Распределение - напряженность - поле
Cтраница 4
На рис. 7.3 приведена схема ЛПД типа p - n - i - n и распределение напряженности поля по структуре. [46]
Описанный нестационарный процесс доменной неустойчивости отражен на рис. 4.4 о, б в виде диаграммы распределения напряженности поля вдоль образца в различные моменты времени. Ток во внешней цепи диода повторяет изменение дрейфовой скорости электронов УДР, поскольку его плотность / гидр. [47]
 |
Схемы волиоводной ( а, коаксиальной ( б измерительных линий и силовые линии электрического поля в коаксиальной и щелевой измерительных линиях ( в. [48] |
Положение зонда на шкале расстояний и значение тока микроамперметра в данной точке позволяют построить график распределения напряженности поля вдоль основной линии. Для повышения чувствительности напряжение генератора СВЧ модулируют низкочастотным меандром, а в качестве индикатора применяют усилитель низкой частоты и цифровой вольтметр. [49]
 |
Зависимости модулей модифицированных цилиндрических функций комплексного аргумента т V / от т. [50] |
Учитывая характер функций /, можно утверждать, что модифицированные функции Бесселя / ( тУ /) описывают распределение напряженности поля при падении цилиндрической волны на поверхность сплошного цилиндра. [51]
У зубцов трапецеидального поперечного сечения ( прямоугольные открытые или полуоткрытые пазы, верхняя часть бутылочных пазов ротора) кривая распределения напряженности поля Н по высоте зубца близка к параболе. [52]
Значения диэлектрических постоянных изоляционных материалов весьма стабильны, вследствие чего в изоляционных конструкциях, находящихся под воздействием переменного напряжения, распределение напряженности поля также стабильно. Значения удельных проводимо-стей изоляционных материалов подвержены колебаниям в широких пределах. Небольшие примеси, химические изменения, увлажнение изменяют у диэлектриков на несколько порядков. Поэтому распределение напряженности поля в изоляционных конструкциях постоянного тока также может изменяться с течением времени, что является неблагоприятным фактором. Для стабилизации поля целесообразно использование изоляционных материалов с полупроводящими свойствами, ассортимент которых пока еще очень ограничен. [53]
 |
Дугогасительная камера вакуумного выключателя.| Зависимости разрядных напряжений в однородном поле от расстояния между контактами для различных изоляционных сред. [54] |
Система экранов обеспечивает: защиту внутренней поверхности изоляционного корпуса от попадания продуктов эрозии контактов под воздействием дуги отключения, выравнивание распределения напряженности поля внутри дугогасительной камеры. [55]
Повернув диодную камеру 2 с зондом 1 вокруг ее оси на 360, получим изменяющиеся значения выпрямленного тока диода, соответствующие распределению напряженности поля в прямоугольном волноводе на длине Кв. Максимальное значение тока ( оц акс) соответствует большой оси эллипса, минимальное ( амин) - малой оси. Следовательно, КСВ равен отношению осей ( & с амакс / амин), а положением малой оси, однозначно связанным с положением минимума поля в прямоугольном волноводе, определяется фазовый угол коэффициента отражения. Начальное значение фазы на шкале 4 устанавливается перед каждым измерением в соответствии с рабочей частотой. Для уверенного отсчета амин используют измерительные усилители. [56]
 |
Распределение плотности объемного заряда и напряженности электрического поля по внешней зоне переходной униполярной короны ( для первого иолуиррпода после включения напряжения. [57] |
В моменты времени 7, 5, 9 эта тенденция проявляется уже более заметно, что обусловлено все большей неравномерностью в распределении напряженности поля в части внешней зоны, заполненной объемным зарядом. [58]
У электродов А и В, через которые пропускают ток, происходит наибольшее падение напряжения, тогда как в области между электродами С и D распределение напряженности поля сравнительно равномерно. [59]
Подобно аксиальному электрическому полю аксиальное магнитное поле обладает следующим ценным свойством: значения магнитного вектор-потенциала, а также составляющих напряженности поля по осям Hr ( r z) и H2 ( r z) в любой точке поля могут быть вычислены, если известно распределение напряженности поля на оси H0 ( z) [3.10, 3.11] - Это свойство позволяет значительно упростить расчет параметров магнитных линз. [60]
Страницы: 1 2 3 4 5