Общее рассеивание

Cтраница 1

Общее рассеивание в пределах нескольких партий, обработанных при различных настройках, даже на различных станках, Ар общ. В этом случае рассеивание обусловливается влиянием погрешностей всех видов, в том числе и тех, которые являются постоянными в пределах каждой настройки. [1]

Под влиянием доминирующего, систематически действующего фактора середина поля рассеивания смещается на величину со, а диапазон общего рассеивания размеров всей партии деталей увеличивается и равен K0g R - f - со. Пределы практического рассеивания равны / ( а - - Замг), где амг - среднее квадрэтическое отклонение случайной величины при мгновенном рассеивании. [2]

Для малых конфигураций системы, отраженных в табл. 4.1, рассеивание тепла, приходящееся на периферийные устройства, составляет от 0 3 до 0 6 общего рассеивания с широким диапазоном изменений для разных типов устройств. [3]

Последние следуют закону Гаусса, так как погрешность от износа инструмента за время, необходимое для изготовления небольшой партии деталей, отбираемых для определения мгновенного рассеивания, незначительна и не искажает Гауссова рассеивания. Но кривая общего рассеивания размеров всей партии деталей, изготовленных при одной наладке и установке инструмента до его затупления или разладке станка, будет плосковершинной ( показана справа на фиг. [4]

По его значению определяют стабильность первоначальной настройки процесса. Показатель R характеризует общее рассеивание признака качества ( размера, твердости и др.), которое может указать на появление общей разладки процесса. [5]

Схемы контроля при плоском шлифо - Как следует ИЗ рисун-вании. ка, в начале работы. [6]

Необходимо отметить, что при построении графика учитывались только усредненные погрешности. С учетом же собственно случайных погрешностей общее рассеивание размеров может доходить до 40 - 50 мкм. [7]

Сггаой из главных целей, которую преследуют, оснащая технологическое оборудование УАК, является увеличение точности обработка, определение которой при введении автоматического контроля или замене старого устройства б олее совершенным, новым, встречает ряд затруднений. Действительно, в качестве меры точности обработки принимают одну из характеристик рассеивания деталей, напр шер диапазон общего рассеивания размеров всей партии деталек. [8]

Поэтому наладчику приходится определять качество наладки по небольшому числу пробных деталей, не имея уверенности в том, что их размеры правильно отражают характер распределения размеров во всей партии деталей. Неизбежные при этом ошибки наладчика при каждой наладке вызывают рассеивание центров группирования отдельных партий деталей, увеличивая этим общее рассеивание размеров А и снижая точность обработки всей совокупности партий. [9]

В общем случае, когда дисперсия воспроизводимости о неизвестна, схема ДА должна позволить найти ее оценку наряду с оценками дисперсий изучаемых факторов. С этой целью планируется проведение серий параллельных опытов при каждом из всех возможных сочетаний уровней изучаемых факторов. Таким образом, основная идея ДА заключается в разложении оценки общего рассеивания отклика ни составляющие, зависящие: 1) от случайных причин; 2) от каждого из рассматриваемых факторов и 3) от их взаимодействий в отдельности, а также в оценивании статистической значимости дисперсий последних с учетом ошибки воспроизводимости опыта. [10]

Процессоры с одинаковыми характеристиками и быстродействием могут быть построены на различных технологиях, например ЭСЛ или ТТЛ или с использованием той и другой технологии. Однако рассеивание тепла одной ЭСЛ ИМС примерно в 4 раза превышает рассеивание ТТЛ ИМС. В табл. 4.2 показаны соотношения между характеристиками: технология - рассеивание - быстродействие для различных процессоров, построенных на технологии ЭСЛ, ТТЛ или с применением обеих этих технологий. Можно утверждать, что лишь одна пятая всей рассеиваемой мощности приходится на долю ИМС. Степень интеграции может оказывать большое влияние на общую рассеиваемую мощность, когда рассеиваемая мощность не обязательно растет пропорционально увеличению сложности ИМС. Процессор 2 ( см. табл. 4.2), использующий БИС, подтверждает это; несмотря на то что рассеивание одной ИМС значительно превышает остальные случаи, общее рассеивание тепла сравнительно меньше. [11]

Страницы: 1