающиеся в производстве. Если вещества имеют одинаковую диэлектрическую проницаемость, то заряды не возникнут. В ряде технологических процессов потенциал относительно земли ( или ПРОВОДЯЩИХ металлических тел, связанных с землей) при статической электризации достигает десятков киловольт. [13]
Контактная разность потенциалов ( или просто контактный потенциал) Пк возникает на границе соприкосновения двух металлов. Двойной электрический слой создается за счет выхода электронов из одного металла и перехода их в другой. [14]
Контактная разность потенциалов зависит не только от свойств металлов, но и от температуры, увеличиваясь с повышением последней. [15]