Расположение - щель
Cтраница 1
Расположение щели в области вершины уголка создает условия для пленочного течения жидкости по наклонной полке. Восходящий газовый поток контактирует со стекающей по полкам жидкостью в области щели и, имея вертикальную составляющую, вызывает турбулизацию газожидкостного слоя в области под уголком. Затем в вышерасположенной ячейке процесс повторяется. [1]
Расположение щелей на маске и диафрагме показано на фиг. [2]
Расположение щели близко к охранному кольцу способствует гашению токов в камере при сравнительно небольшом давлении. Гашение дуги при отключении малых токов происходит при выходе подвижного контакта из камеры. В этом случае часть дуги горит в закрытом пространстве гасительной камеры ( объем ограничен пластиной 3), благодаря чему создается дутье масла и газов из нижней части камеры в выхлопную щель. [3]
Расположение щелей поперек линий магнитного поля не препятствует развитию макроскопических токов в стенках экрана. Поэтому степень экранирования при таком расположении щели оказывается при переменном поле большей, чем при постоянном поле. [4]
 |
Iff Вес тарелок решетчатых со съемными секциями из стали 0X13 ( ЭИ496. [5] |
Расположение щелей и сами щели здесь приняты несколько иными, чем это приводилось выше. Для всех диаметров колонн по аналогии с решетчатыми тарелками по нормами Н964 - 63 предусмотрена одна и та же длина щели, равная 60 мм, а шаг между щелями равен длине t ( рис. IX. [6]
Теперь расположение щели вдоль линий магнитного поля весьма вредно, так как электрическое сопротивление стыка между обеими половинами экрана получается столь большим, что ток практически не переходит через место стыка и вынужден возвращаться около внутренних поверхностей стенок экрана. На рис. 38 изображены линии тока в обеих половинах экрана. Вследствие этого экранирующее действие макроскопических токов практически сводится к нулю. Результат получается одинаковым как при наличии изолирующих прокладок, так и при отсутствии их, так как сопротивление контакта в месте соприкосновения обеих половин экрана даже при зачищенных соприкасающихся поверхностях оказывается во много раз больше сопротивления возврата тока по слою металла около внутренних поверхностей стенок экрана. [7]
Схема расположения щелей должна соответствовать рабочим чертежам или нормалям. [8]
При расположении щели поперек линий поля появляется большое добавочное магнитное сопротивление на пути магнитного потока, что и приводит к уменьшению степени экранирования. Весьма показательны в этом отношении опыты с дополнительными изолирующими прокладками между половинами экрана. Эти прокладки при положении щели поперек линий поля резко снижают степень экранирования. [9]
При расположении щели вдоль линий поля она не оказывает сопротивления магнитному потоку и степень экранирования получается практически такой же, как и при полном отсутствии щели. Именно этот случай и следует сопоставлять с результатами расчета. Расчет предлагается выполнить по формуле, приведенной в конце предыдущего параграфа, для всех трех сферических экранов, с которыми производился опыт В формулу входит магнитная проницаемость [ А материала экрана. Поэтому чрезвычайно важно правильно определить значение [ А. Действительная картина явления много сложнее той, которая была принята при выводе формулы. Около полюсов магнитная индукция весьма мала по сравнению с индукцией вблизи экватора, где она имеет наибольшее значение. [10]
Наивыгоднейшим является случай расположения щели вдоль силовых линий. [11]
Выбор геометрических параметров и расположения электролитоподводящих щелей и отверстий на рабочих поверхностях инструментов осуществляется экспериментально с учетом обеспечения при течении электролита в области обработки отсутствия застойных зон вихревого движения электролита и сепарации потока. [12]
При относительно небольшой плотности расположения щелей С изменяется обратно пропорционально их числу и, следовательно, обратно пропорционально площади дренирования фильтра. [13]
Теперь легко понять причину расположения щелей, принятого на практике, так как при этом расположении большие оси щелей оказываются направленными вдоль направления растягивающих кольцевых напряжений, являющихся для обечайки наиболее значительными, основными. Влияние осевого растяжения, которое в центрифугах всегда невелико, существенного значения не имеет. Некоторое влияние имеет кривизна обечаек, но можно полагать, что при малых на практике ее значениях и оно невелико. [14]
Установить, при каком расположении щели между двумя половинами экрана относительно направления силовых линий экранирование наиболее эффективно. Баллистическая постоянная установки Cj, ф / а 1 8 - 10 - 6 Вб / дел. [15]
Страницы: 1 2 3 4