Cтраница 3
На рис. 21.4 показано примерное расположение интегральных кривых на плоскости ху. [31]
На рис. 86 показано примерное расположение смазочных канавок и уклонов на рабочей поверхности башмака крейцкопфа. При сборке машины проверяют совпадение смазочной канавки на башмаке крейцкопфа с отверстием в нижней параллели. Для атого на сухой нижней параллели цветным карандашом ( лучше красным) наносят две продольные риски, определяющие положение смазочного отверстия. На торце башмака крейцкопфа наносят две поперечные риски, определяющие положение центральной смазочной канавки. После сборки машины вал проворачивают и во время движения крейцкопфа по рискам определяют совпадение смазочного отверстия и канавки. [32]
Примерное расположение титановой губки ( реакционной массы к концу восстановления. / - реакционный стакан. 2 - кричная губка. 3 - гарнис-сажная губка. [33] |
На рис. 98 показано примерное расположение титановой губки в промышленном аппарате при работе без догрузки магния. [34]
На рис. 13.2 показано примерное расположение анодных заземлителей для локальной катодной защиты от коррозии на электростанции. На тех и других трубопроводах применено битумное покрытие. [35]
На рис. 11.15 представлено примерное расположение критических кривых бинарных смесей 1 - 2 и 1 - 3 и тройной смеси 1 - 2 - 3 при постоянном соотношении компонентов 2 -в. Критическая кривая тройной смеси соединяет критическую точку компонента 1 с критической точкой бинарной смеси, состоящей из компонентов 2 та 3 при том же соотношении С. Как уже было отмечено выше, для таких систем в отличие от бинарных смесей возможно существование двухфазной области выше критической кривой. [36]
Общий вид и схема примерного расположения оборудования в передвижной мастерской на прицепе даны на фиг. [37]
На рис. 66 показано также примерное расположение линий электрического поля; густота этих линий, а следовательно, и напряженность поля намного больше у провода, чем у пластины или стенки трубы. Вследствие указанной неоднородности поля ударная ионизация, а затем и электрический разряд могут возникнуть у поверхности провода, когда напряженность поля в этой области достаточно высока, но не распространяется до другого электрода. По мере удаления от провода напряженность поля уменьшается, и скорость движения электронов в газе становится уже недостаточной для поддержания лавинообразного процесса образования новых ионов. [38]
На рис. 12 - 7 показано примерное расположение заземлителей и сети магистралей заземляющих устройств в составе сооружений крупной приплотинной ГЭС. [39]
На рис. 9 - 42 представлено примерное расположение датчиков в паротурбинной установке. [40]
Зависимость напряже-1 / 2 1 ния радиопомех.| Схема расположения приборов и оборудования при измерении. [41] |
На рис. 3.11 и 3.12 показано примерное расположение испытуемого микродвигателя и измерительных приборов на испытатель-ком стенде. [42]
Характеристика лафетных стволов.| Схема расположения лафетных стволов для пожарной защиты ректификационных колонн открытой технологической установки. [43] |
На рис. 1 - 15 показано примерное расположение лафетных стволов для пожарной защиты ректификационных колонн открытой технологической установки. Лафетные стволы в данном случае подключены к системе пожарного водопровода и магистральному трубопроводу готового раствора пенообразователя. [44]
Зависимость напряже - U z t ния радиопомех.| Схема расположения приборов и оборудования при измерении напряжения радиопомех от малогабаритных электроустройств. [45] |