Распределение - концентрация - реагент
Cтраница 1
 |
График изменения концентрации реагента по длине аппарата. [1] |
Распределение концентрации реагента по длине аппарата показано на рис. 14.3, аналогичном рисунку 12.5. Здесь сопоставлено изменение СА по длине для аппаратов идеального вытеснения, идеального смешения и аппарата, состоящего из трех ячеек смешения, при одинаковых САО и САК. [2]
Предельный характер распределения концентраций реагентов и продуктов реакции в проточных системах достигается, как известно, в аппаратах идеального вытеснения и полного перемешивания. [3]
Уравнение (2.9) описывает распределение концентраций реагента в среде / г, а уравнение ( 2.10 подставляет собой материя льный баланс исходного вещества и твердых продуктов реакции. [4]
Для обеих схем подачи распределение концентраций реагента и продукта описывается соответственно монотонно убывающими и монотонно возрастающими функциями по направлению к противоположной вводу стороне электрода. [5]
Уравнение ( VIII-264) описывает распределение концентраций реагента А в зерне катализатора. [6]
При постоянной температуре теплоносителя Тс распределение концентраций реагентов и температуры по длине реактора определяется решением системы уравнений ( VI II. [7]
Уравнение ( VIII-264) описывает распределение концентраций реагента А в зерне катализатора. [8]
Однако при больших скоростях газового потока распределение концентрации реагентов по его сечению становится более однородным, что обеспечивает большую однородность толщины эпитаксиального слоя по площади подложки. Но, как было сказано раньше, это влечет за собой ухудшение структурного совершенства эпитаксиального слоя. [9]
 |
Приповерхностная концентрация в случае тафелевской кинетики. [10] |
На рис. 132 - 1 показано распределение концентрации реагента на поверхности электрода. Из-за омического падения потенциала плотность тока у краев диска повышена, что приводит к понижению концентрации. При увеличении скорости вращения распределение концентрации становится более неоднородным. Вначале диффузионные ограничения начинают проявляться вблизи краев диска. [11]
На рис. 5.4, а изображено распределение концентраций реагента в зависимости от расстояния до твердого слоя. Концентрация реагента в объеме равна CR. [12]
 |
Приповерхностная концентрация в случае тафелевской кинетики. [13] |
На рис. 132 - 1 показано распределение концентрации реагента на поверхности электрода. Из-за омического падения потенциала плотность тока у краев диска повышена, что приводит к понижению концентрации. При увеличении скорости вращения распределение концентрации становится более неоднородным. [14]
Используя соотношения ( 2 - 20 - 2 - 22), запишем выражения, определяющие распределение концентрации реагентов и температуры в поперечных сечениях полуограниченного факела. [15]
Страницы: 1 2