Cтраница 1
Распределение линий тока: а - без экрана; б - с экраном. [1]
Распределение линий тока у поверхности проводника. [2] |
Распределение линий тока вблизи границы проводник - диэлектрик показано на рис. 3 - 23; линии тока смещения в непроводящей среде являются продолжением линий тока проводимости в проводящей среде. [3]
Рассмотрим картину распределения линий тока в руднотермической печи. [4]
Рассмотрим характер распределения линий тока в простей-шей упорядоченной структуре с шаровыми вкраплениями ( плоское изображение которой приведено на рис. 1 - 8), когда теплопроводность или электропроводность вкраплений fa меньше, чем соответствующие свойства связующей компоненты Ki. [5]
Характер линий тока.| Различные изображения элементарной ячейки модели с взаимопроникающими компонентами. а - восьмая часть ячейки. б, в - возможные представления целой ячейки. [6] |
Аналогичное изучение характера распределения линий тока тепла в структуре с взаимопроникающими компонентами позволяет выделить элементарную ячейку с адиабатными боковыми плоскостями и изотермическими основаниями. [7]
При площадном заводнении из-за распределения линий тока прорыв воды и ее отбор происходят до того, как элемент заводнения будет полностью охвачен вытеснением. В работе [34] приведены кривые коэффициента охвата до и после прорыва для некоторых стандартных схем площадного заводнения. [8]
Зонд экранированного заземления. Схема линий тока и эквипотенциальных поверхностей в однородной среде. [9] |
На рис. IV.35 показано распределение линий тока и эквипотенциальных поверхностей семиэлектродного зонда в однородной среде. Слой токовых линий, эмиссируемых электродом АО, на рисунке заштрихован. Слой ограничен двумя поверхностями, которые в пределах большого объема очень близки к плоскостям, проходящим через точки 0 и Оч. Потенциал любого из электродов Mi, Мг, М2, М2 представляет падение напряжения тока центрального электрода на пространстве от оси скважины до границы, расположенной на большом удалении от скважины; поэтому значение этого потенциала пропорционально удельному сопротивлению среды. Объем породы, который подвергается исследованию, практически совпадает с объемом слоя, в пределах которого распространяется ток центрального электрода. [10]
Сопоставление диаграмм, полученных микромстодами экранированного заземления, микрозондов, экранированного заземления и гамма-метода ( Канзас, отложения Сити. [11] |
На рисунке схематически изображено распределение линий тока. В реальных условиях диаметр пучка у стенки скважины не превышает 5 см и возрастает по мере удаления от стенки скважины в глубь породы. Точная форма токового пучка определяется лабораторным моделированием. [12]
На рис. 87 показано распределение линий тока в весьма тонкой металлической пластине. Точка, из которой выходят эти линии, и точка, где они сходятся, соответствуют местам, в которых токонесущие провода прикасаются к пластине. Эта картина аналогична виду силовых линий поля, образованного разноименными зарядами. [13]
При этом предполагается, что распределение линий тока капилляром существенно не нарушается. [14]
Схема расположения токонепроводяще-го экрана для регулирования распределения тока ка поверхности покрываемой детали ( В. Пфангузер.| Схема расположения анода и покрываемой. [15] |