Высокочастотный индукционный разряд

Cтраница 2

К настоящему времени как в Советском Союзе, так и за рубежом проявляется повышенный интерес к высокочастотному индукционному разряду в газах. Это связано с такими преимуществами индукционных плазменных установок по сравнению с электродными, как чистота плазмы, высокая стабильность параметров разряда, практически неограниченная длительность работы и возможность использования реакционно-способных газов в качестве плазмообразующих. [16]

Высокочастотный факельный электрод обеспечивает надежное постоянное инициирование высокочастотного разряда в UFe и альтернативный канал для ввода в зону разряда высокочастотной энергии, поддерживающей и усиливающей высокочастотный индукционный разряд. [17]

Результаты экспериментов по получению карбида бора конверсией хлорида бора в ( Аг-С - Н - плазме ( расход ВС1з - 20 г / мин. расход Нз - 30 6 л / мин. мольное отношение ВС1з / Н2 8. колебательная мощность. [18]

Высокочастотный индукционный разряд первоначально возбуждали в разрядной камере 6, помещенной в индуктор 7, в потоке аргона. Затем в разряд через трубу 2 вводили метан; после стабилизации разряда в разрядную зону вводили через трубу 3 взвесь S102 в Аг. [19]

Высокочастотный индукционный разряд первоначально возбуждали в разрядной камере, помещенной в индуктор 7, в потоке аргона. Затем в разряд через трубу 2 вводили метан; после стабилизации разряда в разрядную зону вводили через трубу 3 взвесь S1O2 в Аг. [20]

Горелка высокочастотного плазменного факела. [21]

Анализируемый образец вводят в виде аэрозоля с потоком газа. Температура высокочастотного индукционного разряда достигает 10000 К, а электронная концентрация пе - порядка 1015 - 1016 см-3, причем присутствие легкоионизирующихся элементов незначительно изменяет температуру и электронную концентрацию. [22]

Влияние удельной поверхности UF4 на скорость.| Влияние парциального давления фтора на скорость фторирования UF41 - 1. [23]

При исследовании высокочастотного индукционного разряда в UFe было обнаружено, что устойчивость потока электроразрядной ( и - Г) - плазмы увеличивается при увеличении частоты разряда. Частоту можно повысить радикально, если перейти в микроволновый частотный диапазон, в область частот 915 и 2450 МГц. Были проведены соответствующие эксперименты на частоте 2450 МГц. Схема экспериментальной установки показана на рис. 10.17. Микроволновый генератор 1 с частотой 2450 МГц использован для получения потока технологической ( П - Г) - плазмы при давлении до 1 атм. Связь микроволнового генератора с разрядом - волноводная. [24]

Влияние удельной поверхности UF4 на скорость.| Влияние парциального давления фтора на скорость фторирования UF4. [25]

При исследовании высокочастотного индукционного разряда в UFg было обнаружено, что устойчивость потока электроразрядной ( и - Г) - плазмы увеличивается при увеличении частоты разряда. Частоту можно повысить радикально, если перейти в микроволновый частотный диапазон, в область частот 915 и 2450 МГц. Были проведены соответствующие эксперименты на частоте 2450 МГц. Схема экспериментальной установки показана на рис. 10.17. Микроволновый генератор 1 с частотой 2450 МГц использован для получения потока технологической ( U-F) - плазмы при давлении до 1 атм. Связь микроволнового генератора с разрядом - волноводная. [26]

Методически процесс плазменно-водородного восстановления UFe осуществляли следующим образом. После проверки установки на герметичность, откачки установки до остаточного давления 0 01 - т - 0 001 атм, прогрева источника электропитания, контейнера с UFe и всех коммуникаций, обеспечения охлаждения всех охлаждаемых элементов установки в разрядную камеру плазмотрона вводили аргон, возбуждали высокочастотный индукционный разряд и вводили водород. [27]

Методически процесс плазменно-водородного восстановления UFg осуществляли следующим образом. После проверки установки на герметичность, откачки установки до остаточного давления 0 01 - т - 0 001 атм, прогрева источника электропитания, контейнера с UFg и всех коммуникаций, обеспечения охлаждения всех охлаждаемых элементов установки в разрядную камеру плазмотрона вводили аргон, возбуждали высокочастотный индукционный разряд и вводили водород. [28]

Схема установки для разложения UFe в радиочастотном безэлектродном разряде. [29]

Затем в разрядную камеру подавали аргон, подавали напряжение на индуктор и при Р l 3 - i - 2 кПа возбуждали высокочастотный индукционный разряд в Аг. [30]

Страницы: 1 2 3