Неравномерное распределение - освещенность
Cтраница 1
Неравномерное распределение освещенности неблагоприятно влияет на зрение, неоправданно увеличивается расход электроэнергии на освещение ( см. гл. [1]
При неравномерном распределении освещенности на рабочих поверхностях расчет освещенности методом коэффициента использования не дает достаточно точных результатов. В таких случаях применяют точечный метод, который годен для расчета освещения как закрытых помещений, так и открытых пространств. Он позволяет определить световой поток ламп, необходимый для создания заданной освещенности в данной точке на любой поверхности и при любом расположении светильников. Метод требует значительных по объему расчетов. Для их ускорения разработаны вспомогательные таблицы. [2]
 |
Зависимость равномерности освещения от относительного расстояния между светильниками. [3] |
При неравномерном распределении освещенности на участки освещаемой поверхности, на которых фактическая освещенность превышает заданную, попадает излишний световой поток, что требует увеличения светового потока источников света. [4]
 |
Освещенность го - Рассчитанная горизонтальная освещен. [5] |
При неравномерном распределении освещенности на рабочих поверхностях расчет освещенности методом коэффициента использования не дает достаточно точных результатов. [6]
Освещение помещения окнами создает очень неравномерное распределение освещенности по глубине помещения ( фиг. [7]
Общее локализованное освещение предназначено для освещения помещений при необходимости получения неравномерного распределения освещенности. Это достигается применением не одинаковых по мощности светильников, неравномерно распределенных и подвешенных на разных высотах. [8]
Именно из-за этого в формуле ( 5 - 3) нет прямой пропорциональности между F и N, и нельзя, как это делали когда-то, находить из формулы сразу произведение F-N и произвольно подбирать ближайшее соответствующее сочетание числа и мощности ламп. Здесь оно вызвано неравномерным распределением освещенности между средними и угловыми полями. [9]
Позднее на том же приборе были применены рассчитанные на ЭВМ растры, состоящие из регулярной последовательности одинаковых прямоугольников. ЭВМ определяла, какие прямоугольники следует затемнить на основании требований наименьшей величины вторичных максимумов в аппаратной функции, наибольшей глубины модуляции, нечувствительности к неравномерному распределению освещенности на выходе. Достигнута разрешающая сила 2 - Ю5 в области 2 5 мкм. [10]
 |
Разность хода ( ABC, А В С двух частей световой волны, отражающейся от передней и задней поверхностей тонкой пленки, зависит от толщины пленки в. месте отражения. [11] |
Это значит, что интерференционная картина локализована ( находится) вблизи поверхности пленки. В некоторых случаях это можно обнаружить, перемещая вдоль поверхности пленки миниатюрный приемник света ( фотоэлемент или термоэлемент), соединенный с гальванометром. Чередующиеся при перемещении фотоприемника максимальные и минимальные показания гальванометра подтверждают неравномерное распределение освещенности в интерференционном световом поле около пленки. Картина интерференционных полос в подобных опытах показывает, каким образом распределены области одинаковой толщины в пленке, и позволяет в известной мере судить о виде пленки. Такую пленку можно изготовить, окунув проволочное кольцо в мыльный раствор и расположив кольцо вертикально. [12]
 |
Разность хода ( ЛВС, А В С двух частей световой волны, отражающейся от передней и задней поверхностей тонкой пленки, зависит от толщины пленки в. месте отражения. [13] |
Это значит, что интерференционная картина локализована ( находится) вблизи поверхности пленки. В некоторых случаях это можно обнаружить, перемещая вдоль поверхности пленки миниатюрный приемник света ( фотоэлемент или термоэлемент), соединенный с гальванометром. Чередующиеся при перемещении фотоприемника максимальные и минимальные показания гальванометра подтверждают неравномерное распределение освещенности в интерференционном световом поле около пленки. Картина интерференционных полос в подобных опытах показывает, каким образом распределены области одинаковой толщины в пленке, и позволяет в известной мере судить о виде пленки. Так, рис. 266 показывает, что пленка имеет вид вертикального клина. Такую пленку можно изготовить, окунув проволочное кольцо в мыльный раствор и расположив кольцо вертикально. [14]
Некоторое отличие хода экспериментальной кривой от теоретической обусловлено двумя обстоятельствами. Первое состоит в том, что в силу наклонного падения восстанавливающего пучка на голограмму ее освещенный участок имеет форму эллипса ( а не круга), растянутого в направлении, перпендикулярном направлению интерференционных полос. Второе обстоятельство связано с гауссовым характером распределения энергии ( интенсивности) по сечению восстанавливающего пучка, обусловливающим неравномерное распределение освещенности в восстановленном поле. [15]
Страницы: 1