Расположение - поля
Cтраница 1
 |
Расположение электрического и магнитного полей в масс-спектрографе Маттауха и Герцога, используемых для получения двойной фокусировки всех масс вдоль фотоплас. [1] |
Расположение полей, предложенное Рейтерсвердом, обеспечивающее двойную фокусировку для всех масс; фотопластинка находится вне магнитного поля. [2]
Расположение полей и допусков для однозаходной резьбы показано на рис. 9: для наружно. [3]
Схема расположения полей, а также величины допусков калибров приняты с большим приближением к допускам калибров для крепежных резьб малых размеров. Значительно увеличены лишь допустимые отклонения для половины угла профиля, исходя из больших погрешностей измерения этого элемента при таких малых шагах. Кроме того, регламентируется ограничение суммы действительных погрешностей шага, половины угла профиля и собственно среднего диаметра, необходимость в чем возникает в результате сопоставления величин допусков калибров с величинами допусков изделий. [4]
Схема расположения полей, а также величины допусков калибров приняты с большим приближением к допускам калибров для крепежных резьб малых размеров. Значительно увеличены лишь допустимые отклонения для половины угла профиля исходя из больших погрешностей измерения этого элемента при таких малых шагах. Кроме того, регламентируется ограничение суммы действительных погрешностей шага, половины угла профиля и собственно среднего диаметра, необходимость в чем возникает в результате сопоставления величин допусков калибров с величинами допусков изделий. [5]
Схема расположения полей, а также величины допусков калибров приняты с большим приближением к допускам калибров для крепежных резьб малых размеров. Значительно увеличены лишь допустимые отклонения для половины угла профиля, исходя из больших погрешностей измерения этого элемента при таких малых шагах. Кроме того, регламентируется ограничение суммы действительных погрешностей шага, половины угла профиля и собственно среднего диаметра, необходимость в чем возникает в результате сопоставления величин допусков калибров с величинами допусков изделий. [6]
Схема расположения полей допу-скон бокового зазора в передаче. [7]
Схема расположения первичных проекционных и ассоциативных полей в корковой зрительной системе обезьяны-резус. [8]
 |
Генератор постоянного 10000 а.| Взаимное расположении нолей при работе генератором. [9] |
При расположении полей согласно рис. 17 - 4 электромагнитный момент противодействует вращению. [10]
При расположении полей фильтрации выше по течению грунтового потока расстояние от полей фильтрации до сооружений для забора подземных вод должно приниматься с учетом гидрогеологических условий и требований санитарной охраны источника водоснабжения. [11]
При табличном расположении типовых полей или при нанесении: простой мнемосхемы емкость пульта может быть использована полностью. Общее число типовых ячеек, которые могут быть установлены-на пульте, не должно превышать значений, зафиксированных в приведенной ниже таблице. [12]
В расположении полей кристаллизации цеолитов на диаграммах составов находит отражение различная стабильность в щелочных средах ( Si, A1, 0) - каркасов с разным соотношением Si: А1 в них и проявляется общая для гетерогенных систем-зависимость состава кристаллизующихся фаз от состава системы. [13]
Принципиальная схема расположения полей ( по всему профилю) показана на фиг. [14]
Для определения расположения полей операндов в регистровой памяти вначале производится сравнение адресов А1 и А2 и длин L1 и L2 операндов. [15]
Страницы: 1 2 3 4